專利名稱：具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法及玻璃模造模仁的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種有關(guān)于一種模造模仁(molding core)，特別是涉及一種玻璃 模造成形用的玻璃模造模仁的制造方法及玻璃模造模仁。
背景技術(shù)：
各式光學(xué)產(chǎn)品中的光學(xué)玻璃組件，例如光柵、微透鏡數(shù)組..等，是以其微結(jié)構(gòu) (Micro structure)圖形使光產(chǎn)生各式的例如繞射、折射等物理光學(xué)現(xiàn)象，進(jìn)而 供光學(xué)產(chǎn)品中其它組件的后續(xù)運(yùn)用，是光學(xué)產(chǎn)品中重要的零組件之一；之前，多是 以微影(Photolithography)、蝕刻(Etching)直接在玻璃基板表面制作出微結(jié) 構(gòu)圖形，以制造出該等光學(xué)玻璃組件，生產(chǎn)效率不但低，而且制作成本極高。
目前，已有業(yè)者采用玻璃模造成形的方式生產(chǎn)制作該等光學(xué)玻璃組件，以同時(shí) 提升生產(chǎn)效率及降低制作成本；但；如何對(duì)應(yīng)于欲模造成形的光學(xué)玻璃組件的微結(jié) 構(gòu)圖形，制備出用于玻璃模造成形此等極精密光學(xué)玻璃組件的玻璃模造模仁，則是 首要克服的挑戰(zhàn)。
一般而言，此種用于模造成形此等光學(xué)玻璃組件的玻璃模造模仁，不外乎是以 直接研磨加工的方式，或是利用放電、雷射等非傳統(tǒng)的制作方式制作，而由于玻璃 模造模仁的微結(jié)構(gòu)必須對(duì)應(yīng)于光學(xué)玻璃組件的微結(jié)構(gòu)圖形，因此研磨加工的困難度 極高，也因此，此種加工方式制作的玻璃模造模仁的制作成本亦非常高；而，以放 電、雷射等非傳統(tǒng)加工方式加工制作的玻璃模造模仁，則受限于微結(jié)構(gòu)而常有加工 精度及表面狀況較差的問題。
參閱圖1，日本專利特開2002-96333號(hào)專利申請(qǐng)案則揭露另一種制作玻璃模 造模仁的方式，主要是選用例如以碳化鎢(WC)、碳化鈦(TiC)、碳化鉭(TaC) 等材料構(gòu)成的塊體作為基材11，并在基材11表面以氮化硅(SiN)沉積一層厚度 介于l~10ym的薄膜做為微結(jié)構(gòu)層12;接著利用微影技術(shù)與蝕刻技術(shù)，在此氮化 硅所沉積形成的薄膜(微結(jié)構(gòu)層12)形成對(duì)應(yīng)于光學(xué)玻璃組件的微結(jié)構(gòu)圖形的微 結(jié)構(gòu)圖像13 (pattern)后，即制得所需的玻璃模造模仁1。
參閱圖2，此外，又如日本專利特開2002-97030號(hào)專利申請(qǐng)案，則更進(jìn)一步 地，改以碳化硅在基材11上沉積一層厚度介于hl0um的薄膜做為微結(jié)構(gòu)層12，
并在微結(jié)構(gòu)層12與基材11之間加入例如氮化硅(SiN)、氧化硅(Si02)或氮化 鈦(TiN)等沉積形成的薄膜14，通過此等氮化硅(SiN)、氧化硅(Si02)或氮化 鈦(TiN)等材料沉積形成的薄膜14,增加微結(jié)構(gòu)層12與基材11的連結(jié)強(qiáng)度，進(jìn) 而增加整體玻璃模造模仁1的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度與耐久性。
但是此等在基材11上以不同材料的相互組合搭配沉積出至少一層薄膜，以薄 膜作為微結(jié)構(gòu)層12以形成對(duì)應(yīng)于光學(xué)玻璃組件的微結(jié)構(gòu)圖形的微結(jié)構(gòu)圖像13，進(jìn) 而制得玻璃模造模仁1的方式，由于受限于薄膜相對(duì)基材11連結(jié)時(shí)的穩(wěn)定性與結(jié) 構(gòu)強(qiáng)度的不足，而易在高溫玻璃模造制程中讓玻璃模造模仁l受到破壞，而影響到 生產(chǎn)的光學(xué)玻璃組件的良率。
因此，如何改善目前用于玻璃模造成形光學(xué)玻璃組件的玻璃模造模仁，是業(yè)者 努力研究的方向之一。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于，提供一種制備結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高、耐久性優(yōu)異的具有微結(jié)
構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法及玻璃模造模仁。
本發(fā)明的另一目的在于，提供一種結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高、耐久性優(yōu)異的玻璃模造模仁。 于是，本發(fā)明一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，包含以下步驟。 首先在一呈板塊狀的基材表面以微影技術(shù)與蝕刻技術(shù)形成數(shù)圖像。 接著在該基材形成有該數(shù)圖像的表面上形成一不與軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)
反應(yīng)的離型保護(hù)層，使該基材與該離型保護(hù)層構(gòu)成一具有該微結(jié)構(gòu)的模造單元。 最后將該模造單元以該基材的一相對(duì)遠(yuǎn)離該微結(jié)構(gòu)的底面連結(jié)至一底材上，即
制得該具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁。
此外，本發(fā)明一種玻璃模造模仁，適用于模造成形一玻璃光學(xué)組件，包含一底
材、 一模造單元，及一接著劑。 該底材具有一連結(jié)面。
該模造單元具有一呈板塊狀的基材，及一離型保護(hù)層，該基材包括一形成有數(shù) 圖像的表面，及一相反于該表面的底面，該離型保護(hù)層是設(shè)置于該基材的形成有數(shù) 圖像的表面上，且不與軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，使該基材的該具有數(shù)圖像的 表面與該離型保護(hù)層構(gòu)成一可對(duì)應(yīng)模造成該玻璃光學(xué)組件的微結(jié)構(gòu)。
該接著劑連結(jié)該底材的連結(jié)面與該基材的底面，使該底材與該模造單元連結(jié)成 一體。
本發(fā)明的功效在于以板塊狀的基材成形出對(duì)應(yīng)玻璃光學(xué)組件的圖像，并配合離 型性及硬度優(yōu)異的離型保護(hù)層形成微結(jié)構(gòu)后制得模造單元，再利用接著劑將模造單 元與底材相結(jié)合成一體而制得結(jié)構(gòu)強(qiáng)度高、耐久性優(yōu)異的玻璃模造模仁。
有關(guān)本發(fā)明的前述及其它技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效，在以下配合參考圖式的一個(gè) 較佳實(shí)施例的詳細(xì)說明中，將可清楚的呈現(xiàn)。
下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。


圖1是現(xiàn)有的一種玻璃模造模仁的結(jié)構(gòu)的示意圖； 圖2是現(xiàn)有的另一種玻璃模造模仁的結(jié)構(gòu)的示意圖3是本發(fā)明一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法的一較佳實(shí)施例的 流程圖；及
圖4是以圖3的制造方法所制得的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的示意圖。
具體實(shí)施例方式
在本發(fā)明被詳細(xì)描述之前，要注意的是，在以下的說明內(nèi)容中，類似的組件是 以相同的編號(hào)來表示。
參閱圖3與圖4，如圖3所示本發(fā)明一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方 法的一較佳實(shí)施例，是可制得如圖4的玻璃模造模仁4，用以模造成形高精密度的 玻璃光學(xué)組件。
首先參閱圖4，以本發(fā)明一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法的一較佳 實(shí)施例所制得的玻璃模造模仁4，包含一底材5、 一模造單元6，及一接著劑7。
底材5選自例如碳化鎢、碳化硅、氧化鋁、氧化鋯、氮化硅、碳化鈦、碳化鉭 等材料其中之一構(gòu)成，呈約數(shù)毫米至數(shù)十毫米的厚板塊狀結(jié)構(gòu)(實(shí)際厚度需視模造 機(jī)臺(tái)的種類規(guī)格而有所不同)，該底材5具有一連結(jié)面51。
模造單元6具有一基材61，及一離型保護(hù)層62。基材61選自例如單晶硅或多 晶硅其中之一為材料構(gòu)成，而厚度不小于lOO"m的板塊狀結(jié)構(gòu)，包括一形成有數(shù) 圖像的表面611，及一相反于該表面611的底面612。離型保護(hù)層62選自例如類鉆 碳或鈦、鉭、鎢、鉬、鋁、鉑、錸、釕、銥、銠等金屬及其化合物等材料構(gòu)成，以 厚度不大于1 y m設(shè)置于基材61的形成有數(shù)圖像的表面611上，不與軟化狀態(tài)的玻 璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，且維式硬度不小于2000度，具有優(yōu)異的離型性與結(jié)構(gòu)強(qiáng)度。基 材61的具有數(shù)圖像的表面611與離型保護(hù)層62共同構(gòu)成對(duì)應(yīng)于光學(xué)玻璃組件的微 結(jié)構(gòu)圖形的微結(jié)構(gòu)63，而可對(duì)應(yīng)模造成玻璃光學(xué)組件。
接著劑7用于連結(jié)底材5的連結(jié)面51與基材61的底面612，使底材5與模造 單元6連結(jié)成一體，在此，接著劑7是高溫陶瓷接著劑，例如氧化鋁(A1A)、氧 化鋯(Zr0)、氧化硅(Si02)、氮化硼(BN)、石墨(Graphite)、氮化鋁(A1N)、 氮化鈦(TiN)。
上述具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁4在配合以下如圖3所示的制造方法所詳述
后，當(dāng)可更清楚地明白。
參閱圖3，首先進(jìn)行步驟31，在呈板塊狀的基材61表面以微影技術(shù) (Photolithography)與蝕刻技術(shù)(Etching)形成數(shù)對(duì)應(yīng)于光學(xué)玻璃組件的微結(jié) 構(gòu)圖形的圖像。
接著進(jìn)行步驟32，在基材61形成有數(shù)圖像的表面611上，形成離型保護(hù)層62， 而使基材61與離型保護(hù)層62共同構(gòu)成具有微結(jié)構(gòu)63的模造單元6。
最后進(jìn)行步驟33，將接著劑7涂覆在底材5的連結(jié)面51上，利用接著劑7將 模造單元6與底材5相連結(jié)，并經(jīng)過高溫烘烤使接著劑7固化，使模造單元6與底 材5連結(jié)成一體，即制得如圖4的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁4。
以下配合一較佳制程及一具體制程詳細(xì)說明本發(fā)明一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模 造模仁的制作方法。
較佳制程一
首先，選擇厚度為500um的板塊狀結(jié)構(gòu)的單晶硅作為基材，在(110)晶面上 全周沉積出一蝕刻阻障層；接著，在蝕刻阻障層上涂布光阻后，利用光罩，及相關(guān) 曝光、顯影、蝕刻、清洗等制程定義出與所需微結(jié)構(gòu)形狀相反的一光阻圖像層；再 自光阻圖像層向下將未被光阻圖像層遮覆的部分蝕刻阻障層區(qū)域蝕刻移后，隨即將 光阻圖像層移除，留存下來的蝕刻阻障層結(jié)構(gòu)即為與微結(jié)構(gòu)相反的硬屏蔽(Hard Mask)圖形。
接著將(110)晶面上形成有硬屏蔽圖形的基材浸泡于對(duì)單晶硅晶向具有蝕刻 選擇比的化學(xué)溶液，例如氫氧化鉀(K0H)、氫氧化鈉(Na0H)、四甲基氫氧化銨 (TMAH)中，蝕刻現(xiàn)象在未被硬屏蔽圖形遮覆而裸露出的基材(110)晶面發(fā)生， 且蝕刻反應(yīng)沿著垂直于(110)晶面的方向向下進(jìn)行，同時(shí)配合以蝕刻時(shí)間控制對(duì) 基材的蝕刻率，直至蝕刻出對(duì)應(yīng)微結(jié)構(gòu)的數(shù)圖像；然后將作為硬屏蔽圖形的蝕刻阻 障層移除，基材表面即形成有數(shù)對(duì)應(yīng)微結(jié)構(gòu)的圖像。
接著，再在基材表面以化學(xué)氣相沉積方式鍍覆形成單層或數(shù)層的離型保護(hù)層， 離型保護(hù)層可為鉆石薄膜、類鉆碳薄膜、金屬或合金，即完成模造單元的制備。
最后，以氧化鋁陶瓷接著劑為接著劑，以約2、pm厚度均勻涂布于底材的連 結(jié)面上，并將制作完成的模造模仁以基材底面對(duì)應(yīng)連結(jié)面加壓貼附在底材上，并以 9CTC烘烤2小時(shí)使接著劑固化，進(jìn)而使模造單元與底材藉接著劑連結(jié)成一體，即制 得具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁。
具體制程一
首先，選擇厚度為500um的板塊狀結(jié)構(gòu)的單晶硅作為基材，在(110)晶面以 化學(xué)氣相沉積(CVD)的方式，在石英爐管中全周沉積一層厚度約300nm的低應(yīng)力
氮化硅(Si美，Low Strsss Nitride)作為蝕刻阻障層；接著在蝕刻阻障層表面均 勻涂布厚度約1 um的AZ1500光阻(德商Microchemicals公司的產(chǎn)品)后，實(shí)施2 分鐘12(TC的軟烤制程，隨后以55mJ的曝光能量配合對(duì)應(yīng)所需微結(jié)構(gòu)的光罩曝光 12秒，再以2.38%四甲基氫氧化銨顯影40秒，經(jīng)過清洗后，而在光阻上定義出與 所需微結(jié)構(gòu)形狀相反的對(duì)應(yīng)的圖形；然后以反應(yīng)式離子蝕刻的方式，在5mTorr的 壓力下，通入氟化硫(SF6)氣體25sccm，蝕刻1分鐘，清洗后，留存下來的低應(yīng) 力氮化硅層結(jié)構(gòu)即為對(duì)應(yīng)于微結(jié)構(gòu)而遮覆基材(110)晶面預(yù)定區(qū)域的硬屏蔽圖形。
然后將晶面遮覆有對(duì)應(yīng)微結(jié)構(gòu)態(tài)樣的硬屏蔽圖形的基材，在8(TC的溫度下， 浸泡于以氫氧化鉀重量百分比水重量百分比=1: 2的溶液中進(jìn)行蝕刻，蝕刻現(xiàn) 象只在未被硬屏蔽圖形遮覆而裸露出的基材(110)晶面發(fā)生，且蝕刻反應(yīng)沿著垂 直于(110)晶面的方向向下進(jìn)行，蝕刻2分鐘后即可獲得約2.8um深度的微結(jié)構(gòu)； 再將基材浸泡于49wt9i的氫氟酸中，直到完全移除留存的氮化硅層結(jié)構(gòu)，清洗后基 材表面即形成有數(shù)對(duì)應(yīng)微結(jié)構(gòu)的圖像。
接著以離子鍍(Ion Plating)的方式，通入20sccm的CeH6，在1. 5xlO'Pa的 壓力下，進(jìn)行沉積80分鐘，即可在基材的形成有數(shù)對(duì)應(yīng)微結(jié)構(gòu)的圖像的表面沈積 形成一層厚度約0. 2 u m的類鉆碳薄膜薄膜成為離型保護(hù)層，完成模造單元的制備。 最后，以美商AREMC0公司的tt569氧化鋁陶瓷接著劑為接著劑，以約2 3um厚 度均勻涂布于底材的連結(jié)面上，并將制作完成的模造模仁以基材底面對(duì)應(yīng)連結(jié)面加 壓貼附在底材上，并以9(TC烘烤2小時(shí)使接著劑固化，進(jìn)而使模造單元與底材藉 接著劑連結(jié)成一體，即制得具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁。
由上述說明可知，本發(fā)明主要是在厚度較厚(數(shù)毫米以上)呈板塊狀結(jié)構(gòu)的基 材61表面，利用發(fā)展極為成熟的微影技術(shù)與蝕刻技術(shù)等，精確成形出對(duì)應(yīng)玻璃光 學(xué)組件的數(shù)圖像，并在此形成有數(shù)圖像的表面611配合離型性及硬度優(yōu)異，且不與 軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的材料形成離型保護(hù)層62而制得模造單元6，利用 板塊狀結(jié)構(gòu)的基材61具有結(jié)構(gòu)強(qiáng)度較高，以及離型保護(hù)層62具有優(yōu)異的離型性與 硬度高的優(yōu)點(diǎn)，使得制備出的模造單元6不但具有高精度，同時(shí)具有離型性與耐久 性優(yōu)異的特點(diǎn)；再以利用接著劑7將模造單元6與底材5相結(jié)合成一體而制得玻璃 模造模仁4的方式，更兼具有可以重復(fù)使用底材5以節(jié)省成本的優(yōu)點(diǎn)，并可以改善 現(xiàn)有玻璃模造模仁1以薄膜形成微結(jié)構(gòu)圖像13，其穩(wěn)定性與結(jié)構(gòu)強(qiáng)度均不足的缺 點(diǎn)，確實(shí)達(dá)到本發(fā)明的創(chuàng)作目的。
以上所述，僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能以此限定本發(fā)明實(shí)施的范圍， 即大凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍及發(fā)明說明內(nèi)容所作的簡單的等效變化與修飾，皆仍 屬本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，該方法包括(a)在一呈板塊狀的基材表面以微影技術(shù)與蝕刻技術(shù)形成數(shù)圖像；(b)在該基材形成有該數(shù)圖像的表面上形成一不與軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)的離型保護(hù)層，使該基材與該離型保護(hù)層構(gòu)成一具有該微結(jié)構(gòu)的模造單元；及(c)將該模造單元以該基材的一相對(duì)遠(yuǎn)離該微結(jié)構(gòu)的底面連結(jié)至一底材上，制得該具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁。
2. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該基材的厚度不小于100um。
3. 依據(jù)權(quán)利要求2所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該基材是由單晶硅或多晶硅材料構(gòu)成。
4.依據(jù)權(quán)利要求1所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征在 于該離型保護(hù)層的厚度不大于lum，且維氏硬度不小于2000度。
5. 依據(jù)權(quán)利要求4所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該離型保護(hù)層是由鉆石結(jié)構(gòu)的碳或鈦、鉭、鎢、鉬、鋁、鉑、錸、釕、 銥、銠之一或其組合的材料構(gòu)成。
6. 依據(jù)權(quán)利要求5所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該離型保護(hù)層是以化學(xué)氣相沉積方式形成。
7. 依據(jù)權(quán)利要求6所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征在于該離型保護(hù)層是以離子鍍膜方式形成。
8. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該模造單元是以黏著方式與該底材相連結(jié)。
9. 依據(jù)權(quán)利要求8項(xiàng)所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特 征在于該模造單元是以一接著劑黏著在該底材上，并經(jīng)過高溫烘烤固化該接 著劑后而與該底材相連結(jié)。
10. 依據(jù)權(quán)利要求9所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該接著劑是由氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氮化硼、石墨、氮化鋁、氮化 鈦之一或其組合材料構(gòu)成。
11. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法，其特征 在于該底材是由碳化硅、碳化鎢、氧化鋁、氧化鋯、氮化硅、碳化鈦或碳化 鉭構(gòu)成。
12. —種玻璃模造模仁，適用于模造成形一玻璃光學(xué)組件，其特征在于 該玻璃模造模仁包含一底材，具有一連結(jié)面；一模造單元，具有一呈板塊狀的基材，及一離型保護(hù)層，該基材包括一形 成有數(shù)圖像的表面，及一相反于該表面的底面，該離型保護(hù)層設(shè)置于該基材的 形成有數(shù)圖像的表面上，且不與軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，該基材的該具 有數(shù)圖像的表面與該離型保護(hù)層構(gòu)成一可對(duì)應(yīng)模造成該玻璃光學(xué)組件的微結(jié) 構(gòu)；及一接著劑，連結(jié)該底材的連結(jié)面與該基材的底面，使該底材與該模造單元 連結(jié)成一體。
13. 依據(jù)權(quán)利要求12所述的玻璃模造模仁，其特征在于該底材是由碳化硅、碳化鎢、氧化鋁、氧化鋯、氮化硅、碳化鈦或碳化鉭構(gòu)成。
14. 依據(jù)權(quán)利要求12所述的玻璃模造模仁，其特征在于該基材的厚度不 小于100ura。
15. 依據(jù)權(quán)利要求14所述的玻璃模造模仁，其特征在于該基材是由單晶硅或多晶硅材料構(gòu)成。
16. 依據(jù)權(quán)利要求12所述的玻璃模造模仁，其特征在于該離型保護(hù)層的厚度不大于lym,且維氏硬度不小于2000度。
17. 依據(jù)權(quán)利要求16所述的玻璃模造模仁，其特征在于該離型保護(hù)層是 由鉆石結(jié)構(gòu)碳或鈦、鉭、鎢、鉬、鋁、鉑、錸、釕、銥或銠金屬及其化合物構(gòu) 成。
18. 依據(jù)權(quán)利要求12所述的玻璃模造模仁，其特征在于該接著劑是由氧化鋁、氧化鋯、氧化硅、氮化硼、石墨、氮化鋁、氮化鈦之一或其組合材料構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁的制作方法及玻璃模造模仁，制作方法是先在呈板塊狀的基材表面以微影技術(shù)與蝕刻技術(shù)形成數(shù)個(gè)圖像后，在基材形成有數(shù)圖像的表面上形成不與軟化狀態(tài)的玻璃產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，且維氏硬度不小于2000度的離型保護(hù)層，使基材與離型保護(hù)層構(gòu)成具有微結(jié)構(gòu)的模造單元，最后將模造單元通過接著劑黏結(jié)至底材上，而制得具有微結(jié)構(gòu)的玻璃模造模仁，玻璃模造模仁藉模造單元的板塊狀結(jié)構(gòu)的基材與離型保護(hù)層的保護(hù)，而具有高穩(wěn)定性與結(jié)構(gòu)強(qiáng)度，并具有優(yōu)異的離型性與耐久性。
文檔編號(hào)C03B11/00GK101182100SQ20061013871
公開日2008年5月21日 申請(qǐng)日期2006年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年11月13日
發(fā)明者王坤池 申請(qǐng)人:亞洲光學(xué)股份有限公司