專利名稱：一種單向透光玻璃真空鍍膜方法、專用設(shè)備及制品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及玻璃制品加工技術(shù)，具體的涉及單向透光玻璃真空鍍 膜方法、專用設(shè)備及制品。
技術(shù)背景目前，現(xiàn)有技術(shù)中的單向透光真空鍍膜玻璃及其制品， 一般是采用 在玻璃材料中加入金屬離子等方法活動，如在玻璃制造材料中加入氧 化銀、氧化銅等金屬化合物，而采用這種方法獲得的玻璃，其制造成 本較高，且因為金屬離子的混合均勻度、玻璃材料的厚度及玻璃材料 表面特性等因素的差異，使得同一制品各處的單向透光性也存在一定 的差異，各種立體、曲面制品表現(xiàn)的尤為明顯，并且制造成本較高， 不易回收重新加工利用?，F(xiàn)有技術(shù)中的玻璃鍍膜制品，其鍍膜厚度大多在100 300埃之間， 1埃=10 —1(}米， 一般為不透光，或透光度很差，均不能直接實現(xiàn)單向 透光效果。現(xiàn)有技術(shù)中的單向透光真空鍍膜玻璃工藝品，尤其是各種立體構(gòu) 件，多數(shù)是采用平面單向透光真空鍍膜玻璃切割后粘結(jié)制成，其工序 較多，材料及能源消耗均較高，生產(chǎn)效率卻很低。在目前常用的蒸鍍、濺鍍、分子束外延等真空鍍膜方法鍍膜方法 中，其鍍膜設(shè)備通常大多使用單一固定的鍍膜源，然而，這種設(shè)備一 次僅能加工一個制品，其加工效率很低，不能滿足大批量生產(chǎn)的需要?，F(xiàn)有的激光蝕刻技術(shù)，其一般是直接導(dǎo)入圖案數(shù)據(jù)就進(jìn)行蝕刻， 而沒有根據(jù)制品表面的曲度、粗糙度等數(shù)據(jù)，對該圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、 調(diào)整，因而制得的圖案會發(fā)生一些形變，精度較低、效果較差。采用 現(xiàn)有技術(shù)獲得的單向透光真空鍍膜玻璃制品，其鍍膜層一般均為金屬離子或鍍膜材料本身的色彩，而不能自由將其調(diào)節(jié)為其他色彩。 發(fā)明內(nèi)容針對現(xiàn)有單向透光真空鍍膜玻璃制造技術(shù)所存在的上述不足，本 發(fā)明目的之一在于，提供一種單向透光玻璃真空鍍膜方法；本發(fā)明的目的之二在于，提供一種用來實現(xiàn)前述的方法的專用鍍 膜設(shè)備；本發(fā)明的目的還在于，提供一種采用前所述的單向透光玻璃真空 鍍膜方法的制品。本發(fā)明為實現(xiàn)上述目的，所提供的技術(shù)方案是 一種單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在于，其包括如下步驟-(1) 制備、清潔玻璃胚體；(2) 測量玻璃胚體一側(cè)面的形狀及表面積，并據(jù)其計算為其鍍 上厚度為5 85埃的鍍膜層時所需鍍膜時間或所需鍍膜材料的重量， 及鍍源電加熱架的空間位置；(3) 將玻璃胚體置入真空，根據(jù)步驟(2)得到的鍍源位置、時 間或鍍膜材料重量，控制鍍源對其一側(cè)表面鍍膜，在該胚體一側(cè)表面 上形成厚度為5 85埃的均勻的鍍膜層；(4) 在所述玻璃胚體的另一側(cè)面上，涂覆一保護(hù)漆層；(5) 在所述玻璃胚體的鍍膜層的外側(cè)，涂覆一保護(hù)漆層。 所述的步驟(3)，其還包括如下步驟(31) 在所述玻璃胚體的鍍膜層的內(nèi)側(cè)，涂覆一保護(hù)漆層；(32) 將鍍源電加熱架置于玻璃胚體一側(cè)表面下方的空間位置， 對該側(cè)表面鍍膜，使該側(cè)表面的各部位上，均形成一厚度為5 85埃 的鍍膜層。所述的保護(hù)漆層為有色或無色，其可以為紅、黃、綠等各種可見 色彩。所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在于，其還包括如下 步驟(6)在該鍍膜層上鏤刻成圖，具體包括-(61) 編程，將基本圖案信息輸入計算機(jī)；(62) 將該基本圖案信息轉(zhuǎn)換為矢量信息；(63) 根據(jù)步驟(2)得到的胚體側(cè)面形狀及曲度，對該基本圖案 數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、調(diào)整。(64) 是根據(jù)步驟(63)獲得的數(shù)據(jù)，控制與計算機(jī)聯(lián)機(jī)的激光 蝕刻設(shè)備，用激光束掃描所述胚體側(cè)面上的鍍膜層，成圖。一種實現(xiàn)前述單向透光玻璃真空鍍膜方法的專用設(shè)備，其包括相 互扣合的上、下殼體，下殼體上設(shè)有電插座，其特征在于，該下殼體 中部設(shè)置有一水平托板，該托板上開有復(fù)數(shù)個通孔；下殼體底部設(shè)有 一絕緣電路板，該電路板上端面對應(yīng)所述通孔位置，分別設(shè)有復(fù)數(shù)個 鍍膜電加熱架，且每一鍍膜電加熱架均穿過所述通孔并向上伸出；所 述各電鍍加熱架的兩端分別連接電源的一極，并聯(lián)后連接在所述電插 座上。前述的專用設(shè)備，其特征在于，所述的上或下殼體上，還設(shè)有一 用來抽真空的開口；所述的上或下殼體之間的扣合面上，還設(shè)有密封 圈。所述下殼體的底面上還設(shè)有一螺孔， 一螺栓自外部穿過該螺孔， 其前端面抵住所述的絕緣電路板的底面中部，通過其旋轉(zhuǎn)，用以調(diào)節(jié) 該絕緣電路板的位置升降，從而調(diào)整電加熱架與放置在托板上的玻璃 胚體的相對位置，即調(diào)整鎢絲與玻璃胚體待鍍膜表面的相對位置與距 離。一種采用前述的單向透光玻璃真空鍍膜方法的制品，其包括一玻 璃胚體，其一側(cè)表面上，均設(shè)有一厚度為5 85埃的鍍膜層；其表面 為曲面和/或毛面。前述的制品，其特征在于，在所述玻璃胚體為一平面構(gòu)件，或為 瓶狀、杯狀、盤狀或其他立體構(gòu)件之一，或其組合物。本發(fā)明的優(yōu)點在于由于本發(fā)明提供的方法，是通過控制鍍膜厚 度，直接在任意透明玻璃胚體一側(cè)表面上形成特定厚度的鍍膜層，來實現(xiàn)單向透光的效果，而無需改變玻璃制造材料及制品結(jié)構(gòu)，方法簡便易行，達(dá)到了意想不到的效果；本發(fā)明提供了兩種具體的方法，即 控制鍍膜時間或控制鍍膜材料重量，并配合鍍源電加熱架的空間位置， 可以使鍍膜層精確、均勻的附著在玻璃胚體的一側(cè)表面上，其厚度可 以控制在要求的范圍內(nèi)；本發(fā)明通過采用涂覆有色保護(hù)漆層的方式， 可以隨意調(diào)整、改變鍍膜材料原有色彩，使制品獲得各種豐富的色彩 變化，適應(yīng)不同的需要；本發(fā)明還可以在鍍膜層上獲得鏤空圖案，且 獲得的圖案精度高、效果好；本發(fā)明提供的設(shè)備，可以一次同時對多 個制品進(jìn)行鍍膜操作，對形狀各異的制品及毛面制品也是一次完成加 工，生產(chǎn)效率高；本發(fā)明提供的制品，其藝術(shù)效果好，鏤空圖案立體 感強(qiáng)、仿真度高，且不易變形或損壞；尤其在對杯體等立體構(gòu)件的加 工制造過程中，可一次性鍍膜完成，而無需切割、粘結(jié)等工序，整體 美觀、耐用。下面結(jié)結(jié)合附圖與實施例，對本發(fā)明進(jìn)一步說明。


圖1是本發(fā)明實施例1提供的專用設(shè)備全剖結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是本發(fā)明實施例1提供的制品立體結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3是圖2的縱向全剖放大結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4是本發(fā)明實施例2提供的制品立體結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5是圖2的主視結(jié)構(gòu)示意圖。 圖6是圖5的縱向全剖放大結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
實施例1:參見附圖1、圖2及圖3，本實施例提供的一種單向透光玻璃真空鍍膜方法，其包括如下步驟(1) 制備、清潔玻璃胚體20，其為一四方型杯狀體，口徑約10CM, 高度12CM，壁厚1CM，上部留有一開口；(2) 測量玻璃胚體20 —側(cè)面16的形狀及其表面積，并據(jù)其計 算為其鍍上厚度為5 85埃的鍍膜層12時所需鍍膜時間，或所需鍍膜材料鋁條的重量，及鍍源電加熱架6的空間位置；本實施例中，是計算為其鍍上厚度為5 85埃的鍍膜層12時所 需通電鍍膜時間為0. 5 2秒，鍍源電加熱架6的空間位置為將杯口倒 置后，在杯口截面幾何中心線土5CM處(即中心線上、杯口下方內(nèi)側(cè) 5CM處或其外側(cè)5CM處)；(3)將玻璃胚體20置入真空，根據(jù)步驟(2)得到的鍍源位置、 時間或鍍膜材料重量，控制鍍源對其一側(cè)表面16鍍膜，在該胚體20 一側(cè)表面16上形成厚度為5 85埃的均勻的鍍膜層12;(31) 在所述玻璃胚體20的鍍膜層12的內(nèi)側(cè)，即在鍍膜層12與 胚體20之間，涂覆一內(nèi)保護(hù)漆層ll;(32) 將鍍源電加熱架6置于玻璃胚體10 —側(cè)表面16下方的空 間位置，將鍍膜材料一一鋁金屬絲置于電加熱架6的鉤絲5上，通電， 對該側(cè)表面16鍍膜，使該側(cè)表面16的各部位上，均形成一厚度為5 85埃的鍍膜層12。(4)在所述玻璃胚體20的鍍膜層12的外側(cè)，涂覆一外側(cè)保護(hù)漆 層13。所述的保護(hù)漆層ll、 13，其可以為有色或無色透明涂層，其有色 時，可以為紅、黃、綠等各種可見色彩，本實施例中其均為無色。具體參見圖1， 一種實現(xiàn)前述單向透光玻璃真空鍍膜方法的專用 設(shè)備30，其包括相互扣合的上殼體2、下殼體1，下殼體1上設(shè)有電 插座，該下殼體1中部設(shè)置有一水平托板3，該托板3上開有復(fù)數(shù)個 通孔4;下殼體1底面上方設(shè)有一絕緣電路板7，該電路板7上端面對 應(yīng)所述通孔位置，分別設(shè)有復(fù)數(shù)個鍍膜電加熱架6，且每一鍍膜電加 熱架6均穿過所述通孔4并向上伸出；所述各電鍍加熱架6的上部為 一鎢絲5，其兩端分別連接電源的一極，并聯(lián)后連接在所述電插座上。 上殼體2或下殼體1上，還設(shè)有一用來抽真空的開口；上殼體2或下 殼體l之間的扣合面上，還設(shè)有密封圈8。上述下殼體1底面中部位置上還設(shè)有一螺孔11， 一螺栓9自外部端面抵住上述的絕緣電路板7的底面中部，通過 其旋轉(zhuǎn)，可以調(diào)節(jié)該絕緣電路板7的位置升降，從而調(diào)整電加熱架6 與放置在托板3上的玻璃胚體的相對位置，即調(diào)整鍍源一一鉤絲5與 玻璃胚體待鍍膜表面的相對位置與距離。為保持密封效果，在螺孔外 側(cè)還設(shè)有一密封圈10。參見圖2、圖3， 一種采用前述的真空鍍膜成圖方法的制品，其包 括一杯狀玻璃胚體20，該胚體20的內(nèi)側(cè)表面16為一曲面，同時也是 一毛面；在該內(nèi)側(cè)表面16上，設(shè)有一側(cè)表面上，設(shè)有一厚度為5 85 埃、并置有鏤空圖案的鍍膜層12;在該內(nèi)側(cè)表面上，由內(nèi)向外依次設(shè) 有一內(nèi)保護(hù)漆層11、鍍膜層12 (含鏤空圖案)、外保護(hù)漆層13;保護(hù) 漆層ll、 13為一油漆等有機(jī)化合物涂層，且可以為有色或無色。實施例2:參見圖4、圖5及圖6，本實施例提供的一種單向透光 玻璃真空鍍膜方法，其基本與實施例1相同，其不同之處在于如下步驟(1) 制備、清潔玻璃胚體20，其為一碟狀體，口徑約30CM，高 度8CM，壁厚為0.8CM，其上部留有一開口；(2) 測量玻璃胚體20 —側(cè)面16的形狀及其表面積，并據(jù)其計 算為其鍍上厚度為5 85埃的鍍膜層12時所需鍍膜材料鋁條的重量， 及鍍源電加熱架6的空間位置；本實施例中，是計算為其鍍上厚度為5 85埃的鍍膜層12時所 需鋁條重量為0. 2 3克，鍍源電加熱架6的空間位置為將碟口倒置后， 在碟口截面幾何中心線一2 —5CM處(即中心線上、碟口下方3CM處)；(3)將玻璃胚體20置入真空，根據(jù)步驟(2)得到的鍍源位置、 鍍膜材料重量，控制鍍源通電，使鍍膜材料鋁條充分蒸發(fā)，對其一側(cè) 表面16鍍膜，在該胚體20 —側(cè)表面16上形成厚度為5 85埃的均勻 的鍍膜層12;具體地，是將鍍源電加熱架6置于玻璃胚體10 —側(cè)表 面16下方的空間位置，將鍍膜材料一一鋁金屬絲置于電加熱架6的鉤 絲5上，通電，對該側(cè)表面16鍍膜，使該側(cè)表面16的各部位上，均形成一厚度為5 85埃的鍍膜層12。(4)在所述玻璃胚體的另一側(cè)面15上，涂覆一保護(hù)漆層14。所述的保護(hù)漆層14，本實施例中為無色透明，其他實施例中也可 為有色透明涂層，其顏色可以為紅、黃、綠等各種可見色彩之一。本實施例提供的實現(xiàn)前述單向透光玻璃真空鍍膜方法的專用設(shè)備 30，其與實施例l相同；本實施例提供的制品，其基本結(jié)構(gòu)也與實施 例1相同，其不同之處在于，在所述玻璃胚體20的外側(cè)面15上，涂 覆有外側(cè)面保護(hù)漆層14。本發(fā)明其他實施例中，所述玻璃胚體30，可以為一面鍍膜而另一 面不鍍膜的玻璃板等平面構(gòu)件，或為瓶狀、盤狀及其他立體構(gòu)件之一， 或其組合物；所述的保護(hù)漆層ll、 13、 14的色彩，可以根據(jù)不同需要 調(diào)配，為無色透明或其他任意透明彩色；電鍍材料還可以是鋁之外的 其他金屬或合金，如金、銅等。根據(jù)本發(fā)明上述實施例所述，具備與本實施例相同或相似技術(shù)特 征的單向透光玻璃真空鍍膜方法、專用設(shè)備及制品，均在本發(fā)明的保 護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1. 一種單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在于，其包括如下步驟(1)制備、清潔玻璃胚體；(2)測量玻璃胚體一側(cè)面的形狀及表面積，并據(jù)其計算為其鍍上厚度為5～85埃的鍍膜層時所需鍍膜時間或所需鍍膜材料的重量，及鍍源電加熱架的空間位置；(3)將玻璃胚體置入真空，根據(jù)步驟(2)得到的鍍源位置、時間或鍍膜材料重量，控制鍍源對其一側(cè)表面鍍膜，在該胚體一側(cè)表面上形成厚度為5～85埃的均勻的鍍膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在 于，其還包括如下步驟(4) 在所述玻璃胚體的另一側(cè)面上，涂覆一保護(hù)漆層；(5) 在所述玻璃胚體的鍍膜層的外側(cè)，涂覆一保護(hù)漆層。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在 于，所述的步驟(3)，其還包括如下步驟(31) 在所述玻璃胚體的鍍膜層的內(nèi)側(cè)，涂覆一保護(hù)漆層；(32) 將鍍源電加熱架置于玻璃胚體一側(cè)表面下方的空間位置， 對該側(cè)表面鍍膜，使該側(cè)表面的各部位上，均形成一厚度為5 85埃 的鍍膜層。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特 征在于，所述的保護(hù)漆層為有色或無色。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在 于，其還包括如下步驟(6) 在該鍍膜層上鏤刻成圖，具體包括-(61) 編程，將基本圖案信息輸入計算機(jī)；(62) 將該基本圖案信息轉(zhuǎn)換為矢量信息；(63) 根據(jù)步驟(2)得到的胚體側(cè)面形狀及曲度，對該基本圖案數(shù)據(jù)進(jìn)行運(yùn)算、調(diào)整。(64)是根據(jù)步驟(63)獲得的數(shù)據(jù)，控制與計算機(jī)聯(lián)機(jī)的激光 蝕刻設(shè)備，用激光束掃描所述胚體側(cè)面上的鍍膜層，成圖。
6、 —種實現(xiàn)權(quán)利要求l所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法的專用 設(shè)備，其包括相互扣合的上、下殼體，下殼體上設(shè)有電插座，其特征 在于，該下殼體中部設(shè)置有一水平托板，該托板上開有復(fù)數(shù)個通孔； 下殼體底部設(shè)有一絕緣電路板，該電路板上端面對應(yīng)所述通孔位置， 分別設(shè)有復(fù)數(shù)個鍍膜電加熱架，且每一鍍膜電加熱架均穿過所述通孔 并向上伸出；所述各電鍍加熱架的兩端分別連接電源的一極，并聯(lián)后 連接在所述電插座上。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的專用設(shè)備，其特征在于，所述的上或下 殼體上，還設(shè)有一用來抽真空的開口；所述的上或下殼體之間的扣合 面上，還設(shè)有密封圈。
8、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的專用設(shè)備，其特征在于，所述下殼體的 底面上還設(shè)有一螺孔， 一螺栓自外部穿過該螺孔，其前端面抵住所述 的絕緣電路板的底面中部，通過其旋轉(zhuǎn)，用以調(diào)節(jié)該絕緣電路板的位 置升降，從而調(diào)整電加熱架與放置在托板上的玻璃胚體的相對位置， 即調(diào)整鎢絲與玻璃胚體待鍍膜表面的相對位置與距離。
9、 一種采用權(quán)利要求1所述的單向透光玻璃真空鍍膜方法的制 品，其包括一玻璃胚體，其特征在于，其一側(cè)表面上，均設(shè)有一厚度 為5 85埃的鍍膜層。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的制品，其特征在于，所述玻璃胚體的 表面為曲面和/或毛面；該胚體為一平面構(gòu)件，或為瓶狀、杯狀、盤狀 或其他立體構(gòu)件之一，或其組合物。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種單向透光玻璃真空鍍膜方法，其特征在于，其包括如下步驟(1)制備、清潔玻璃胚體；(2)測量玻璃胚體一側(cè)面的形狀及表面積，并據(jù)其計算為其鍍上厚度為5～85埃的鍍膜層時所需鍍膜時間或所需鍍膜材料的重量，及鍍源電加熱架的空間位置；(3)將玻璃胚體置入真空，控制鍍源對其一側(cè)表面鍍膜，在該胚體一側(cè)表面上形成厚度為5～85埃的均勻的鍍膜層。本發(fā)明還提供了一種用來實現(xiàn)前述方法的專用設(shè)備，及采用前所述方法的制品。本發(fā)明的優(yōu)點在于由于本發(fā)明提供的方法，通過控制鍍膜層厚度的方法，達(dá)到單向透光的效果；本發(fā)明提供的專用設(shè)備生產(chǎn)效率高；本發(fā)明提供的制品，其藝術(shù)效果好、耐用。
文檔編號C03C17/34GK101279821SQ20081009419
公開日2008年10月8日 申請日期2008年5月8日 優(yōu)先權(quán)日2008年5月8日
發(fā)明者溫晉奕 申請人:溫晉奕