專利名稱：流體的、尤其是用于釉料的流體分配裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種流體分配裝置，尤其是通稱為"吸管"的釉料分 配裝置，所述分配裝置將會(huì)與通稱為"圓盤組"用于分布的裝置結(jié)合 使用，并涂敷一層涂料或釉料或其它裝飾性成分。
背景技術(shù)：
釉料涂敷裝置為人所共知，這種裝置包括整個(gè)圓柱形分布器主體， 其預(yù)先設(shè)置成圍繞上釉室內(nèi)部的旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)。
分布器主體或裝置包括圓柱形中心導(dǎo)管，在所述圓柱形中心導(dǎo)管 上同軸地用鍵固定一系列的圓盤，所述一系列圓盤彼此相互堆疊，以 限定上述圓柱體。
分配器主體或吸管可以插入中心導(dǎo)管的內(nèi)部，所述分配器主體具 有第一開口端部，且流體或釉料從所述第一開口端部供應(yīng)，且到達(dá)中 心導(dǎo)管的內(nèi)部。
分配器主體的第二端部與笫一端部軸向相對(duì)，該第二端部封閉， 并位于圓盤組的底部附近。
分配器主體側(cè)面的一部分，尤其是位于分布器裝置內(nèi)部的部分具 有多個(gè)徑向開口或孔，所有開口或孔都具有相同的孔徑，而與其軸向 位置無關(guān)。釉料從這些開口中排出。
導(dǎo)管與旋轉(zhuǎn)軸線同軸，所述導(dǎo)管沿著其軸向長(zhǎng)度具有多個(gè)軸向開 口，這些軸向開口使流體釉料能通過。
當(dāng)圓柱形主體以預(yù)定的速度圍繞旋轉(zhuǎn)軸線和分配器主體旋轉(zhuǎn)時(shí)， 流體被引入到分配器主體中，并朝向圓盤組的外部徑向分布，而且從 孔中排出并射向?qū)⒁嫌缘闹破贰?br> 現(xiàn)有技術(shù)中的這些裝置具有某些缺點(diǎn)或不利情況。首先，分配器主體相對(duì)于中心導(dǎo)管要求精確角定位，以便使釉料 能良好分布。
實(shí)際上，各開口通常以恒定間隔布置在分配器主體的一個(gè)或多個(gè) 基體上。在最關(guān)鍵的情況下，如果布置在單一基體上，分配器主體則 必須成角度地取向，這樣以便面對(duì)中心導(dǎo)管的下部。因?yàn)橛煞峙淦髦?體和分布器裝置構(gòu)成的系統(tǒng)位于上釉室的上部中，所以該角位置使釉 料的分布能優(yōu)選地朝向該室的下部取向，這里設(shè)有用于磚瓦的通路。 所述取向是實(shí)施困難的操作，而且在所需精度方面難以做到，因?yàn)槠?實(shí)施是將分配器主體插入圓盤組的中心導(dǎo)管中，而且不能目視控制具 有多個(gè)開口的基體所具有的實(shí)際位置。
在各基體本身之間，不同基體的孔間隔可以同相或可以交錯(cuò)。
在兩種情況下，都存在分配器主體沒有開口的一些部分橫過軸線。 因此，釉料沿著分配器主體軸線的分布不連續(xù)而且不均勻，并因此最 終上釉具有低標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量。
另外，由于阻礙從分配器主體開口朝徑向流出的釉料的流體流， 所以由圓盤組在旋轉(zhuǎn)時(shí)放入的空氣的流體流中觀察到有相當(dāng)大的紊 流。這種紊流也會(huì)造成釉料的分布的不均勻性。
分配器主體中孔的孔徑經(jīng)常與將要涂敷的釉料的量不是正確地成 比例，結(jié)果在調(diào)節(jié)和微調(diào)將要供應(yīng)到分配器主體的釉料流方面造成困 難。
尤其是在裝置暫停不用期間，釉料的沉積可能引起導(dǎo)管的孔和分 配器主體的開口逐漸堵塞，因此改變了被分布的實(shí)際釉料的量。
最后，開口在分配器主體上延續(xù)它的一定軸向長(zhǎng)度，該軸向長(zhǎng)度 總是相同且與圓盤組的軸向尺寸無關(guān)。在大多數(shù)情況下，分配器主體 上的開孔延續(xù)的長(zhǎng)度比圓盤組的長(zhǎng)度短，因而不充分和不足以保證釉 料的均勻分布。
另外，沒有基準(zhǔn)使分配器主體能沿著圓盤組的軸線正確地定位 在圓盤組內(nèi)部分配器主體的有孔部分經(jīng)常正確地縱向定心僅代表安裝 操作人員的精度。不太正確的聯(lián)接可能在圓盤組內(nèi)部引起釉料的分布不完全和不均勻，其結(jié)果是使裝置的功能不良。
不同類型的上釉室具有分配器主體的不同尺寸的連接系統(tǒng)。尤其 是，這些系統(tǒng)是在分配器主體的圓柱體上具有密封連接的不同額定直 徑的螺紋。已知的分配器主體采用具體結(jié)構(gòu)的解決方案，對(duì)于每個(gè)連 接系統(tǒng)具有圓柱體的不同直徑。因此，迫使設(shè)備操作人員對(duì)設(shè)備中存 在的每種類型的上釉室都具有可用的分配器主體。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的技術(shù)任務(wù)是提供一種流體分配裝置，尤其是用于釉料流 體分配裝置，這種分配裝置不具有現(xiàn)有技術(shù)的裝置中存在的上述缺點(diǎn)。
在技術(shù)任務(wù)的范圍內(nèi)，本發(fā)明的目的是可利用一種流體分配裝置， 尤其是釉料分配裝置，這種分配裝置使釉料能沿著圓盤組的整個(gè)的軸 向的長(zhǎng)度并在將要加工的制品上均勻而連續(xù)地分布。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是可利用一種流體分配裝置，尤其是釉料分 配裝置，這種分配裝置可容易地設(shè)置在分布裝置的內(nèi)部，尤其是圓盤 組的內(nèi)部，該分布裝置可適合于任何軸向尺寸的圓盤組和不同類型的 上釉室的連接系統(tǒng)。
最后，本發(fā)明的目的是實(shí)現(xiàn)一種流體分配裝置，尤其是釉料分配 裝置，這種分配裝置經(jīng)濟(jì)實(shí)用，且不要求很高的維護(hù)水平。
這些目的和此外另 一些目的將從下面的說明中更好地具有出來， 而基本上是通過一種流體分配裝置，.尤其是釉料分配裝置達(dá)到，這種 分配裝置具有在權(quán)利要求l中和/或與其有關(guān)的一個(gè)或多個(gè)從屬權(quán)利要 求中所述的特征。


流體分配裝置的另一些特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將從本文下面參照附圖所作的 詳細(xì)說明中更好地具有出來，所述附圖僅僅作為非限制性示例提出， 其中-.
圖l是本發(fā)明的釉料分配裝置的側(cè)視6圖2是圖1中裝置的側(cè)面剖視圖3是圖1中流體分配裝置的分解圖4表示裝配在釉料分配裝置內(nèi)部的本發(fā)明物體的剖視圖。
具體實(shí)施例方式
參見附圖，編號(hào)l表示流體分配裝置，尤其是用于釉料的分配裝置。
在本發(fā)明中，裝置1由分配器主體2限定，所述分配器主體2優(yōu) 選地是圓柱形，并具有縱軸線X。
所述分配器主體2包括第一端部2a，所述第一端部2a優(yōu)選地制 有螺紋，可連接到將要分配的流體，優(yōu)選地是釉料的供應(yīng)源(未示出) 上。
所述分配器主體2可設(shè)置在流體分布器裝置3的內(nèi)部，如圖4中 所示，可圍繞縱軸線X旋轉(zhuǎn)，并且是一種可用于磚瓦上釉的類型。流 體分布器裝置3包括圓盤組，其稱為圓盤組的原因是由于它包括多個(gè) 同軸的圓盤，這些同軸圓盤彼此相互疊置，并軸向地隔開。圓盤組同 心地具有圓柱形導(dǎo)管4 (圖4),所述圓柱形導(dǎo)管4設(shè)有多個(gè)徑向開口 4a，預(yù)先設(shè)置這些徑向開口 4a，以使將要分布的流體能通過。
分配器主體2同軸地可插入分布器裝置3的內(nèi)部，而且尤其是可 插入圓柱形導(dǎo)管4的內(nèi)部。
分布器裝置3和分配器主體2位于上釉室(未示出)的內(nèi)部。連 接到上釉室的分配器主體2伸出地安裝并處于固定位置，而圍繞分配 器主體2的分布器裝置3則繞軸線X旋轉(zhuǎn)。
如圖1、 2和3可以看到，圓柱形分配器主體2示出分配區(qū)5，所 述分配區(qū)5包括多個(gè)用于流體流出的開口 6，所述開口 6^f吏主體2的 內(nèi)部2c與外部連通。
這些開口 6在離開主體2的第二端部2b的方向上遍布側(cè)面2d延 續(xù)預(yù)定的長(zhǎng)度，所述預(yù)定的長(zhǎng)度優(yōu)選地在主體2總長(zhǎng)度的1/5到1/2 之間可變化。長(zhǎng)度d根據(jù)分布器裝置3的軸向尺寸確定。尤其是分配器裝置被設(shè)置具有分配區(qū)5的兩個(gè)不同長(zhǎng)度，專門用于與分布器裝置 3的兩個(gè)不同標(biāo)準(zhǔn)相對(duì)應(yīng)的兩個(gè)軸向尺寸。
主體2沿著與軸線X平行的方向接收來自供應(yīng)源的流體，并沿著 相對(duì)于軸線X的徑向方向分布該流體。
從開口 6流出的釉料以流體流的形式排出。在橫過圓盤組時(shí)，所 述流分成小尺寸的顆粒或滴，并因此釉料被基本上均勻地分布在磚瓦 上，該磚瓦同樣未示出。
開口6的尺寸不是一致的；尤其是，它們沿著至少部分螺旋形的 軌跡分布在主體2的側(cè)面上，如圖l中可清楚地看到。
仍是參見圖1，開口 6具有不同和等級(jí)的尺寸，優(yōu)選地在靠近分 配器主體2的第二端部2b的方向上沿著螺旋形軌跡逐漸減小。開口 6 限定的連續(xù)而改變尺寸。確定上述開口尺寸變化的關(guān)系(regime),以 便根據(jù)在分配器主體2的本體上同軸旋轉(zhuǎn)時(shí)分布器裝置3的入口內(nèi)的 流體動(dòng)力學(xué)，來優(yōu)化釉料沿著整個(gè)分配區(qū)5的流出。換句話說，目的 在于使釉料沿著主體的整個(gè)分配區(qū)5的流出速度均勻。因此沿著整個(gè) 分配區(qū)5而得到釉料連續(xù)而均勻的分布。
每個(gè)開口6都是徑向朝向，并在外部方向上擴(kuò)張。
開口 6的擴(kuò)張相對(duì)于分配器主體2的本體在周方向和軸向方向上。
因此，每個(gè)開口 6都具有基本上截棱錐構(gòu)造(trunco-pyramidal conformation),其具有朝向主體2的外部增加的橫剖面。換句話說， 開口 6的較小基底位于主體2的內(nèi)部側(cè)面2d'上，而開口 6的較大基 底則位于外部側(cè)面2d"上。
在開口 6周邊方向上的擴(kuò)張使由氣流與釉料的流體流之間的相互 作用而產(chǎn)生的紊流能減少，所述氣流是通過牽引分布器裝置3在旋轉(zhuǎn) 上建立的，而所述釉料的流體流則從主體2徑向地排出。
在離開主體2的圓柱面的方向上，存在一定的空氣速度的梯度， 所述空氣梯度具有與圓盤組的旋轉(zhuǎn)軸X同心的周邊方向。
開口 6的擴(kuò)張使釉料在橫過開口 6自身之時(shí)就已能與空氣速度的 方向協(xié)調(diào)地定向。因此，主體2的流出釉料沿周邊方向被擴(kuò)張偏離，以便與空氣的 方向發(fā)生關(guān)系，并因此改善了釉料分布過程的控制。
開口 6的特殊幾何形狀還減少了由于釉料的沉積而引起的孔的通 路剖面的縮小的影響。換句話說，擴(kuò)張防止開口 6由于釉料的沉積而 易于變堵塞。
兩個(gè)螺旋形軌跡之間的間隔是這樣，以使主體2橫過縱軸X的任 何剖面都截?cái)嚅_口 6中的至少一個(gè)。
這樣，保證釉料沿著整個(gè)分配區(qū)5連續(xù)又均勻的軸向分布。
分配器主體2的第二端部2b封閉，并具有內(nèi)底部ll，所述內(nèi)底 部11具有錐形表面，其頂點(diǎn)朝向第一端部2a。錐體的斜面將引導(dǎo)釉 料的流體流朝向開口 6的外部。這樣甚至從最近開口 6到分配器主體 2的第二端部2b使能控制和調(diào)節(jié)釉料流出。
在分配器主體2的上釉室內(nèi)部的連接系統(tǒng)根據(jù)該室的類型能具有 不同的直徑。如果連接系統(tǒng)具有比主體2的直徑大的直徑，則會(huì)有過 大的游隙，結(jié)果造成其聯(lián)軸節(jié)中密封損失。
有利地，具有連接器元件7、比如套筒裝備的裝置1使分配器主 體2能與上釉室內(nèi)部的不同連接系統(tǒng)相關(guān)聯(lián)，并使裝置1可適合于不 同類型的上釉室。
連接器元件7或套筒能用鍵固定在分配器主體2上，并優(yōu)選地利 用螺紋12擰到分配器主體上。
連接器元件7具有多個(gè)槽溝8，所述槽溝8構(gòu)成定位基準(zhǔn)。裝置1 還包括基準(zhǔn)元件9，所述基準(zhǔn)元件9可與連接器元件7的槽溝8相關(guān) 聯(lián)。
當(dāng)主體2被插入圓盤組3的圓柱形導(dǎo)管中時(shí)，分配區(qū)5優(yōu)選地必 須在圓盤組3的內(nèi)部定中心。
基準(zhǔn)元件9，例如附圖中所示的簧片與連接器元件7的槽溝8聯(lián) 接，以便正確地調(diào)節(jié)分配器主體2在流體分布器裝置3內(nèi)部的軸向位 置。
基準(zhǔn)元件9與連接器元件7的外部相關(guān)聯(lián)而具有表面9a，所述表
9面9a碰分布器裝置或圓盤組3的支撐上。
這樣，安裝該裝置的操作人員具有一定基準(zhǔn)，用于分配器裝置的 有孔軸向部分相對(duì)于圓盤組3的正確縱向定心。
基準(zhǔn)元件9的位置也可調(diào)節(jié)，其目的同樣為非標(biāo)準(zhǔn)的圓盤組3的 尺寸提供正確的定位。
分配裝置1優(yōu)選地用聚合物材料制成。
本發(fā)明提供重要的優(yōu)點(diǎn)和達(dá)到設(shè)定的目的。
首先，沿著主體的軸向延伸部分的開口的尺寸的變化使沿著分配 區(qū)的整個(gè)軸線長(zhǎng)度釉料排出的量連續(xù)，而且使從圓盤組流出的分布均 勻。
另外優(yōu)選地，量的變化性的三個(gè)階段，即所請(qǐng)求的釉的流率已被 決定，且對(duì)于每個(gè)階段來說，確定了最佳初始孔徑和具體的孔的尺寸 的變化的關(guān)系。根據(jù)將要沉積在制品上的釉的量，可以使用具體的分 配器主體2。
沿著螺旋形軌跡各開口的分布防止必須成角度地調(diào)整在分布器裝 置的中心導(dǎo)管內(nèi)部的主體。實(shí)際上，分配區(qū)的任何基體都具有同等的 開口分布和數(shù)量。面對(duì)釉料分布器朝向?qū)⒁嫌缘钠皆南虏康拈_ 口的部分是相同的而與分配器主體所采取的角位置無關(guān)。因此，有相 同的流出釉料的量投射到將要上釉的制品上。
周邊方向上的擴(kuò)張使能減少圓盤組在旋轉(zhuǎn)時(shí)所建立的氣流中的紊 流；開口以所述周邊方向與主體的外側(cè)面連接，這樣以便得到釉料在 制品上的均勻分布。
另外，孔的擴(kuò)張構(gòu)造減少了開口的閉塞現(xiàn)象，并因此使能減少對(duì) 分配器主體的維修介入。
聚合物材料確保生產(chǎn)成本保持可以接受。
供應(yīng)三種專用分配器主體使上釉工藝的質(zhì)量最佳，所述三種專用 分配器主體的開口具有多種尺寸和變化關(guān)系，這些開口為三種將要沉 積在磚瓦上的相應(yīng)的釉的量而專門研究的。最后，管連接器的存在，分配區(qū)和基準(zhǔn)元件的兩種不同長(zhǎng)度，使 在任何分布器裝置和任何類型的上釉室情況下靈活利用主體。
權(quán)利要求
1.一種流體分配裝置，尤其是用于釉料的流體分配裝置，該流體分配裝置包括圓柱形分配器主體(2)，所述分配器主體(2)可在其第一端部(2a)處連接到要分配的流體的供應(yīng)導(dǎo)管上，并且該分配器主體(2)可設(shè)置在流體分布器裝置(3)的內(nèi)部，所述流體分布器裝置(3)圍繞縱軸線(X)能旋轉(zhuǎn)；分配器主體(2)具有分配區(qū)(5)，所述分配區(qū)(5)包括多個(gè)用于排出流體的開口(6)，所述開口(6)使主體(2)的內(nèi)部(2c)與外部連通，并在離開主體(2)的第二端部(2b)的方向上在側(cè)面(2d)上延伸預(yù)定的長(zhǎng)度(d)；所述流體分配裝置(1)的特征在于，開口(6)具有不一致的尺寸，并沿著至少部分螺旋形軌跡分布在主體(2)的側(cè)面(2d)上。
2. 如權(quán)利要求1所述的流體分配裝置，其特征在于，開口 (6) 在靠近分配器主體(2)的第二端部(2b)的方向上減小。
3. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 每個(gè)開口 (6)都是徑向朝向，并具有朝向主體(2)的外部增加的橫 斷面。
4. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 每個(gè)開口 (6)都朝向分配器主體(2)的側(cè)面(2d)的外部擴(kuò)張，從 而相對(duì)于分配器主體(2)面向周邊方向和軸向方向。
5. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 開口 (6)以這種間隔設(shè)置在螺旋形軌跡上，使得橫向于縱軸線(X) 的主體(2)的每個(gè)剖面截?cái)嘀辽僖婚_口 (6)。
6. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 開口 (6)以這種間隔設(shè)置在螺旋形軌跡上，使得穿過縱軸線(X)的 主體(2)的縱向剖面截?cái)嘀辽僖婚_口 (6)和一部分流體通路。
7. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 第二端部(2b)被封閉，并具有錐形凸起形式的內(nèi)底部部(11)，其面 向第一端部(2a)。
8. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在于， 該流體分配裝置包括連接器元件(7)，所述連接器元件(7)能用鍵固 定在分配器主體(2)上，以便使分配器主體(2)適配上釉室的內(nèi)部 的具有不同尺寸的連接裝置。
9. 如權(quán)利要求8所述的流體分配裝置，其特征在于，連接器元件 (7)具有多個(gè)槽溝(8)，所述槽溝(8)限定位置基準(zhǔn)。
10. 如權(quán)利要求8或9所述的流體分配裝置，其特征在于，該流 體分配裝置包括基準(zhǔn)元件(9 )，所述基準(zhǔn)元件(9 )可與連接器元件(7 ) 的槽溝(8)相關(guān)聯(lián)，用于正確地調(diào)節(jié)分配器主體(2)在流體分布器 裝置(3)內(nèi)部的軸向位置。
11. 如上述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的流體分配裝置，其特征在 于，該流體分配裝置用聚合物材料制成。
全文摘要
一種流體分配裝置，尤其是用于釉料的分配裝置，該裝置包括圓柱形分配器主體(2)，所述分配器主體(2)在其第一端部(2a)可連接到將要分配的流體的供應(yīng)導(dǎo)管上，并且可設(shè)置在流體分布器裝置(3)的內(nèi)部，該流體分布器裝置(3)可圍繞縱軸(X)旋轉(zhuǎn)。分配器主體(2)具有分配區(qū)(5)，所述分配區(qū)(5)包括多個(gè)用于排出流體的開口(6)，而且具有不一致的尺寸。設(shè)在主體(2)的內(nèi)部(2c)的開口(6)與外部連通，并在側(cè)面(2d)上朝離開主體(2)的第二端部(2b)的方向延伸預(yù)定的長(zhǎng)度(d)。
文檔編號(hào)C04B41/86GK101638326SQ200910202838
公開日2010年2月3日 申請(qǐng)日期2009年5月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年7月31日
發(fā)明者B·弗蘭基尼 申請(qǐng)人:F.M.有限責(zé)任公司