專利名稱：拋光磚防污劑的制膜設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明系屬陶瓷機(jī)械領(lǐng)域，涉及一種瓷質(zhì)拋光磚防污劑的制膜方法及設(shè)備，特別涉及一種納米材料涂覆制膜拋光及增亮的方法和設(shè)備。
背景技術(shù)：
瓷質(zhì)拋光磚是一種常用的建筑裝飾材料，以其堅(jiān)固、美觀和廉價(jià)等優(yōu)點(diǎn)在廠房、公共設(shè)施和家居裝修等各領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，是使用最為廣泛的建筑材料之一。但瓷質(zhì)拋光磚在長(zhǎng)期使用過(guò)程中也暴露出易受污染的缺點(diǎn)，在使用過(guò)程中由于雨水、含有色溶劑的溶液等污染物的侵染，使瓷質(zhì)拋光磚表面形成清除不掉的、永久性的污斑，并且隨著時(shí)間推移，磚體表面會(huì)出現(xiàn)拋光層磨損、光亮度下降甚至造成磚體損壞的問(wèn)題，影響美觀與使用。
上述問(wèn)題的主要原因是由于在磚體燒制過(guò)程中殘留的氣孔和微小裂紋吸附污染物所致。瓷質(zhì)拋光磚經(jīng)燒成后，坯體中的真氣孔率、顯氣孔率和封閉氣孔率隨著最高燒成溫度的變化而會(huì)有所變化，燒成后只是顯氣孔率下降，直到接近0，而封閉氣孔率則總在約8％以上，提高燒成溫度只能降低顯氣孔率，而封閉氣孔率甚至在顯氣孔率消失后還會(huì)繼續(xù)上升。這些封閉氣孔經(jīng)拋光后，就會(huì)暴露在磚的表面上，當(dāng)污染物接觸到拋光磚的表面時(shí)，一部分污染物就會(huì)滲入到暴露的封閉氣孔中，形成污點(diǎn)。在低溫快速燒成瓷質(zhì)拋光磚的坯體中，由于其主要成分石英和玻璃相的膨脹系數(shù)相差很大，如果石英顆粒過(guò)大，則冷卻時(shí)玻璃相會(huì)受到大的張應(yīng)力而產(chǎn)生裂紋，磚坯中存在許多的微裂紋。在拋光過(guò)程中，磚坯經(jīng)過(guò)粗磨、細(xì)磨和拋光三個(gè)受力工序后，在磨具強(qiáng)大外力的作用下，使磚坯內(nèi)的微裂紋都有不同程度的擴(kuò)展(如果原來(lái)的微裂紋較大，就會(huì)發(fā)生磚坯斷裂、破損的現(xiàn)象)。因此，拋光面是一個(gè)布滿許多細(xì)小裂紋的被磨損的表面，當(dāng)污染物落到拋光磚的拋光面后，一部分污染物就會(huì)滲透到許許多多的小裂紋內(nèi)，造成拋光磚防污能力差。
常見的污染物質(zhì)的主要成分由可溶于水的可溶性有色的無(wú)機(jī)物或有機(jī)物組成。由于日常生活中污染成分的復(fù)雜性，因此防污染物質(zhì)要有多面性，首先要是非親水性的物質(zhì)，其次是耐酸、耐堿性的物質(zhì)，對(duì)普通有機(jī)溶劑(如已二醇，甘油，汽油，煤油)不易溶，此外還應(yīng)具有滲透性或者易吸附于磚坯的表面?，F(xiàn)有防污劑的抗污原理是利用固體表面改性技術(shù)來(lái)達(dá)到防污的目的。表面改性是利用固體表面吸附特性通過(guò)各種表面處理改變固體表面的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)，以適應(yīng)各種預(yù)期的要求。防污物質(zhì)也是表面活性物質(zhì)，經(jīng)過(guò)表面改性的磚坯，防污劑依靠毛細(xì)作用滲入產(chǎn)品表面氣孔和微裂紋，在空氣中水分和氧氣的作用下，會(huì)在適宜的時(shí)間內(nèi)與磚坯發(fā)生物理化學(xué)結(jié)合，形成與產(chǎn)品相容性好的耐久性防污保護(hù)層，這樣磚坯就具有防污作用。
目前國(guó)內(nèi)、外市場(chǎng)上拋光磚防污劑主要是硅膠類和石蠟乳液類。這類防污劑的涂覆鍍膜設(shè)備現(xiàn)在在國(guó)內(nèi)、外都采用這樣一種工藝加防污材料→刷涂→拋勻的工藝方法。采用現(xiàn)有防污劑和防污刷涂設(shè)備，加工出來(lái)的陶瓷拋光磚表面防污膜的防污能力不強(qiáng)，防污膜的耐久性差，這是陶瓷生產(chǎn)商普遍存在、急需解決的難題。現(xiàn)有防污劑都不具有增亮的功能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種納米類防污功能材料的瓷質(zhì)拋光磚表面制膜方法及相關(guān)設(shè)備?？梢允辜{米類超微防污材料更好的滲入產(chǎn)品表面氣孔和微裂紋，在瓷質(zhì)拋光磚表面形成一層耐久性納米超微防污保護(hù)膜，能夠制造出具有較好防污耐久性并有較高表面光亮度的瓷質(zhì)拋光磚。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的制膜方法包含下列步驟a)清潔磚面；c)在磚表面施加防污材料。d)用一種拋刷磨具對(duì)防污材料進(jìn)行拋光刷涂，同時(shí)掃刷清除多余防污材料，在該過(guò)程中保持磚體溫度在一定區(qū)間內(nèi)。e)重復(fù)c、d步驟多次。f)通過(guò)拋刷磨具加水拋光1次或多次。g)清潔和干燥處理。
此外，本發(fā)明的制膜方法在上述步驟基礎(chǔ)上，在步驟a)和c)之間還設(shè)有對(duì)磚面進(jìn)行加溫干燥的步驟。對(duì)于但不限于納米類防污性材料，應(yīng)將磚體保持在一個(gè)設(shè)定的溫度區(qū)間內(nèi)。
為了實(shí)施上述方法，相應(yīng)的防污劑制膜設(shè)備主要由機(jī)架輸送皮帶總成、磨具梁總成、磨具梁左右支座總成、加料拋刷及控制系統(tǒng)若干、加水拋光磨具若干和磨具升降總成構(gòu)成。其中加料拋刷及控制系統(tǒng)由拋刷磨具、電氣控制總成、溫度監(jiān)測(cè)元件、自動(dòng)加料裝置、加水控溫機(jī)構(gòu)組成。設(shè)備入口處設(shè)有清潔和加溫干燥工序，加料拋刷及控制系統(tǒng)沿機(jī)架輸送皮帶總成排列若干排，之后設(shè)置加水拋光磨具若干，再銜接一個(gè)干燥處理工序。
工作時(shí)，經(jīng)過(guò)表面清潔和干燥加溫的磚坯由機(jī)架輸送皮帶總成輸送進(jìn)磚，當(dāng)磚坯進(jìn)入到加料拋刷及控制系統(tǒng)前方時(shí)，自動(dòng)加料裝置開始向磚面加料，在磚面上形成一層均勻的防污涂層，磚坯隨傳送帶繼續(xù)前行到達(dá)拋刷磨具，拋刷磨具以一定壓力和轉(zhuǎn)速對(duì)已涂覆防污材料的拋光磚面進(jìn)行拋刷、擠壓，在磚面形成一層適宜的透明保護(hù)膜。每個(gè)拋刷磨具設(shè)有一套溫度監(jiān)控元件，檢測(cè)工作溫度并通過(guò)溫度傳感器控制加水控溫機(jī)構(gòu)來(lái)維持拋刷磨具工作溫度保持在一定范圍內(nèi)；磚坯經(jīng)過(guò)設(shè)定的若干組加料拋刷及控制系統(tǒng)，該加藥和拋刷工序也反復(fù)進(jìn)行若干次，在磚體表面形成一層所需厚度的防污劑防護(hù)膜；再通過(guò)若干個(gè)加水拋光磨具，對(duì)磚坯表面防護(hù)膜進(jìn)行若干次加水拋光等勻化處理。然后進(jìn)行一道干燥工序烘干拋光磚，加工成為成品防污拋光磚。
通過(guò)使用納米防污材料進(jìn)行本發(fā)明的拋光磚防污制膜方法及設(shè)備的實(shí)施和應(yīng)用，可以讓納米防污材料更好地滲入產(chǎn)品表面氣孔和微裂紋，在適宜的時(shí)間內(nèi)與磚坯發(fā)生物理化學(xué)結(jié)合，并很好的密封磚坯表面的微孔，起到超強(qiáng)防污作用的同時(shí)還可以增加拋光磚產(chǎn)品表面的亮度。


圖1是本發(fā)明拋光磚表面防污劑涂覆方法的工藝流程原理圖；圖2是本發(fā)明拋刷涂覆設(shè)備的主視圖；圖中1機(jī)架輸送皮帶總成2磨具梁左右支座總成3磨具梁總成 4拋刷磨具5電氣控制總成6溫度監(jiān)測(cè)元件7自動(dòng)加料裝置8加水控溫機(jī)構(gòu)9磨具升降總成10加水拋光磨具具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和優(yōu)選實(shí)施例對(duì)該發(fā)明作具體說(shuō)明見圖1拋光磚表面納米類防污劑涂覆拋刷方法的工藝原理圖，本發(fā)明中瓷質(zhì)拋光磚的制膜方法包含下列步驟a)清潔磚面。對(duì)待加工磚體表面沖水清洗；b)在磚表面施加納米類防污性材料。使防污材料盡可能均勻的在拋光磚表面附著一層。c)用一種拋刷磨具對(duì)防污材料在一定壓力下進(jìn)行拋光刷涂，同時(shí)掃刷清除多余防污材料；d)在拋光刷涂過(guò)程中采用溫度探測(cè)和加水控制裝置保持磚體溫度在一定區(qū)間內(nèi)；e)重復(fù)b、c、d步驟多次，使整個(gè)拋光磚磚面能鍍上一層厚度均勻、附著牢固的防污材料保護(hù)膜。f)通過(guò)拋刷磨具加水拋光1次或多次，提高鍍膜表面亮度和均勻性。g)對(duì)鍍膜拋光后的磚面和四條邊進(jìn)行清潔和干燥處理。
在該工藝流程中的步驟a和b之間，可以增加一個(gè)步驟在對(duì)磚體進(jìn)行加溫干燥的同時(shí)使磚體溫度保持在一定區(qū)間內(nèi)。
在該工藝流程中，如和拋光線連線加工，則磚面沖水清潔和磚面干燥工序可以省略，直接在陶瓷拋光磚拋光線上由風(fēng)干清掃裝置完成，也可以單獨(dú)在涂覆鍍膜前配置普通拋光線的風(fēng)干線。
在以上的工藝流程中，步驟b)中施加防污材料方式除可采用輥筒加藥外，也可以采用多個(gè)小孔滴注、氣槍噴淋和刷涂等任何能實(shí)現(xiàn)均勻施加的方式。
此外，在對(duì)磚面施加防污材料的同時(shí)，應(yīng)對(duì)防污材料進(jìn)行加溫保持在一定溫度區(qū)間內(nèi)，溫度在35-60攝氏度之間效果較好。
磚面施加防污材料b)和拋刷防污材料c)這一工序可以根據(jù)需要重復(fù)兩次到十?dāng)?shù)次直至數(shù)十次，這主要是依據(jù)拋光磚的本身品質(zhì)、所要達(dá)到的產(chǎn)品最終品質(zhì)及處理磚坯的速度所決定。
在步驟d)中的溫度探測(cè)可以采用但不限于紅外溫度探測(cè)儀等，加水控制方法可根據(jù)探測(cè)得到的溫度決定是否加水以控制磨具溫度在適當(dāng)?shù)囊欢▍^(qū)間內(nèi)，當(dāng)溫度超出設(shè)定的區(qū)間范圍時(shí)，加水冷卻磨具使其溫度保持在設(shè)定區(qū)間內(nèi)。該控制可以通過(guò)任何現(xiàn)有的控制方式實(shí)現(xiàn)，甚至可以采用人工加水方式保持磚體溫度。同時(shí)調(diào)節(jié)磨具升降總成控制拋刷模具對(duì)瓷質(zhì)拋光磚保持一定數(shù)值范圍內(nèi)的壓力。
以上所述一定溫度區(qū)間為35-60℃左右，所述一定壓力范圍是0.1-0.2kgf/cm2，在此溫度及壓力區(qū)間內(nèi)拋刷涂覆的效果較好，具體數(shù)值取決于拋光磚自身品質(zhì)和成品拋光磚所需達(dá)到的工藝要求。
步驟f)中加水拋光工序可進(jìn)行1次或重復(fù)多次。
作為替換，上述工藝過(guò)程提及的磨具拋光方法可以采用轉(zhuǎn)盤或滾筒拋光方法。
圖2為本發(fā)明拋刷涂覆設(shè)備的主視圖。防污劑制膜設(shè)備主要由機(jī)架輸送皮帶總成1、磨具梁左右支座總成2、磨具梁總成3、加料拋刷及控制系統(tǒng)10、加水拋光磨具11若干和磨具升降總成9構(gòu)成。其中加料拋刷及控制系統(tǒng)10包括自動(dòng)加料裝置7、拋刷磨具4、電氣控制總成5、溫度監(jiān)測(cè)元件6和加水控溫機(jī)構(gòu)8。該系統(tǒng)10沿機(jī)架輸送皮帶總成1排列若干組，在設(shè)備入口處設(shè)有清潔和加溫干燥工序，在系統(tǒng)10之后設(shè)置加水拋光磨具11若干組，最后銜接一個(gè)干燥處理設(shè)備。
作為改進(jìn)，所述溫度監(jiān)測(cè)元件6可采用但不限于紅外線溫度監(jiān)控元件，當(dāng)磨具工作瞬時(shí)溫度超高時(shí)，溫度監(jiān)測(cè)元件6可發(fā)出一個(gè)電信號(hào)，操縱加水控溫機(jī)構(gòu)8加水冷卻來(lái)維持磨具工作溫度保持在適當(dāng)?shù)臏囟葏^(qū)間中。
此外，上述技術(shù)方案中自動(dòng)加料裝置7可以采用任何已知的加料裝置，如多個(gè)小孔滴注、氣槍噴淋和刷涂等能實(shí)現(xiàn)均勻施加防污材料的裝置。
作為改進(jìn)，在上述加料裝置的內(nèi)設(shè)有加溫裝置，使防污藥液溫度保持在一個(gè)設(shè)定的溫度區(qū)間內(nèi)。
作為一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，上述藥液的溫度區(qū)間為35-60攝氏度。
作為一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例，上述技術(shù)方案中自動(dòng)加料裝置7可采用一對(duì)旋轉(zhuǎn)的橡膠輥筒來(lái)施加防污材料到磚坯表面，其中一只為主動(dòng)輥(主動(dòng)輥也可以是金屬表面)，直徑較小，另一只為被動(dòng)輥也即是施藥輥筒，直徑較大。兩只輥筒緊密接觸，藥液通過(guò)一循環(huán)水泵施加在兩只輥筒之間，藥液粘附在旋轉(zhuǎn)的被動(dòng)橡膠輥筒的表面，通過(guò)橡膠輥筒和磚表面的相對(duì)運(yùn)動(dòng)，將藥液均勻施加在磚坯表面。多余的藥液由輥筒的兩端經(jīng)過(guò)特定的管道流回一個(gè)集藥槽(筒或罐)內(nèi)，由水泵循環(huán)施加。
此外，加料拋刷及控制系統(tǒng)10中的拋刷磨具4可采用但不限于一種行星式拋刷磨頭，該種磨頭由三個(gè)至數(shù)個(gè)裝有拋磨輪的磨頭座(或軸)，拋磨輪在磨頭座(或軸)上高速自轉(zhuǎn)的同時(shí)又隨磨頭低速自轉(zhuǎn)。拋磨頭同時(shí)又是柔性的，其上的每個(gè)磨塊軸(或座)裝有一個(gè)壓縮彈簧，在磨頭拋磨磚面時(shí)，磨塊軸上的壓縮彈簧處于壓縮狀態(tài)，當(dāng)磨頭拋磨磚坯表面遇有凹凸不平表面時(shí)，通過(guò)壓縮彈簧的升縮自動(dòng)補(bǔ)償拋光磚表面的不平度，能保證磚面成膜的均勻性。
作為進(jìn)一步的改進(jìn)，拋刷磨具4安裝在磨具梁總成3上，并隨磨具梁總成3在模具梁左右支座總成2上前后擺動(dòng)，以適應(yīng)加工不同寬度磚坯的要求。
作為替換，上述拋刷磨具4也可以使用單個(gè)和多個(gè)旋轉(zhuǎn)的圓盤形磨輪、高速旋轉(zhuǎn)的圓柱形拋光滾筒和高速旋轉(zhuǎn)的拋光刷等其他拋刷磨具。
如果使用轉(zhuǎn)盤和滾筒拋光，磨具梁總成3也可以采用固定式安裝，在磨頭梁左右支座總成2上不擺動(dòng)的形式。
在上述實(shí)施例中，拋刷鍍膜磨輪和水拋光磨輪可以用羊毛粘輪、絨布輪、棉布輪、尼龍輪或其它合適材料制成。
工作時(shí)，表面已涂覆了納米防污材料的陶瓷拋光磚通過(guò)機(jī)架輸送皮帶總成1輸送至行星端面拋刷磨頭4下面，電氣控制總成5開始工作，控制磨具升降總成9帶動(dòng)拋光磨頭4以一定壓力和轉(zhuǎn)速對(duì)已涂覆納米防污材料的拋光磚面進(jìn)行拋刷、擠壓，并且在溫度探測(cè)和加水控溫裝置作用下，磚面會(huì)得到一個(gè)0.1-0.2kgf/cm2的壓力和35-60℃左右的溫度，此工作條件下納米材料會(huì)充分填充產(chǎn)品表面氣孔和微裂紋，同時(shí)在磚面形成一層適宜的透明保護(hù)膜。
噴藥和拋刷工序經(jīng)過(guò)多次反復(fù)，最終在陶瓷拋光磚表面會(huì)得到一層所需要的厚度合適的納米材料防護(hù)膜，此時(shí)防護(hù)膜表面還需進(jìn)一步勻化處理加水拋光。
當(dāng)表面已制成膜的陶瓷拋光磚被輸送到設(shè)備最后一個(gè)或數(shù)個(gè)拋磨具時(shí)，連接到磨具中間的加水裝置會(huì)向磚面加水，加水量可以是定量或不定量的，同時(shí)磨具4會(huì)在一定的壓力下，以350-1000rpm左右的磨塊自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速對(duì)成膜磚面進(jìn)行拋光。
經(jīng)過(guò)加水拋光后，此時(shí)已形成防護(hù)膜的磚面光澤度會(huì)增加到90度左右，可達(dá)到鏡面般光亮效果。
通過(guò)本發(fā)明的制膜方法和設(shè)備，結(jié)合新型納米防污材料，可以在陶瓷拋光磚表面形成一層耐久性納米超微防污保護(hù)膜，增加陶瓷拋光磚表面的防護(hù)質(zhì)量，表面污染物質(zhì)用水擦拭即可清除，增加拋光磚產(chǎn)品表面的亮度提升產(chǎn)品品質(zhì)，增加產(chǎn)品的附加值。
盡管本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例為了舉例說(shuō)明目的而得到公開，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到，對(duì)本發(fā)明的各種修改、添加和置換都是可能的，但不超出所屬權(quán)利要求中所述的本發(fā)明的范圍和本質(zhì)。前述描述中的限制規(guī)定是例證了而不是限定了本發(fā)明。不管怎樣，一個(gè)普通的本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到某些修改將來(lái)自本發(fā)明的范圍。因此，應(yīng)該認(rèn)識(shí)到在權(quán)利要求的范圍內(nèi)，本發(fā)明可以在上述特別描述的范圍之外實(shí)現(xiàn)。出于這些原因，權(quán)利要求應(yīng)該被認(rèn)為是確定了本發(fā)明的真正范圍和內(nèi)容。
權(quán)利要求
1.一種瓷質(zhì)拋光磚的表面納米類防污材料制膜方法，包括下列步驟a)清潔磚體表面；b)在磚體表面均勻施加防污材料；c)用拋刷磨具對(duì)磚體表面進(jìn)行拋光刷涂；d)在拋光刷涂過(guò)程中保持磚體表面溫度在一定區(qū)間內(nèi)；e)重復(fù)b、c、d步驟若干次；f)通過(guò)拋光磨具加水拋光若干次；和g)清潔和干燥處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制膜方法，其特征在于在所述步驟d中，采用溫度探測(cè)和加水控溫方法保持磚面溫度在35-60攝氏度內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制膜方法，其特征在于在所述步驟b中保持防污材料溫度控制在35-60攝氏度范圍內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制膜方法，其特征在于在所述步驟a、b之間還設(shè)有一個(gè)對(duì)磚面進(jìn)行加溫干燥的步驟。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制膜方法，其特征在于在所述步驟a、b之間還設(shè)有一個(gè)對(duì)磚面進(jìn)行加溫干燥的步驟。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制膜方法，其特征在于在所述步驟b中采用雙輥筒加藥法對(duì)磚面施加防污材料。
7.一種瓷質(zhì)拋光磚的防污材料制膜設(shè)備，包括磚體清潔和加溫干燥設(shè)備、機(jī)架輸送皮帶總成、磨具梁總成、加料拋刷及控制系統(tǒng)若干、加水拋光磨具若干、磨具升降總成和干燥處理設(shè)備，其中加料拋刷及控制系統(tǒng)沿機(jī)架輸送皮帶總成排列若干組，加料拋刷及控制系統(tǒng)由拋刷磨具、電氣控制總成、自動(dòng)加料裝置、溫度監(jiān)測(cè)元件、加水控溫機(jī)構(gòu)組成，加水控溫機(jī)構(gòu)與溫度監(jiān)測(cè)元件電連接并在溫度監(jiān)測(cè)元件的控制下實(shí)施加水操作。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制膜設(shè)備，其中所述自動(dòng)加料裝置中設(shè)有加溫控制裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制膜設(shè)備，其中所述自動(dòng)加料裝置可以為雙輥筒加注裝置、多個(gè)小孔滴注裝置、氣槍噴淋裝置和刷涂裝置中的一種。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制膜設(shè)備，還包括有磨具梁、磨具梁左右支座總成，其中所述拋刷磨具安裝在磨具梁上，拋刷磨具可以隨磨具梁一起在磨具梁左右支座總成上前后往復(fù)擺動(dòng)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制膜設(shè)備，其中所述拋刷磨具和加水拋光磨具為一種行星式拋刷磨頭，該種磨頭由三個(gè)至數(shù)個(gè)裝有拋磨輪的磨頭座(或軸)組成，拋磨輪在磨頭座(或軸)上高速自轉(zhuǎn)的同時(shí)又隨磨頭低速自轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制膜設(shè)備，其中所述的行星式拋刷磨頭上的每個(gè)磨塊軸(或座)裝有一個(gè)壓縮彈簧。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制膜設(shè)備，其中所述拋刷磨輪和加水拋光磨輪可以為羊毛粘輪、絨布輪、棉布輪或尼龍輪中的一種。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制膜設(shè)備，其中所述拋刷磨輪和加水拋光磨輪可以用羊毛粘輪、絨布輪、棉布輪或尼龍輪中的一種制成。
15.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的制膜設(shè)備，其中所述加料拋刷及控制系統(tǒng)中的拋刷磨具為一種拋刷滾筒。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制膜設(shè)備，其中所述拋刷磨具對(duì)磚表面的壓力大小在0.1-0.2kgf/cm2范圍內(nèi)。
17.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制膜設(shè)備，其中所述拋刷磨具對(duì)磚表面的壓力大小在0.1-0.2kgf/cm2范圍內(nèi)。
全文摘要
一種瓷磚納米材料涂覆制膜拋光及增亮的方法和設(shè)備，屬于陶瓷機(jī)械領(lǐng)域。制膜方法步驟為a)清潔磚面；b)在磚表面均勻施加防污材料；c)用一種拋刷磨具對(duì)防污材料進(jìn)行拋光刷涂，d)在拋光刷涂過(guò)程中保持磚體溫度在一定區(qū)間內(nèi)；e)重復(fù)b、c、d程序若干次；f)通過(guò)拋光磨具加水拋光若干次；和g)清潔和干燥處理。相應(yīng)的制膜設(shè)備包括機(jī)架輸送皮帶總成、磨具梁總成、加料拋刷及控制系統(tǒng)若干、加水拋光磨具若干、磨具升降總成等等，其中加料拋刷及控制系統(tǒng)由拋刷磨具、電氣控制總成、自動(dòng)加料裝置、溫度監(jiān)測(cè)元件、加水控溫機(jī)構(gòu)組成?？墒狗牢鄄牧显谔沾u表面形成一層防污保護(hù)膜，能夠制造出具有較好防污性能并有較高表面光亮度的瓷質(zhì)拋光磚。
文檔編號(hào)C04B41/80GK1706776SQ20041009666
公開日2005年12月14日 申請(qǐng)日期2004年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月3日
發(fā)明者周鵬, 袁金波 申請(qǐng)人:廣東科達(dá)機(jī)電股份有限公司