專利名稱：基板校正裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基板校正裝置，特別是涉及一種應(yīng)用于玻璃基板的校正裝置。
背景技術(shù)：
蝕刻機(jī)臺(tái)10是用以蝕刻玻璃基板20，如圖1所示，蝕刻機(jī)臺(tái)10內(nèi)部包括輸送臺(tái)11、基板交換室(load lock chamber)12、輸送腔體13、第一程序腔體(PC1)14、第二程序腔體(PC2)15、第三程序腔體(PC3)16以及機(jī)械手17、18。玻璃基板20設(shè)在輸送臺(tái)11上，經(jīng)由機(jī)械手17傳送到基板交換室12，使玻璃基板處于真空環(huán)境中，再將玻璃基板20輸送到輸送腔體13中，并利用機(jī)械手18使玻璃基板20依次進(jìn)入第一、第二以及第三程序腔體(PC1、PC2以及PC3)14、15以及16中，以對(duì)玻璃基板20進(jìn)行蝕刻。
參閱圖1和圖2，機(jī)械手17抓取玻璃基板20置入基板交換室12時(shí)，如果玻璃基板20在搬運(yùn)或置放時(shí)發(fā)生了偏斜，機(jī)臺(tái)10會(huì)發(fā)出基板警報(bào)，使機(jī)臺(tái)10停止運(yùn)轉(zhuǎn)，程序中斷。
參閱圖1，玻璃基板20進(jìn)入基板交換室12后再被機(jī)械手18傳送至第一程序腔體(PC1)14中，并且第一程序腔體(PC1)14的平臺(tái)上具有一下電極層141(參閱圖3)，在玻璃基板20進(jìn)行程序時(shí)，通過等離子狀態(tài)的氣體對(duì)玻璃基板20進(jìn)行蝕刻。如果玻璃基板20在搬運(yùn)或置放時(shí)發(fā)生了偏斜，則等離子狀態(tài)的氣體作用到下電極層141上(如箭頭所示)，因而發(fā)生例如弧光放電的情形，使下電極層141受到損壞。當(dāng)?shù)入x子狀態(tài)的氣體作用到下電極層141上時(shí)，機(jī)臺(tái)10會(huì)發(fā)出警報(bào)(例如ESC警報(bào))，使機(jī)臺(tái)10停止運(yùn)轉(zhuǎn)，程序中斷。
綜上所述，如果玻璃基板20在搬運(yùn)和置放時(shí)產(chǎn)生了誤差，都可能造成程序中斷，使機(jī)臺(tái)10不能順利運(yùn)轉(zhuǎn)，甚至損壞機(jī)臺(tái)10，從而使成本增加。

發(fā)明內(nèi)容
為了改善上述缺點(diǎn)，本發(fā)明提供一種機(jī)臺(tái)的基板校正裝置，其包括承載臺(tái)和多個(gè)滾動(dòng)件，承載臺(tái)包括多個(gè)側(cè)邊、底面以及感應(yīng)器，該感應(yīng)器設(shè)在底面上，以確認(rèn)基板是否放至定位，而滾動(dòng)件設(shè)在側(cè)邊和底面上，當(dāng)基板由機(jī)械手傳送至承載臺(tái)時(shí)，可利用滾動(dòng)件將基板校正至承載臺(tái)上的適當(dāng)位置。
在一實(shí)施例中，滾動(dòng)件包括有球體、容置槽以及固定部，球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式設(shè)在容置槽中，并且滾動(dòng)件通過固定部與底面連接。此外，球體為絕緣材料制成。
為使本發(fā)明的上述目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易于理解，下面特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合附圖進(jìn)行詳細(xì)說明。


圖1為公知蝕刻機(jī)臺(tái)的平面示意圖；圖2為公知玻璃基板傳送至基板交換室的示意圖；圖3為公知玻璃基板傳送至第一程序腔體的示意圖；圖4為本發(fā)明機(jī)臺(tái)的平面示意圖；圖5A-5D為本發(fā)明玻璃基板傳送至基板交換室的動(dòng)作示意圖；圖6A為本發(fā)明的一實(shí)施例的滾動(dòng)件外觀立體圖；圖6B為圖6A的剖面示意圖；圖7為本發(fā)明玻璃基板傳送至基板交換室的俯視圖。
具體實(shí)施例方式
參閱圖4，蝕刻機(jī)臺(tái)30內(nèi)部包括輸送臺(tái)31、基板交換室32、輸送腔體33、第一程序腔體(PC1)34、第二程序腔體(PC2)35、第三程序腔體(PC3)36以及機(jī)械手37、38。玻璃基板40放置在輸送臺(tái)31上，通過機(jī)械手37的抓取傳送到基板交換室32，使玻璃基板40處于真空環(huán)境中，之后，再將玻璃基板40輸送到輸送腔體33，并利用機(jī)械手38使玻璃基板40依次進(jìn)入第一、第二以及第三程序腔體(PC1、PC2以及PC3)34、35以及36中，以對(duì)玻璃基板40進(jìn)行蝕刻。
在本發(fā)明中，雖然以蝕刻機(jī)臺(tái)為范例進(jìn)行說明，但是并不以蝕刻機(jī)臺(tái)為限。本發(fā)明的基板校正裝置，也可以適用到一般的薄膜機(jī)臺(tái)，或是適用到其它用來當(dāng)成被傳送基板的位置校正中途站。在本發(fā)明中，雖然以玻璃基板為范例進(jìn)行說明，但是并不以此為限。本發(fā)明的基板校正裝置，也可以適用到例如金屬材料基板，非金屬材料基板，有機(jī)材料基板或無機(jī)材料基板等以任何材料形成的基板。在一優(yōu)選實(shí)施例中是以傳輸易碎基板為主。在另一實(shí)施例中，則可用于高精密度要求的基板傳輸作業(yè)中參閱圖4和圖5A，以基板40由輸送臺(tái)31傳送到基板交換室32上為例，基板交換室32包括底面321、側(cè)邊323以及感應(yīng)器322。在附圖中，感應(yīng)器322凸設(shè)在底面321的對(duì)角上，以確認(rèn)基板40的位置。在實(shí)用中，感應(yīng)器322的位置可以依照實(shí)際需求而設(shè)置，例如可以凸設(shè)在底面321的四角或四周，甚至可設(shè)在非底面的位置，這些并沒有一定的限制。使用感應(yīng)器322的目的之一是可用來檢測(cè)承載基板(例如玻璃)的有無，也可以用來檢測(cè)基板位置是否正確。感應(yīng)器322可以設(shè)置在基板交換室32內(nèi)，也可以設(shè)置在其它例如輸送腔體33的傳輸中途站內(nèi)。多個(gè)滾動(dòng)件39分別設(shè)在底面321和側(cè)邊323上。當(dāng)玻璃基板40被機(jī)械手37由輸送臺(tái)31移動(dòng)到基板交換室32上方時(shí)(如圖5A所示)，接續(xù)參閱圖5B和圖7，圖5B為圖7中B-B剖面線的剖面圖，由于移動(dòng)的機(jī)械手37相對(duì)于交換室32的位置可能會(huì)發(fā)生誤差，以致于在玻璃基板40被置入基板交換室32時(shí)，玻璃基板40將先接觸到側(cè)邊323上的滾動(dòng)件39。此時(shí)，利用基板本身的重量以及滾動(dòng)件39的滑動(dòng)特性，可將玻璃基板40滑動(dòng)至設(shè)定的位置，從而可防止基板位置偏斜的情況發(fā)生。設(shè)置在底面的滾動(dòng)件39則可以利用其滑動(dòng)特性降低與底面的摩擦力，以協(xié)助玻璃基板40于水平方向的移動(dòng)。即可由設(shè)在側(cè)邊323和底面321上的滾動(dòng)件39校正位置(如圖5C所示)，在此同時(shí)，機(jī)械手37也抽離氣體交換室32(如圖5D所示)。
另外，參閱圖4，設(shè)在底面321上的滾動(dòng)件39可使玻璃基板40在要求的范圍中滑動(dòng)到最適當(dāng)?shù)奈恢?。另外參閱圖6A、6B。在附圖中，滾動(dòng)件39例如包括有球體391、容置槽392以及固定部393。球體391以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式設(shè)在容置槽392中，并且滾動(dòng)件39通過固定部393連接在底面321和側(cè)邊323上(如圖4所示)。滾動(dòng)件39的設(shè)計(jì)，可以根據(jù)實(shí)際設(shè)計(jì)需求而改變，并不以附圖的例示為限。例如，在承載臺(tái)上可以設(shè)置有相對(duì)應(yīng)的容置槽，以使球體391設(shè)置在其中而不需要另外設(shè)置固定部?；蛘?，在承載臺(tái)上設(shè)置有多個(gè)孔，滾動(dòng)件39則設(shè)置在相對(duì)應(yīng)的孔下方，并露出至少部分球體391。在一優(yōu)選實(shí)施例中，球體391為絕緣材料制成。在另一實(shí)施例中，球體391為抗靜電材料制成。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，例如機(jī)械手的精確度為0.5mm時(shí)，可以使用具有例如0.6mm或是1.0mm滾動(dòng)半徑大于機(jī)械手精度0.5mm的滾動(dòng)件。當(dāng)然，在實(shí)際運(yùn)用上，也可以根據(jù)需求而設(shè)計(jì)，并不以此為限。
上述結(jié)構(gòu)可使玻璃基板40由輸送臺(tái)31經(jīng)過搬運(yùn)而送到基板交換室32后仍可保持在最適當(dāng)?shù)奈恢?，以避免機(jī)臺(tái)內(nèi)的設(shè)備損毀；或是因?yàn)榘l(fā)出基板警報(bào)使機(jī)臺(tái)停止運(yùn)轉(zhuǎn)、程序中斷，從而導(dǎo)致成本增加。
上述結(jié)構(gòu)可使玻璃基板40由機(jī)械手38搬送至第一程序腔體(PC1)34后仍可保持在最適當(dāng)?shù)奈恢茫员苊鈾C(jī)臺(tái)發(fā)出靜電累積警報(bào)(ESC警報(bào))，使機(jī)臺(tái)停止運(yùn)轉(zhuǎn)、程序中斷，從而導(dǎo)致成本增加。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭示，但其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和范圍，可做出各種更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以后附的權(quán)利要求所界定。
權(quán)利要求
1.一種基板校正裝置，包括有一承載臺(tái)，包括一底面和一周邊，所述底面與所述周邊連接；和多個(gè)滾動(dòng)件，設(shè)在所述周邊和所述底面上。
2.如權(quán)利要求1所述的基板校正裝置，其中，所述滾動(dòng)件包括有一球體、一容置槽以及一固定部，球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式設(shè)在容置槽中，并且滾動(dòng)件通過固定部與底面連接。
3.如權(quán)利要求1所述的基板校正裝置，其中，所述球體為抗靜電材料制成。
4.如權(quán)利要求1所述的基板校正裝置，其中，所述承載臺(tái)還包括一感應(yīng)器，感應(yīng)器設(shè)在底面上，確認(rèn)基板是否定位。
5.一種基板校正裝置，包括有一承載臺(tái)，包括一底面；和多個(gè)滾動(dòng)件，設(shè)在所述底面上。
6.如權(quán)利要求5所述的基板校正裝置，其中，所述滾動(dòng)件包括有一球體、一容置槽以及一固定部，球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式設(shè)在容置槽中，并且滾動(dòng)件通過固定部與底面連接。
7.如權(quán)利要求5所述的基板校正裝置，其中，所述球體為抗靜電材料制成。
8.如權(quán)利要求5所述的基板校正裝置，其中，所述承載臺(tái)還包括一感應(yīng)器，感應(yīng)器設(shè)在底面上，確認(rèn)基板是否定位。
9.一種基板校正裝置，包括有一承載臺(tái)，包括一底面和一周邊，所述底面與所述周邊連接；和多個(gè)滾動(dòng)件，設(shè)在所述周邊上。
10.如權(quán)利要求9所述的基板校正裝置，其中，所述滾動(dòng)件包括有一球體、一容置槽以及一固定部，球體以可轉(zhuǎn)動(dòng)的方式設(shè)在容置槽中，并且滾動(dòng)件通過固定部與側(cè)邊連接。
11.如權(quán)利要求9所述的基板校正裝置，其中，所述球體為抗靜電材料制成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種基板校正裝置，其包括承載臺(tái)和多個(gè)滾動(dòng)件。承載臺(tái)包括多個(gè)側(cè)邊、底面以及感應(yīng)器，感應(yīng)器設(shè)在底面上以確認(rèn)基板是否放至定位，而滾動(dòng)件設(shè)在側(cè)邊和底面上。當(dāng)基板由機(jī)械手傳送至承載臺(tái)時(shí)，可利用滾動(dòng)件使基板校正到承載臺(tái)上的適當(dāng)位置。
文檔編號(hào)C03C15/00GK1800065SQ20051013100
公開日2006年7月12日 申請(qǐng)日期2005年12月2日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月2日
發(fā)明者侯建州, 張奕錕, 洪國(guó)展, 謝昌洲 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司