專利名稱：使用氣溶膠制造被膜的方法、用于該方法的微粒、以及被膜和復(fù)合材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種使用氣溶膠制造陶瓷或半導(dǎo)體等的被膜的方法、用于該方法的微粒、以及通過(guò)該方法得到的被膜和復(fù)合材料。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，作為形成陶瓷等的被膜的新方法，提出了被稱為氣溶膠沉積法的使用氣溶膠形成被膜的方法。該方法是形成包含陶瓷等脆性材料的微粒的氣溶膠，并將該氣溶膠噴射到基材的表面，使微粒與基材碰撞，通過(guò)該碰撞使微粒粉碎或變形，從而在基材上形成被膜的方法。按照該方法，可以在常溫下在金屬、陶瓷或玻璃材料等基材的表面直接形成膜厚1～數(shù)百μm的致密且高硬度的陶瓷厚膜。這樣的厚膜可以說(shuō)用以往的制膜法，例如溶膠凝膠法、CVD法、PVD法等是難以制作的。
已知一種通過(guò)使用對(duì)脆性材料微粒施加了內(nèi)應(yīng)變的微粒作為在氣溶膠中使用的原料微粒，促進(jìn)微粒與基材碰撞時(shí)的變形或破壞，從而得到高密度的致密的膜的方法(例如，參照WO01/27348號(hào)公報(bào))。
另外，還已知一種通過(guò)并用具有0.5～5μm的平均粒徑的粉碎用微粒、和具有10nm～1μm的平均粒徑的脆性材料微粒作為在氣溶膠中使用的原料微粒，從而在低溫下得到致密的膜的方法(例如，參照特開(kāi)2001-3180號(hào)公報(bào))。
另外，還已知一種通過(guò)使用平均粒徑為0.1～5μm的具有比化學(xué)計(jì)量組成高的O/Al比的氧化鋁粒子作為在氣溶膠中使用的原料微粒來(lái)進(jìn)行制膜，從而獲得致密并且高硬度的膜的方法(例如，參照特開(kāi)2002-206179號(hào)公報(bào))。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明人最近發(fā)現(xiàn)，通過(guò)使氣溶膠與基材碰撞并使之堆積，可以以極高的制膜速度形成膜質(zhì)良好的被膜，所述氣溶膠是用以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm的微粒形成的。
因此，本發(fā)明的目的是提供一種可以以極高的制膜速度形成膜質(zhì)良好的被膜的、使用氣溶膠制造被膜的方法。
本發(fā)明的使用氣溶膠制造被膜的方法包括將載氣混合到微粒中形成氣溶膠，其中所述微粒以脆性材料為主要成分、且以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm；將該氣溶膠噴射到基材的表面使上述微粒與上述基材碰撞，通過(guò)該碰撞使上述微粒粉碎或變形，從而在基材上形成被膜。
另外，本發(fā)明的微粒是在上述方法中作為被膜原料使用的微粒，其以脆性材料為主要成分，且以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm。
另外，本發(fā)明提供通過(guò)上述方法制造的被膜。
此外，本發(fā)明提供一種包括基材、在該基材上形成的通過(guò)上述方法制造的被膜的復(fù)合材料。


是在本發(fā)明的方法中使用的被膜形成裝置之一例的圖。
是例2中得到的以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑和制膜速度(μm·cm/分鐘)的關(guān)系圖。
具體實(shí)施例方式
定義在本發(fā)明中，所謂“以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)”，表示使用動(dòng)態(tài)光散射式粒度分布計(jì)測(cè)定的粒度分布測(cè)定數(shù)據(jù)中的從粒徑小的一側(cè)開(kāi)始累積微粒數(shù)量達(dá)到50％時(shí)的粒子的粒徑。
在本發(fā)明中，所謂“微?！笔侵敢淮瘟Ｗ樱淮瘟Ｗ訁^(qū)別于自然凝聚而形成的粉體。
使用氣溶膠制造被膜的方法本發(fā)明的被膜形成方法可以按照被稱為氣溶膠沉積法或超微粒子束堆積法(Ultra-Fine particles beam deposition method)的方法進(jìn)行。因此，本發(fā)明的方法是基本原理與例如WO01/27348號(hào)公報(bào)記載的方法實(shí)質(zhì)上相同的方法，并且其公開(kāi)的內(nèi)容作為本說(shuō)明書(shū)公開(kāi)內(nèi)容的一部分，但該公報(bào)公開(kāi)的內(nèi)容與下述的公開(kāi)內(nèi)容不同時(shí)，當(dāng)然是以下的記載為準(zhǔn)，并且不用說(shuō)其內(nèi)容就是本發(fā)明。
在本發(fā)明的方法中，首先，準(zhǔn)備以脆性材料作為主要成分、以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm的微粒，然后將載氣混合到微粒中形成氣溶膠。將該氣溶膠噴射到基材的表面使微粒與基材碰撞，通過(guò)該碰撞使微粒粉碎或變形，從而在基材上形成被膜。此時(shí)，通過(guò)使用具有上述平均粒徑的微粒，可以以極高的制膜速度形成在硬度和致密度等方面膜質(zhì)良好的被膜。
在本發(fā)明的方法中，通過(guò)微粒與基材的碰撞形成被膜，可以認(rèn)為是以下的機(jī)理。但是，以下的說(shuō)明只是假說(shuō)，本發(fā)明不受它的任何限定。由于陶瓷處于幾乎不具有自由電子的強(qiáng)共價(jià)鍵性或強(qiáng)離子鍵性的原子結(jié)合狀態(tài)，因此具有雖然硬度高但不耐沖擊的性質(zhì)。另外，硅或鍺這樣的半導(dǎo)體也是不具有延展性的脆性材料。因此，對(duì)這樣的脆性材料施加機(jī)械沖擊力時(shí)，沿著微晶之間的界面等解理面會(huì)產(chǎn)生晶格的錯(cuò)位或變形，或者粉碎。發(fā)生這些現(xiàn)象時(shí)，在錯(cuò)位面或斷裂面上會(huì)形成新生面，該新生面原本存在于微粒的內(nèi)部，是原本與別的原子結(jié)合的原子成為裸露狀態(tài)的面。該新生面的原子一層的部分由于外力強(qiáng)制性地從原本穩(wěn)定的原子結(jié)合狀態(tài)成為不穩(wěn)定的暴露于表面的狀態(tài)，從而成為表面能高的狀態(tài)。然后，該活性面與鄰接的脆性材料表面、同樣鄰接的脆性材料的新生面或基板表面接合而轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)定狀態(tài)。此時(shí)，可以認(rèn)為，在與基材的邊界部分，該再次結(jié)合的微粒的一部分咬入到基材的表面而形成錨合部(anchor部)，同時(shí)在該錨合部上堆積由多晶脆性材料構(gòu)成的被膜?？梢哉J(rèn)為，從外部施加連續(xù)的機(jī)械沖擊力，可以持續(xù)地產(chǎn)生上述現(xiàn)象，通過(guò)微粒變形、破碎等的重復(fù)而不斷地接合，由此，使形成的結(jié)構(gòu)物致密。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，如上所述獲得的本發(fā)明的被膜優(yōu)選是多晶的，并且構(gòu)成被膜的結(jié)晶實(shí)質(zhì)上不具有結(jié)晶取向性，在結(jié)晶之間的界面實(shí)質(zhì)上不存在由玻璃質(zhì)構(gòu)成的晶界層，而且形成被膜的一部分咬入到基材表面的錨合部。這樣的被膜是致密并且高硬度的陶瓷厚膜，耐磨損性以及基材密合性優(yōu)異，并且可以具有高的絕緣破壞電壓。
微粒本發(fā)明中的微粒是以脆性材料作為主要成分的微粒。本發(fā)明中使用的脆性材料只要是在制成微粒氣溶膠與基材表面碰撞時(shí)，具有通過(guò)粉碎或變形而作為被膜堆積在基材上的性質(zhì)的材料即可，沒(méi)有特別的限制，可以使用各種材料，但優(yōu)選非金屬無(wú)機(jī)材料。這里所說(shuō)的粉碎或變形可以通過(guò)如下事實(shí)判斷對(duì)于用X射線衍射通過(guò)Scherrer法測(cè)定和算出的微晶尺寸，被膜的微晶尺寸比原料微粒的微晶尺寸小。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，非金屬無(wú)機(jī)材料優(yōu)選為選自無(wú)機(jī)氧化物、無(wú)機(jī)碳化物、無(wú)機(jī)氮化物、無(wú)機(jī)硼化物、它們的多元體系固溶體、陶瓷以及半導(dǎo)體材料中的至少一種。作為無(wú)機(jī)氧化物的例子，可以舉出氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化錫、氧化鐵、氧化鋯、氧化釔、氧化鉻、氧化鉿、氧化鈹、氧化鎂、氧化硅等。作為無(wú)機(jī)碳化物的例子，可以舉出金剛石、碳化硼、碳化硅、碳化鈦、碳化鋯、碳化釩、碳化鈮、碳化鉻、碳化鎢、碳化鉬、碳化鉭等。作為無(wú)機(jī)氮化物的例子，可以舉出氮化硼、氮化鈦、氮化鋁、氮化硅、氮化鈮、氮化鉭等。作為無(wú)機(jī)硼化物的例子，可以舉出硼、硼化鋁、硼化硅、硼化鈦、硼化鋯、硼化釩、硼化鈮、硼化鉭、硼化鉻、硼化鉬、硼化鎢等。作為陶瓷的例子，可以舉出鈦酸鋇、鈦酸鉛、鈦酸鋰、鈦酸鍶、鈦酸鋁、PZT、PLZT等壓電性或熱電性陶瓷；硅鋁氧氮陶瓷(Sialon)、金屬陶瓷等高韌性陶瓷；汞磷灰石(水銀アパタイト)、磷酸鈣等生物適應(yīng)性陶瓷等。作為半導(dǎo)體物質(zhì)的例子，可以舉出硅、鍺、或者往它們中添加了磷等各種摻雜物質(zhì)的半導(dǎo)體物質(zhì)；砷化鎵、砷化銦、硫化鎘等半導(dǎo)體化合物等。另外，按照本發(fā)明的另一優(yōu)選實(shí)施方式，也可以使用硬質(zhì)氯乙烯、聚碳酸酯、丙烯酸(acryl)等具有脆性的有機(jī)材料。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，可以使用二種或二種以上脆性材料的微粒的混合物作為微粒。由此，可以容易地制造用現(xiàn)有方法難以制作的組成和結(jié)構(gòu)的被膜，從而可以實(shí)現(xiàn)以往不能實(shí)現(xiàn)的新的被膜和復(fù)合材料。
另外，本發(fā)明中的微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm，優(yōu)選為150～290nm，更加優(yōu)選為180～250nm。通過(guò)使用具有這樣的平均粒徑的微粒，可以以極高的制膜速度形成良好膜質(zhì)的被膜。
基材本發(fā)明方法中所用的基材，只要是具有如下程度的硬度的材料即可，沒(méi)有特別限定，所述程度是將氣溶膠噴射到基材上并通過(guò)微粒碰撞可賦予足夠使微粒粉碎或變形的機(jī)械沖擊力的程度。作為基材的優(yōu)選例子，可以舉出玻璃、金屬、陶瓷、半導(dǎo)體以及有機(jī)化合物，還可以是它們的復(fù)合材料。
被膜的制造以及用于制造被膜的裝置在本發(fā)明的方法中，將載氣混合到上述微粒中而形成氣溶膠。在本發(fā)明中氣溶膠是使微粒分散到載氣中而得到的，優(yōu)選是分散一次粒子的狀態(tài)，但也可以是包含該一次粒子凝聚而成的凝聚顆粒的狀態(tài)。氣溶膠的形成可以使用市售的氣溶膠發(fā)生器等按照公知的方法進(jìn)行。此時(shí)，本發(fā)明的微?？梢灶A(yù)先填充到氣溶膠發(fā)生器內(nèi)，或者在從氣溶膠發(fā)生器到噴嘴的管道途中與載氣混合，或者也可以在載氣即將到達(dá)基材之前在噴嘴和基材之間與載氣混合。載氣只要是對(duì)于微粒為惰性的、并且不會(huì)給被膜的組成帶來(lái)不良影響的載氣即可，沒(méi)有特別限定，但作為優(yōu)選的例子，可以舉出氮、氦、氬、氧、氫、干燥空氣以及它們的混合氣體。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，可以控制載氣的種類和/或分壓來(lái)控制被膜中的組成，或者控制原子的配置位置。由此，可以控制被膜的電學(xué)性質(zhì)、機(jī)械性質(zhì)、化學(xué)性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)、以及磁特性等。
在本發(fā)明的方法中，將該氣溶膠噴射到基材的表面使微粒與基材碰撞，通過(guò)該碰撞使微粒粉碎或變形，在基材上形成被膜。此時(shí)的溫度條件可以適當(dāng)決定，通?？梢栽诿黠@比陶瓷的燒結(jié)溫度低的溫度，例如0～100℃下進(jìn)行，典型的是在常溫下進(jìn)行。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，向基材噴射氣溶膠優(yōu)選通過(guò)從噴嘴噴射氣溶膠來(lái)進(jìn)行，更加優(yōu)選一邊使噴嘴相對(duì)于基材進(jìn)行相對(duì)移動(dòng)，即，一邊在基材上來(lái)回移動(dòng)噴嘴一邊進(jìn)行氣溶膠的噴射。此時(shí)被膜的形成速度優(yōu)選為1.0μm·cm/分鐘或以上，更加優(yōu)選為1.2μm·cm/分鐘或以上，進(jìn)一步優(yōu)選為1.4μm·cm/分鐘或以上，最優(yōu)選為1.6μm·cm/分鐘或以上。另外，按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，氣溶膠的噴射速度優(yōu)選在50～450m/s的范圍內(nèi)，更加優(yōu)選為150～400m/s。如果是在這樣的范圍內(nèi)，在微粒碰撞基材時(shí)容易形成新生面，成膜性優(yōu)異，被膜的形成速度也變高。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，被膜的厚度優(yōu)選為0.5μm或以上，更加優(yōu)選為1～500μm，進(jìn)一步優(yōu)選為3～100μm。因此，按照本發(fā)明的方法，與PVD法、CVD法、溶膠凝膠法等其它的成膜方法相比，可以形成厚的膜。
按照本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，優(yōu)選在減壓下形成被膜。由此，可以使在原料微粒上形成的新生面的活性持續(xù)一定時(shí)間。
圖1中示出用于實(shí)施本發(fā)明方法的被膜制造裝置的一個(gè)例子。圖1所示的制造裝置10的構(gòu)造如下氮?dú)馄?01通過(guò)氣體輸送管102與內(nèi)裝有氧化鋁微粒的氣溶膠發(fā)生器103連接，并通過(guò)氣溶膠輸送管104與設(shè)置在形成室105內(nèi)的具有長(zhǎng)0.4mm、寬17mm的開(kāi)口的噴嘴106連接。在噴嘴106的前方配置設(shè)置在XY臺(tái)107上的各種金屬基材108，形成室105與真空泵109連接。
以下說(shuō)明使用該制造裝置10制造被膜的方法的一個(gè)例子。打開(kāi)氮?dú)馄?01的閥門(mén)，使高純度氮?dú)馔ㄟ^(guò)氣體輸送管102導(dǎo)入到氣溶膠發(fā)生器103中，產(chǎn)生混合氧化鋁微粒和高純度氮?dú)獾玫降臍馊苣z。氣溶膠通過(guò)氣溶膠輸送管104被送到噴嘴106，并由噴嘴106的開(kāi)口高速噴出。由噴嘴106噴射的氣溶膠與金屬基材108碰撞，在該部位形成被膜。然后，開(kāi)動(dòng)XY臺(tái)107，通過(guò)使金屬基材108搖動(dòng)在規(guī)定區(qū)域形成被膜。該被膜形成可以在室溫下進(jìn)行。
實(shí)施例通過(guò)以下的實(shí)施例更加詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明。另外，本發(fā)明不受這些實(shí)施例的限定。
實(shí)施例1微粒的制備準(zhǔn)備5種市售的氧化鋁微粒。如下測(cè)定這些微粒的以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑。首先，將0.002g氧化鋁微粒和30mL的0.15重量％六偏磷酸鈉水溶液加入到燒杯中，進(jìn)行15分鐘超聲波(80W)照射。然后，將該水溶液加入到透明杯中，通過(guò)動(dòng)態(tài)光散射式粒度分布計(jì)(Zetasizer3000HS，Malvern公司制造)測(cè)定粒度分布。5種微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑測(cè)定結(jié)果如下所示試樣151.4nm試樣2181.7nm試樣3205.7nm
試樣4390.9nm試樣5580.1nm將試樣3和試樣4以1∶1的重量比混合，得到試樣6。另外，將試樣3和試樣4以1∶2的重量比混合，得到試樣7。將試樣3和試樣4以1∶3的重量比混合，得到試樣8。對(duì)這些試樣6～8的微?；旌衔锱c上述同樣地測(cè)定50％平均粒徑時(shí)，得到如下結(jié)果試樣6245.5nm試樣7289.2nm試樣8333.7nm這樣，得到了8種具有不同的以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑的試樣1～8。
實(shí)施例2使用氣溶膠制造被膜使用實(shí)施例1得到的氧化鋁微粒的試樣1～8，如下制造被膜。在圖1所示的制作裝置10的氣溶膠發(fā)生器103中裝填實(shí)施例1中得到的試樣，一邊以7L/分鐘的流量往裝置內(nèi)通入氦氣作為載氣，一邊產(chǎn)生氣溶膠并噴射到不銹鋼(SUS)基材上。這樣，在基材上形成了形成面積為10mm×17mm的氧化鋁被膜。
通過(guò)使用觸針式表面形狀測(cè)定器(日本真空技術(shù)社制造，Dectak3030)測(cè)定制作的氧化鋁被膜的厚度，計(jì)算出氧化鋁被膜的形成速度(μm·cm/min)。該制膜速度(μm·cm/min)是指在1分鐘內(nèi)每1cm掃描距離所形成的被膜的厚度(μm)。
對(duì)試樣1～8測(cè)定的制膜速度如圖2所示。如該圖所示，可知當(dāng)以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑在100～300nm、特別是在150～290nm的范圍內(nèi)時(shí)，制膜速度明顯增大。
另外，使用動(dòng)態(tài)超微小硬度計(jì)(DUH-W201，島津制作所制造)測(cè)定了使用試樣2和3制作的被膜的維氏硬度(ビツカ一ス硬度)。結(jié)果，使用試樣2和3制作的被膜的維氏硬度均為HV800。因此可知，按照本發(fā)明的制造方法可以以極高的制膜速度形成膜質(zhì)良好，特別是具有優(yōu)異的硬度的被膜。
權(quán)利要求
1.一種使用氣溶膠制造被膜的方法，該方法包括將載氣混合到微粒中形成氣溶膠，其中所述微粒以脆性材料作為主要成分，并且以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是100～300nm；將上述氣溶膠噴射到基材的表面使上述微粒與上述基材碰撞，通過(guò)該碰撞使上述微粒粉碎或變形，從而在基材上形成被膜。
2.權(quán)利要求1所述的方法，其中上述微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是150～290nm。
3.權(quán)利要求1所述的方法，其中上述微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是180～250nm。
4.權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的方法，其中上述脆性材料是非金屬無(wú)機(jī)材料。
5.權(quán)利要求4所述的方法，其中，上述非金屬無(wú)機(jī)材料是選自無(wú)機(jī)氧化物、無(wú)機(jī)碳化物、無(wú)機(jī)氮化物、無(wú)機(jī)硼化物、多元體系固溶體、陶瓷以及半導(dǎo)體材料中的至少一種。
6.權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的方法，其中，上述微粒是二種或二種以上上述脆性材料的微粒的混合物。
7.權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的方法，其中，上述基材包括選自玻璃、金屬、陶瓷、半導(dǎo)體以及有機(jī)化合物中的至少一種。
8.權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的方法，其中，上述載氣包含選自氮、氦、氬、氧、氫以及干燥空氣中的至少一種。
9.權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的方法，其中，上述被膜的形成速度為1.0μm·cm/分鐘或以上。
10.一種微粒，該微粒在權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的方法中作為被膜原料使用，其以脆性材料作為主要成分，并且以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是100～300nm。
11.權(quán)利要求10所述的微粒，其中上述微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是150～290nm。
12.權(quán)利要求10所述的微粒，其中上述微粒以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)是180～250nm。
13.權(quán)利要求10～12中任一項(xiàng)所述的微粒，其中上述脆性材料是非金屬無(wú)機(jī)材料。
14.權(quán)利要求13所述的微粒，其中，上述非金屬無(wú)機(jī)材料是選自無(wú)機(jī)氧化物、無(wú)機(jī)碳化物、無(wú)機(jī)氮化物、無(wú)機(jī)硼化物、多元體系固溶體、陶瓷以及半導(dǎo)體材料中的至少一種。
15.權(quán)利要求10～14中任一項(xiàng)所述的微粒，其包含二種或二種以上上述脆性材料的微粒的混合物。
16.按照權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的方法制造的被膜。
17.權(quán)利要求16所述的被膜，該被膜實(shí)質(zhì)上由多晶形成。
18.權(quán)利要求16或17所述的被膜，該被膜實(shí)質(zhì)上不具有由玻璃質(zhì)構(gòu)成的晶界層。
19.一種復(fù)合材料，其包括基材、和在該基材上形成的權(quán)利要求16～18中任一項(xiàng)所述的被膜。
20.權(quán)利要求19所述的復(fù)合材料，其中，上述基材包括選自玻璃、金屬、陶瓷、半導(dǎo)體以及有機(jī)化合物中的一種或一種以上。
21.權(quán)利要求19或20所述的復(fù)合材料，其中，形成有上述微粒咬入基材的表面而形成的錨合部。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種使用氣溶膠制造被膜的方法，該方法可以以極高的制膜速度形成膜質(zhì)良好的被膜。在該方法中，首先將載氣混合到以脆性材料作為主要成分構(gòu)成的、以微粒個(gè)數(shù)為基準(zhǔn)的50％平均粒徑(D50)為100～300nm的微粒中，形成氣溶膠。然后，將該氣溶膠噴射到基材的表面使微粒與上述基材碰撞，通過(guò)該碰撞使微粒粉碎或變形，從而在基材上形成被膜。
文檔編號(hào)C04B41/87GK1938452SQ200580009728
公開(kāi)日2007年3月28日 申請(qǐng)日期2005年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月31日
發(fā)明者巖澤順一, 鳩野廣典, 蘆澤宏明 申請(qǐng)人:東陶機(jī)器株式會(huì)社