專利名稱：：其上形成有薄膜的玻璃板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及其上形成有薄膜的玻璃板，更具體地涉及在玻璃板表面形成有300到3000nm厚的薄膜的其上形成有薄膜的玻璃板。
背景技術(shù)：
：近年來，已知在玻璃板表面形成的含有紅外線吸收顆粒的薄膜具有阻隔(遮蔽)紅外線的性能(比如，參見PCT國際專利公開No.2004/011381的文件和PCT國際專利公開No.2005/095298的文件)。對于PCT國際專利公開No.2004/011381的文件中的紅外線遮蔽玻璃，使用了含有具有高耐溫性的氟組分的ITO粉末，使溶膠-凝膠過程可以在350。C或更高的高溫下進(jìn)行。在熱保護(hù)ITO顆粒的同時，將所述氟組分引入紅外線阻隔膜中。對于PCT國際專利公開No.2005/095298的文件中的紅外線遮蔽玻璃，在玻璃的至少一個表面上形成有紅外線阻隔膜，該紅外線阻隔膜在有機(jī)和無機(jī)復(fù)合膜中含有ITO顆粒作為紅外線阻隔組分，所述有機(jī)和無機(jī)復(fù)合膜包括有機(jī)物和無機(jī)氧化物的組合。在PCT國際專利公開No.2004/011381的文件和PCT國際專利公開No.2005/095298的文件中的紅外線阻隔膜具有200nm或更大的相對較大的厚度。然而，如果薄膜的厚度為300nm或更大，會出現(xiàn)表觀上的問題，比如，形成有薄膜的玻璃板表面?zhèn)鹊姆瓷渖S著與玻璃板的角度而變化，甚至與玻璃板的角度相同時，玻璃板表面上形成的薄膜的厚度的差別(比如，30nm)也會引起反射色的變化。本發(fā)明的目的是提供可以減少表觀上的問題(比如反射色的變化)的其上形成有薄膜的玻璃板。
發(fā)明內(nèi)容為了達(dá)到上述目的，在本發(fā)明的一方面，提供了其上形成有薄膜的玻璃板，在玻璃板的至少一個表面上形成有薄膜，其特征在于所述薄膜是含有紅外線阻隔顆粒和二氧化硅的300到3000nm厚的膜，且紅外線阻隔顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到2.3:7.7。根據(jù)本發(fā)明的該方面，所述薄膜是含有紅外線阻隔顆粒和二氧化硅的300到3000nm厚的膜，且紅外線阻隔顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到2.3:7.7。因此，所述薄膜對波長為550nm的光的折射率可以是1.48到1.57，由于與其上形成有薄膜的玻璃板表面的角度的變化而引起的反射色的變化可得到減小，并且即使在玻璃板表面上形成了具有厚度差異的不均勻薄膜，反射色的變化也可得到減小。在本發(fā)明的該方面，所述薄膜對波長為550nm的光的折射率可以是1.48至U1.57。在本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率可以是1.50到1.55。根據(jù)本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率是1.50到1.55，因而薄膜和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率的差可以是0.07或更小。在本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率可以是1.50到1.52，且薄膜對波長為550nm的光的折射率可以是1.48至U1.54。根據(jù)本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率是1.50到1.52，且薄膜對波長為550nm的光的折射率是1.48到1.54，因而薄膜和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率的差可以是0.04或更小。在本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率可以是1.53到1.55，且薄膜對波長為550nm的光的折射率可以是1.51至U1.57。根據(jù)本發(fā)明的該方面，其上待形成薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率可以是1.53將1.55，且薄膜對波長為550nm的光的折射率是1.51到1.57。因而薄膜和玻璃板表面對波長為550nrn的光的折射率的差可以是0.04或更小。在本發(fā)明的該方面，所述紅外線阻隔顆?？梢允呛熝趸a(ITO)顆粒。根據(jù)本發(fā)明的該方面，所述紅外線阻隔顆粒是ITO顆粒，因而可以用比其他紅外線阻隔顆粒更少量的顆粒量調(diào)節(jié)薄膜的折射率，從而有效地增強(qiáng)紅外線阻隔性能。在本發(fā)明的該方面，其上形成有薄膜的玻璃板表面對波長為400到600nm的光的反射率的最大值和最小值的差可以是2.0%或更小。在本發(fā)明的該方面，其上形成有薄膜的玻璃板對波長為1000到1600nm的光的透射率可以是30%或更小，且其上形成有薄膜的玻璃板表面對1600到2500nm的波長的光的透射率可以是20%或更小。根據(jù)本發(fā)明的該方面，其上形成有薄膜的玻璃板對波長為1000到1600nm的光的透射率可以是30%或更小，且其上形成有薄膜的玻璃板表面對波長為1600到2500nm的光的透射率可以是20。/?；蚋?，從而增強(qiáng)紅外線阻隔性能。圖1的橫截面示意圖顯示了根據(jù)本發(fā)明的實施方案的其上形成有薄膜的玻璃板的結(jié)構(gòu)。圖2A-2D的曲線圖顯示了玻璃板表面的反射率的結(jié)果，該玻璃板表面上的紅外線阻隔膜12與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率的差約為0.01到0.10。圖2A顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為500nm的情況，圖2B顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為750nm的情況，圖2C顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為1000nm的情況，且圖2D顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為2000nm的情況。實線顯示了折射率的差約為0.01的情況，虛線顯示了折射率的差約為0.10的情況，縱軸顯示光的反射率，而橫軸顯示光的波長。圖3的視圖說明在圖1中的玻璃板的頂面上形成紅外線阻隔膜的方法。圖4的曲線圖顯示了實施例1中的銦(In)、錫(Sn)和硅(Si)的原子濃度，縱軸顯示原子濃度(％)，橫軸顯示濺射時間(sputtertime)(分鐘)。圖5A-5D的曲線圖顯示了實施例1到4和比較例1中測得的其上形成有薄膜的玻璃板對波長為370到780nm的光的反射率，圖5A顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為500nm的情況，圖5B顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為750nm的情況，圖5C顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為1000nm的情況，且圖5D顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為2000nm的情況。圖6A-6D的曲線圖顯示了實施例1到4和比較例1中測得的其上形成有薄膜的玻璃板對波長為300到2100nm的光的透射率，圖6A顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為500nm的情況，圖6B顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為750nm的情況，圖6C顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為1000nm的情況，且圖6D顯示了紅外線阻隔膜的厚度約為2000nm的情況。具體實施例方式為實現(xiàn)發(fā)明目的，本發(fā)明人進(jìn)行了艱苦的研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在其上形成有薄膜的玻璃板中，在玻璃板的至少一個表面上形成有薄膜，如果薄膜是含有紅外線阻隔顆粒和二氧化硅的300到3000nm厚的膜，且紅外線阻隔顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到2.3:7.7，薄膜對波長為550nm的光的折射率可以是1.48到1.57，由與其上形成有薄膜的玻璃板表面的角度的變化引起的反射色的變化可以得到減小，且即使在玻璃板表面上形成了厚度有差異的不均勻薄膜，反射色的變化也可以得到減小。本發(fā)明基于上述研究的結(jié)果而進(jìn)行。圖1的橫截面示意圖顯示了根據(jù)本發(fā)明的實施方案的其上形成有薄膜的玻璃板的結(jié)構(gòu)。在圖1中，其上形成有薄膜的玻璃板10包括具有玻璃板表面(底面lla和頂面llb)的玻璃板11和薄膜(紅外線阻隔膜)12。在其上形成有薄膜的玻璃板10中，在玻璃板11的玻璃板表面(頂面lib)上形成有紅外線阻隔膜12。在圖1中，紅外線阻隔膜12在頂面llb上形成，但不限于此，紅外線阻隔膜12可根據(jù)紅外線阻隔膜12的折射率形成于底面lla上。紅外線阻隔膜12的厚度是300到3000nm。厚度為300nm或更大的紅外線阻隔膜12可降低紅外線阻隔膜12中所需的用于阻隔紅外線的紅外線阻隔顆粒的含量，而厚度為3000nm或更小的紅外線阻隔膜12可增強(qiáng)機(jī)械性能(比如抗磨性)并防止薄膜形成時的裂紋的發(fā)生。紅外線阻隔膜12含有含銦氧化錫(ITO)顆粒作為紅外線阻隔顆粒和二氧化硅(Si02)。作為紅外線阻隔顆粒的ITO顆粒分散在紅外線阻隔膜12中。不含ITO顆粒的二氧化硅膜對波長為550nrn的光的折射率約為1.46，而低于常用于汽車中的鈉鈣硅玻璃對波長為550nm的光的1.50到1.55的折射率。因而，將ITO顆粒分散在二氧化硅膜中以將薄膜對波長為550nm的光的折射率增大至高于1.46。通過將ITO顆粒分散在二氧化硅中形成的薄膜對波長為550nm的光的折射率n大致通過下式計算n=(nxXx+IlyXy)/(X+y)條件是iV二氧化硅膜對波長為550nm的光的折射率(約1.46)x:二氧化硅在薄膜中的含量(摩爾比)ny:ITO膜對波長為550nm的光的折射率(其中銦的含量和錫的含量的摩爾比是9:1的情況下約為2.00)y:薄膜中ITO的含量(摩爾比)比如，當(dāng)薄膜中的ITO的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是1:9時，薄膜對波長為550nm的光的折射率約為1.51。當(dāng)薄膜中的二氧化硅的含量和ITO的含量的摩爾比是26:1=0.96:0.04時，可以獲得折射率為1.48的薄膜。已發(fā)現(xiàn)，當(dāng)比較由上述等式計算的折射率與從下列實施例得到的薄膜的折射率時，所有的折射率基本上相同，但是，由等式計算的折射率略高于實際得到的薄膜的折射率。推測這是由于實際得到的薄膜的密度的作用，或者是薄膜中含有的除ITO和二氧化硅之外的其他元素的作用。考慮到這些作用，假定當(dāng)薄膜中二氧化硅的含量和ITO的含量的摩爾比是0.94:0.06時，可以得到折射率為1.48的薄膜。紅外線阻隔膜12中的ITO顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到2.3:7.7。因而，紅外線阻隔膜12對波長為550nm的光的折射率可以是1.48到1.57。對波長為550nrn的光的折射率為1.48到1.57的紅外線阻隔膜12形成于上述對波長為550nrn的光的折射率為1.50到1.55的鈉藥硅玻璃的表面上，因而紅外線阻隔膜12和鈉鈣硅玻璃的表面對波長為550nm的光的折射率之間的差可以是0.07或更小。ITO顆粒的粒徑是100nm或更小，優(yōu)選為40nm或更小，更優(yōu)選為1到40nm。調(diào)節(jié)ITO顆粒的粒徑，以提高阻隔紅外線的效率并防止由大尺寸的顆粒引起的渾濁的發(fā)生。另外，使用對波長為550nm的光具有高紅外線阻隔性能和相對較高的折射率的材料(比如ITO顆粒)作為紅外線阻隔顆粒，以使ITO顆粒含量相對較低的紅外線阻隔膜12保持紅外線阻隔性能，并減少表觀上的問題，比如在形成有紅外線阻隔膜12的玻璃板表面上的反射色隨著與玻璃板11的角度而變化的問題，或者即使與玻璃板11的角度相同，形成于玻璃板表面上的紅外線阻隔膜12的厚度差別引起反射色的變化的問題。當(dāng)通過浮法生產(chǎn)玻璃板11時，如上述參考圖1所描述的，玻璃板11的玻璃板表面(底面)lla含有錫，玻璃板表面(頂面)llb基本不含錫。一般地，底面lla含錫，并因此比基本不含錫的頂面11b具有更高的折射率。具體地，頂面lib對波長為550nm的光的折射率是1.50到1.52，而底面11a對波長為550nm的光的折射率是1.53到1.55。因此，當(dāng)在玻璃板表面的頂面lib上形成對波長為550nm的光的折射率為1.48到1.54的紅外線阻隔膜12(紅外線阻隔膜12中ITO顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到1.8:8.2)時，紅外線阻隔膜12和頂面lib對波長為550nm的光的折射率之間的差可以是0.04或更小。另一方面，當(dāng)在玻璃板表面的底面lla上形成對波長為550nm的光的折射率為1.51到1.57的紅外線阻隔膜12(紅外線阻隔膜12中的ITO顆粒的含量和二氧化硅的含量的摩爾比是1.2:8.8到2.3:7.7)時，紅外線阻隔膜12和底面11a對波長為550nm的光的折射率之間的差可以是0.04或更小。應(yīng)當(dāng)注意，紅外線阻隔顆粒不限于ITO顆粒，也可使用其他具有上述摩爾比的紅外線阻隔顆粒。紅外線阻隔膜12和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率之間的較小的差別可以較顯著地減少表觀上的問題，比如形成有紅外線阻隔膜12的玻璃板表面上的反射色隨著與玻璃板11的角度而變化，或者即使與玻璃板的角度相同，在玻璃板表面上形成的紅外線阻隔膜12的厚度的差別引起反射色的變化。因而，紅外線阻隔膜12和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率之間的差優(yōu)選為較小，為0.02或更小。對波長為550nm的光的折射率是在可見光范圍內(nèi)的折射率的代表值，因為550nm的波長基本上是可見光范圍內(nèi)的中心波長，且是對人眼最敏感的波長。下面將描述紅外線阻隔膜12和玻璃板表面之間的折射率的差，和由于與玻璃板11的角度和紅外線阻隔膜12的厚度差別的反射色的變化之間的關(guān)系。圖2A-2D的曲線圖顯示了在370到780nm的波長范圍內(nèi)測定的玻璃板表面的反射率的結(jié)果，在玻璃板表面上形成有紅外線阻隔膜12，該紅外線阻隔膜12和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率的差約為0.01到0.10。圖2A顯示了紅外線阻隔膜12的厚度約為500nm的情況，圖2B顯示了紅外線阻隔膜12的厚度約為750nm的情況，圖2C顯示了紅外線阻隔膜12的厚度約為1000nm的情況，且圖2D顯示了紅外線阻隔膜12的厚度約為2000nm的情況。實線顯示折射率的差約為0.01的情況，虛線顯示折射率的差約為0.10的情況，縱軸顯示光的反射率，而橫軸顯示光的波長。在圖2A-2D中，具有任何厚度和任何折射率差的紅外線阻隔膜12顯示出增大或減小，即對光的反射率根據(jù)光的波長的變化重復(fù)地增大和減小。然而，對于與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率差約為0.10的紅外線阻隔膜12，對光的反射率的變化周期更短，且折射率的最大值和與最大值相鄰的最小值之間的差大于與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率差約為0.01的紅外線阻隔膜12的情況。對于與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率約為0.10的較大的差別的紅外線阻隔膜12，反射率根據(jù)厚度變化的增大和減小性也顯著變化。這說明，對于與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率約為0.10的較大的差別的紅外線阻隔膜12，反射色可能根據(jù)紅外線阻隔膜12的厚度的變化而變化。入射光到玻璃板11的垂線的較大角度(入射角)提供了較長的通過紅外線阻隔膜12的光路。因此，與厚的紅外反射膜12相比，較大的入射角提供了更為相似的光學(xué)性質(zhì)。對于與玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率差約為0.10的紅外線阻隔膜12，反射色可能根據(jù)厚度的變化而變化，因此反射色可根據(jù)與玻璃板11的角度而變化。因此，其上形成有紅外線阻隔膜12的玻璃板表面對波長為400到600nrn的光的反射率的最大值和最小值之間的差別優(yōu)選為2.0%或更小，優(yōu)選為1.5%或更小，更優(yōu)選為1.0%或更小，從而減少表觀上的問題，比如其上形成有紅外線阻隔膜12的玻璃板表面上的反射色根據(jù)與玻璃板11的角度而變化，或者甚至與玻璃板11的角度相同，玻璃板表面上形成的紅外線阻隔膜12的厚度差別(比如，30nm)引起反射色的變化。在根據(jù)實施方案的在其上具有薄膜的玻璃板10中，可向紅外線阻隔膜12中加入其他高性能材料(比如紫外線吸收劑)。在根據(jù)實施方案的其上形成有薄膜的玻璃板10中，可向紅外線阻隔膜12中加入ITO顆粒和二氧化硅組分之外的添加劑(比如有機(jī)物)。加入有機(jī)物可以増大ITO顆粒的分散能力，并可防止當(dāng)通過溶膠-凝膠過程形成紅外線阻隔膜12時紅外線阻隔膜12中發(fā)生破裂。有機(jī)物的含量沒有限制，但優(yōu)選為紅外線阻隔膜12的總質(zhì)量的60質(zhì)量％或更小。這是因為在紅外線阻隔膜12中的有機(jī)物的含量超過60質(zhì)量％過高，以至于紅外線阻隔膜12的硬度不足。另外，有機(jī)物的含量優(yōu)選為15質(zhì)量％或更小。這是因為當(dāng)有機(jī)物的含量超過15質(zhì)量％,ITO顆粒的含量和二氧化硅的含量的比值需要考慮有機(jī)物的存在。除了ITO顆粒，還可使用含銻氧化錫(ATO)、鋁摻雜的氧化鋅(AZO)顆粒、銦摻雜的氧化鋅(IZO)顆粒、錫摻雜的氧化鋅顆粒、硅摻雜的氧化鋅顆粒、6-硼化鑭顆?；?-硼化鈰顆粒。圖3的視圖說明了在圖1中的玻璃板11的頂面lib上形成紅外線阻隔膜12的方法。在圖3中，用玻璃板固定組件14將玻璃板11豎直固定，使用噴嘴15等將紅外線阻隔液16噴射在玻璃板11的上部，并且噴射在玻璃板11的上部的紅外線阻隔液16豎直流下，并涂布在玻璃板11上(澆涂法)。通過在30%RH的相對濕度和2(TC的溫度的環(huán)境下，用澆涂法將紅外線阻隔液16涂在鈉鈣硅玻璃基底(600mmx600mm)的表面上，來制備其上形成有薄膜的玻璃板10，然后在200到600。C下進(jìn)行熱處理。涂布方法不限于澆涂，也可以是噴涂、浸涂、輥涂或絲網(wǎng)印刷(screenprinting)。下面將描述本發(fā)明的實施例。將聚乙二醇(由KANTOCHEMICALCo.，Inc.生產(chǎn)的PEG400):0.036g、純水:5.86g、聚醚磷酸酯基表面活性劑(由LubrizolJapanLtd.生產(chǎn)的Solsperse41000)作為大分子分散劑:0.162g，和變性酒精(denaturedalcohol)(由JapanAlcoholTradingCo.，Ltd.生產(chǎn)的Solmix(注冊商標(biāo))AP-7(下稱"AP-7，，)):12.44g以此順序加入溶液中，并攪拌一分鐘，然后，向上述溶液中加入加有1質(zhì)量％的濃鹽酸(由KANTOCHEMICALCo.，Inc.生產(chǎn))的AP-7:3.00g，然后攪拌一分鐘。然后，向上述溶液中加入四乙氧基硅烷(由Shin-EtsuChemicalCo.，Ltd.生產(chǎn)的KBE-04,二氧化硅組分的含量是28.8質(zhì)量％)，在室溫下攪拌四小時。然后，在上述溶液中加入通過以2:3的質(zhì)量比混合ITO顆粒和乙醇并攪拌四小時而獲得的ITO分散劑，并攪拌三十分鐘，從而獲得紅外阻隔液16。作為ITO分散劑中的ITO顆粒，使用粒徑為10到20nm的顆粒。作為玻璃板11，使用清洗后的4mm厚的鈉鈣硅玻璃基底(具有吸收紫外線性能的綠玻璃)。在30%RH的相對濕度和2(TC的溫度的環(huán)境下通過澆涂法將紅外線阻隔液16涂在玻璃板11(600mmx600mm)的表面上。下面描述ITO的含量和二氧化硅的含量的摩爾比調(diào)節(jié)至1:9到2.3:7.7的實施例1到4，和ITO的含量和二氧化硅的含量的摩爾比調(diào)節(jié)至3.1:6.9的比較例l。ITO的含量與二氧化硅的含量的比值通過檢測銦(In)、錫(Sn)和硅(Si)的光電子強(qiáng)度，并通過在所使用的裝置中檢測到的光電子強(qiáng)度和相對靈敏度系數(shù)計算銦(In)和錫(Sn)的總和與硅(Si)的原子濃度的比值(In+Sn:Si)的原子濃度百分比而獲得。分析方法如下所述。作為預(yù)處理，切割樣品，然后使用鉬罩將其固定在樣品臺。然后，用分析裝置在如下所述的分析條件和刻蝕條件下通過X射線光電子譜分析在深度方向進(jìn)行組成分析。作為分析裝置，使用由ULVAC-PHI，INC.生產(chǎn)的X射線光電子譜分析裝置ESCA-5600ci。對于分析條件，使用單色X射線源(A1單色2mm細(xì)絲)作為X射線源(電流X射線陽極)，陽極能量設(shè)為2.3828J(1486.6eV)，電能(陽極功率)設(shè)為150W，電壓(X射線電壓)設(shè)為14kV，且出射角(臺角(stageangle))設(shè)為45。。對于刻蝕條件，用氬離子濺射作為刻蝕法，加速電壓(束電壓)設(shè)為3.0kV，光柵設(shè)為4x4mm，濺射速率(侵蝕速度)設(shè)為約1.9nm/分鐘(Si02膜的換算值)。根據(jù)通過X射線光電子譜分析在深度方向的組成分析的結(jié)果計算紅外線阻隔膜中的組成，尤其是ITO和二氧化硅的含量，并以紅外線阻隔膜深度方向的中心周圍的各組分來表示組成(含量)。作為實施例l，加入2.25gITO分散劑和6.25g四乙氧基硅垸，以制備ITO的含量和二氧化硅的含量的質(zhì)量比為3.3:6.7且摩爾比為1:9的紅外線阻隔液，并將紅外線阻隔液涂布在玻璃板的頂面，以制備其上形成有紅外線阻隔膜的其上形成有薄膜的玻璃板。圖4的曲線圖顯示了實施例1中的銦(In)、錫(Sn)和硅(Si)的原子濃度，縱軸顯示原子濃度(％)，橫軸顯示濺射時間(分鐘)。在圖4中，銦(In)和錫(Sn)的和與硅(Si)的原子濃度比值(In+Sn:Si)約為1:9，因而發(fā)現(xiàn)ITO的含量與二氧化硅的含量的摩爾比約為1:9。在實施例2中，加入3.07gITO分散劑和5.13g四乙氧基硅烷，以制備ITO的含量和二氧化硅的含量的質(zhì)量比為4.5:5.5且摩爾比為1.6:8.4的紅外線阻隔液，并將紅外線阻隔液涂布在玻璃板的頂面，以制備其上形成有紅外線阻隔膜的其上形成有薄膜的玻璃板。在實施例3中，加入3.07gITO分散劑和5.13g四乙氧基硅垸，以制備ITO的含量和二氧化硅的含量的質(zhì)量比為4.5:5.5且摩爾比為1.6:8,4的紅外線阻隔液，并將紅外線阻隔液涂布在玻璃板的底面，以制備其上形成有紅外線阻隔膜的其上形成有薄膜的玻璃板。在實施例4中，加入3.89gITO分散劑和4.01g四乙氧基硅垸，以制備ITO的含量和二氧化硅的含量的質(zhì)量比為5.7:4.3且摩爾比為2.3:7.7的紅外線阻隔液，并將紅外線阻隔液涂布在玻璃板的底面，以制備其上形成有紅外線阻隔膜的其上形成有薄膜的玻璃板。在比較例1中，加入4.50gITO分散劑和3.17g四乙氧基硅烷，以制備ITO的含量和二氧化硅的含量的質(zhì)量比為6.6:3.4且摩爾比為3上6.9的紅外線阻隔液，并將紅外線阻隔液涂布在玻璃板的頂面，以制備其上形成有紅外線阻隔膜的其上形成有薄膜的玻璃板。對于實施例1到4和比較例l，使用橢圓偏振光譜儀(由J.A.WoollamCo.，Inc.生產(chǎn)的VASE)測量紅外線阻隔膜對波長為550nm的光的折射率，根據(jù)用分光光度計(由HitachiLtd.生產(chǎn)的分光光度計U-4000)測得的透射率和反射率計算玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率，并觀察光的干涉度。紅外線阻隔膜對波長為550nm的光的折射率用優(yōu)化光學(xué)模型參數(shù)的橢圓偏振分析法(橢圓偏振光譜)由橢圓偏振光譜儀得到Psi(v)/)和Ddta(A)，并計算光學(xué)常數(shù)(折射率和衰減系數(shù))來評價。玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率，紅外線阻隔膜對波長為550nm的光的折射率，紅外線阻隔膜和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率之間的差，以及光的干涉度的結(jié)果顯示在表l中。對于各實施例中的其上形成有薄膜的玻璃板，使用分光光度計(由HitachiLtd.生產(chǎn)的分光光度計U-4000)測量玻璃板表面形成有厚度為約500nm、約750nm、約1000nm和約2000nm的紅外線阻隔膜的一側(cè)對波長為370到780nm的光的反射率和對波長為300到2100nm的光的透射率。測量結(jié)果顯示在圖5A-5D和6A-6D中。各實施例中的其上形成有薄膜的玻璃板上的紅外線阻隔膜的厚度通過切割玻璃板，并使用場發(fā)射型掃描電子顯微鏡(SEM)(由HitachiLtd.生產(chǎn)，型號S-4700)觀察切割后的玻璃板的玻璃板表面上形成的紅外線阻隔膜的截面來進(jìn)行測量。對于該厚度測量，用Pt-Pd膜涂鍍測量樣品以便導(dǎo)電。對于測量條件，加速電壓為5kV。按照上述方法測量厚度后，用分光光度計測量其上形成有具有上述厚度(約500nm、約750nm、約1000nm和約2000nm)的薄膜的樣品位置附近的玻璃板的光學(xué)性質(zhì)。其上形成有各種厚度的紅外線阻隔膜的玻璃板表面對波長為400到600nm的光的反射率的最大值和最小值，以及最大值和最小值之間的差顯示于表2中。測量入射角為12。的入射光的反射率。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>表2<table>tableseeoriginaldocumentpage15</column></row><table>根據(jù)表l，如實施例1到4，可以發(fā)現(xiàn)，調(diào)節(jié)紅外線阻隔膜中的ITO的含量和二氧化硅的含量的摩爾比至1:9到2.3:7.7，可減小紅外線阻隔膜和玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率之間的差。根據(jù)表2，如實施例1到4，可以發(fā)現(xiàn)，調(diào)節(jié)紅外線阻隔膜中的ITO的含量和二氧化硅的含量的摩爾比至1:9到2.3:7.7，可減小其上形成有紅外線阻隔膜的玻璃板表面對波長為400到600nm的光的反射率的最大值和最小值的差至1.5%或更小。權(quán)利要求1.其上形成有薄膜的玻璃板，在玻璃板的至少一個表面上形成有薄膜，其特征在于所述薄膜是含有紅外線阻隔顆粒和二氧化硅的300到3000nm厚的膜，且紅外線阻隔顆粒的含量與二氧化硅的含量的摩爾比是0.6:9.4到2.3:7.7。2.權(quán)利要求1的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于所述薄膜對波長為550nrn的光的折射率是1.48到1.57。3.權(quán)利要求1的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于其上待形成所述薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率是1.50到1.55。4.權(quán)利要求3的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于其上待形成所述薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率是1.50到1.52，且所述薄膜對波長為550nm的光的折射率是1.48到1.54。5.權(quán)利要求3的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于其上待形成所述薄膜的玻璃板表面對波長為550nm的光的折射率是1.53到1.55，且所述薄膜對波長為550nm的光的折射率是1.51到1.57。6.權(quán)利要求1的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于所述紅外線阻隔顆粒是含銦氧化錫(ITO)顆粒。7.權(quán)利要求1的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于其上形成有所述薄膜的玻璃板表面對波長為400到600nm的光的反射率的最大值和最小值的差是2.0%或更小。8.權(quán)利要求1的其上形成有薄膜的玻璃板，其特征在于其上形成有所述薄膜的玻璃板表面對波長為IOOO到1600nm的光的透射率是30。/。或更小，x且其上形成有所述薄膜的玻璃板表面對1600到2500nm的波長的光的透射率是20%或更小。全文摘要本發(fā)明提供了其上形成有薄膜的玻璃板，它可以減小由于與其上形成有薄膜的玻璃板表面的角度變化而引起的反射色的變化，即使在玻璃板表面形成了具有厚度差異的不均勻薄膜也可以減小反射色的變化。其上形成有薄膜的玻璃板10包括具有玻璃板表面(底面11a和頂面11b)的玻璃板11和薄膜(紅外線阻隔膜)12。紅外線阻隔膜12形成于玻璃板11的頂面11b上。紅外線阻隔膜12的厚度為300到3000nm。紅外線阻隔膜12中的ITO顆粒的含量與二氧化硅的含量的摩爾比是0.6∶9.4到2.3∶7.7。文檔編號C03C17/25GK101365658SQ20078000200公開日2009年2月11日申請日期2007年1月11日優(yōu)先權(quán)日2006年1月16日發(fā)明者吉田守,室町隆,小川永史,巖井信樹申請人:日本板硝子株式會社