專利名稱：納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝及專用生產(chǎn)設備的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種納米微晶膜光催化陶瓷的制備方法及專用生產(chǎn)裝置。
背景技術(shù)：
近年來，隨著室內(nèi)建筑裝飾材料、家用化學物質(zhì)的過度使用，導致大量的揮發(fā)性有 機化合物，包括甲醛、苯系物、氯化物、酮類、烴類等均不同程度地危害人體健康；同時人們 賴以生存的空間飄浮著各種病菌、微生物，經(jīng)過呼吸直接進入人體內(nèi)，包括曾經(jīng)引起人類恐 慌的SARS、禽流感和甲型H1N1流感在內(nèi)的呼吸系統(tǒng)疾病。在今天人們高度關(guān)注環(huán)境和健 康之際，迫切要求改善環(huán)境質(zhì)量，凈化生活工作中的居室和活動環(huán)境顯得極為重要。陶瓷材 料特別是室內(nèi)建筑陶瓷(磚)材料是人們生產(chǎn)、生活活動中使用最多接觸最廣的材料，若能 使陶瓷材料具有凈化空氣、殺菌消毒、除臭、防污自潔等功能和作用必將凈化和改善人類健 康、造福社會。 眾所周知，銳鈦礦結(jié)晶型納米Ti02為n-型半導體材料，在光照條件下尤其是在紫 外光照射下，形成光生電子_空穴對(即e—和h+)，而e—和h+與吸附在Ti02表面上的H20、 02等發(fā)生作用生成*0H、 *0—2等活性基團。'OH基團有很強的氧化能力，而且對作用物幾乎 無選擇性，能將有機物氧化、分解，最終分解為C02和H20。這就是納米Ti02微晶的光催化特 性，也是凈化空氣、殺菌消毒和除臭的關(guān)鍵。但是，目前所報道的納米Ti(^微晶膜光催化陶 瓷仍然難以滿足人們的消費要求。主要問題是(l)工業(yè)化批量生產(chǎn)中納米微晶膜與陶瓷 釉面結(jié)合不牢固、耐磨性欠佳；(2)在光線弱的情況下納米Ti02微晶膜的光催化能力較差； (3)從納米微晶膜光催化陶瓷(磚)的生產(chǎn)到用戶貼墻裝飾的整個過程中納米微晶膜很難 完整保護，從而極大地影響了產(chǎn)品的推廣和人們的消費。 此外，傳統(tǒng)技術(shù)生產(chǎn)過程不完善、生產(chǎn)裝置和工藝創(chuàng)新不足，難以組織規(guī)?；?產(chǎn)，因此，在生產(chǎn)過程中如何使納米微晶膜涂敷操作過程銜接簡單，既能實現(xiàn)間歇式生產(chǎn)也 能實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn)，同時能夠縮短生產(chǎn)周期，降低生產(chǎn)成本顯得尤為重要。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供一種間歇式生產(chǎn)納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝。 本發(fā)明另一 目的是提供一種操作過程簡單，能夠?qū)崿F(xiàn)間歇式生產(chǎn)納米微晶膜光催
化陶瓷涂敷專用裝置。
本發(fā)明實現(xiàn)過程如下 —種納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)裝置，包括涂敷池A和涂敷池B，涂敷池A和B
的涂敷液出口設置在底部，涂敷池A的涂敷液入口設置在頂部，涂敷池A的涂敷液出口與入
口處于涂敷池的同側(cè)；涂敷池B的涂敷液入口設置在與出口相對的一側(cè)上部；涂敷池A與B
的涂敷液出入口用軟管連接，軟管中部設置有流量控制閥。 上述裝置用于納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝，包括如下步驟 (1)陶瓷磚清潔去油去灰塵并干燥；
(2)配制Ti02參雜體涂敷液； (3)將陶瓷磚放入涂敷池A和B中，瓷磚沿涂敷池側(cè)壁立式放置且能完全被涂敷液 浸沒，將涂敷液加至涂敷池A中； (4)通過控制流量控制閥將涂敷液從涂敷池A完全流入涂敷池B，保持涂敷液沿瓷 磚表面下降速度為6 15cm/min，此時涂敷池A中的瓷磚表面已涂敷Ti02參雜體濕膜，涂 敷池B中的瓷磚完全被涂敷液浸沒； (5)取出涂敷池A中已涂敷的瓷磚，控制聯(lián)動升降裝置使涂敷池A下降，涂敷池B 上升，用軟管連接涂敷池B的涂敷液出口與涂敷池A的涂敷液入口 ，控制流量控制閥使涂敷 液從涂敷池B完全流入涂敷池A，使涂敷液沿瓷磚表面下降速度為6 15cm/min，此時涂敷 池B中的瓷磚表面已經(jīng)涂敷上了 Ti02參雜體濕膜，取出涂敷池B中已涂敷好的瓷磚，同時 向涂敷池A中放入瓷磚，至此完成間歇式一個完整操作；涂敷裝置的操作控制使瓷磚表面 離開涂敷液的速度恒定，并且根據(jù)所需微晶膜的厚度在6 15cm/min之間能進行調(diào)整。
(6)將已經(jīng)涂敷上Ti02參雜體濕膜的陶瓷磚進行干燥，干燥后的Ti02參雜體膜 瓷磚放入加熱爐進行熱處理使其轉(zhuǎn)化為具有銳鈦礦結(jié)晶型的納米微晶膜，爐溫按每分鐘 10°C 15t:的升溫速度升至50(TC，保溫10min，再按每分鐘2(TC左右的速度降至室溫，即 可得到納米微晶膜光催化陶瓷磚。 上述生產(chǎn)工藝中涂敷液配制方法如下將金屬鹽溶解在乙醇水溶液中，加至體積 百分比為20%的鈦酸丁酯的乙醇溶液中，攪拌得到穩(wěn)定均勻的透明涂敷液，所述金屬鹽至 少選自Cu2+、 Ag+、 Fe3+、 Co2+、 Ni2+、 Tb3+或Eu3+中之一，金屬離子加入量占Ti02總重量的1 2%。 為了實現(xiàn)連續(xù)式生產(chǎn)，專用連續(xù)式生產(chǎn)涂敷裝置包含涂敷池(5)、傳送帶(6)、涂 敷液(7)和輔助的傳送帶動力系統(tǒng)及速度控制系統(tǒng)組成。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下優(yōu)點 1、本發(fā)明中的間歇式專用生產(chǎn)涂敷裝置操作過程簡單、銜接、容易控制，特別是能 靈活地與現(xiàn)有傳統(tǒng)建筑陶瓷磚生產(chǎn)線實現(xiàn)對接，適宜工業(yè)化批量生產(chǎn)，投資少、成本低。
2、采用本發(fā)明的生產(chǎn)工藝方法生產(chǎn)的納米微晶膜陶瓷磚，其微晶膜與陶瓷磚釉面 結(jié)合牢固、長效、不粉化，微晶膜耐磨性強。 3、連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置的傳送帶與熱處理程序控溫隧道爐的傳送帶相銜接，可實 現(xiàn)工業(yè)化大批量生產(chǎn)，縮短生產(chǎn)周期。 4、采用本發(fā)明的生產(chǎn)工藝方法，適合目前市場上任何花色的建筑墻地磚的涂敷鍍 膜生產(chǎn)，其中使用最多的還是納米微晶膜內(nèi)墻陶瓷磚?？筛鶕?jù)納米微晶膜陶瓷磚的使用場 合和用途不同靈活地調(diào)整涂敷液的配方。


圖1是間歇式生產(chǎn)涂敷裝置；
圖2是連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置；
圖3是納米微晶膜的AFM圖； 圖4是不同納米微晶膜陶瓷磚對大腸桿菌的殺菌率比較；
圖5是納米微晶膜陶瓷磚的殺菌率。







附圖標記說明 圖1標記說明 A-涂敷池
2_涂敷液進口
3-連接軟管及流量控制夾(閥)
B-涂敷池
l-涂敷液出口 圖2標記說明 4-陶瓷磚
6-傳送帶 7_涂敷液
5-涂敷池 具體實施舉例 —種納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝，該工藝通過專用生產(chǎn)裝置(圖1和圖2)
采用均相共沉淀法直接在陶瓷(磚)表面涂敷1102參雜體膜，再通過熱處理將涂敷在陶瓷
(磚)上的Ti02膜燒結(jié)轉(zhuǎn)化為具有銳鈦礦結(jié)晶型的納米微晶膜，從而制成具有光催化功能
的陶瓷(磚)。實現(xiàn)了納米微晶材料和傳統(tǒng)陶瓷材料的"嫁接"，使其不僅具有原始陶瓷的功
能，而且因其表面納米微晶具有的光催化特性而表現(xiàn)出許多新的功能和作用，如凈化空氣、
殺菌消毒、防污自潔等，成為新一代的綠色環(huán)境型建筑裝飾用陶瓷產(chǎn)品。 專用間歇式生產(chǎn)涂敷裝置包含涂敷池(A)、涂敷池(B)、涂敷液出口 (1)、涂敷液進
口 (2)、連接軟管(3)及流量控制夾(閥)和涂敷池輔助聯(lián)動升降裝置組成。 具體生產(chǎn)工藝包括如下步驟 第1、先將陶瓷磚(例如建筑內(nèi)墻瓷磚)清潔、干燥，要求瓷磚規(guī)整、釉面光滑、無斑 點瑕疵、表面干凈無油污灰塵等； 第2、配制Ti02參雜體涂敷液，主要以鈦酸丁酯為原料，輔配金屬離子(金屬離子 選自Cu2+、 Ag+、 Fe3+、 Co2+、 Ni2+、 Tb3+、 Eu3+中的其一或其組合，其鹽如Cu (Ac) 2、 AgN03、 FeCl3、 CoCl2、Ni(N03)2、Tb(N03)3、Eu(N03)3等)為參雜劑，鈦酸丁酯濃度為20%的乙醇溶液(體積 比)，參雜金屬離子加入量為Ti02總量的1 2% (重量比)，參雜劑的加入方法是先將其 鹽溶解在少量蒸餾水中再加入乙醇，最后加入鈦酸丁酯的乙醇溶液中，配料后攪拌2h得到 穩(wěn)定均勻的透明涂敷液，并移入歇式生產(chǎn)涂敷裝置中的涂敷池(A)或連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置 中的涂敷池，涂敷液的加入量為涂敷池體積的三分之二 ； 第3、將步驟1清潔干燥后的陶瓷磚輕放入間歇式生產(chǎn)涂敷裝置中的涂敷池(A)、 涂敷池(B)或連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置的傳送帶(6)上，要求陶瓷磚放置一字排列不能重疊，瓷 磚之間要留有一定距離，在間歇式生產(chǎn)涂敷裝置中瓷磚要沿池側(cè)壁立式放置且能完全被涂 敷液浸沒，在連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置上瓷磚應有序排列平放在傳送帶上； 第4、按步驟3瓷磚在間歇式生產(chǎn)涂敷裝置和連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置上分別進行涂 敷間歇式生產(chǎn)涂敷裝置中的涂敷池(A)和涂敷池(B)處于實線位置(圖1)時，控制連接軟 管及流量控制夾(閥)使涂敷液從涂敷池(A)完全流入涂敷池(B)，要求控制涂敷液沿瓷磚 表面下降速度為6 15cm/min，此時涂敷池(A)中的瓷磚表面已經(jīng)涂敷上了 Ti02參雜體濕 膜，涂敷池(B)中的瓷磚也已經(jīng)完全被涂敷液浸沒，取出涂敷池(A)中已涂敷好的瓷磚放在 柵型架上或生產(chǎn)線中的傳送帶上進入強制通風干燥區(qū)段進行干燥；再控制聯(lián)動升降裝置使 涂敷池(A)下降的同時涂敷池(B)上升至虛線位置(圖1)，同樣控制連接軟管及流量控制 夾(閥)使涂敷液從涂敷池(B)完全流入涂敷池(A)，要求控制涂敷液沿瓷磚表面下降速度
5為6 15cm/min，此時涂敷池(B)中的瓷磚表面已經(jīng)涂敷上了 Ti02參雜體濕膜，取出涂敷池 (B)中已涂敷好的瓷磚放在柵型架上或生產(chǎn)線中的傳送帶上進入強制通風干燥區(qū)段進行干 燥，同時也向涂敷池(A)中放入瓷磚，至此間歇式生產(chǎn)涂敷裝置的一個完整操作完成；再控 制聯(lián)動升降裝置使涂敷池(B)下降涂敷池(A)上升至實線位置進行下一個循環(huán)生產(chǎn)操作。
連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置(圖2)生產(chǎn)操作相對簡單，按步驟3瓷磚有序排列平放在 傳送帶上，控制傳送帶均勻緩慢前進將傳送帶上的瓷磚帶入涂敷池至完全浸沒，并不斷前 行逐漸將瓷磚帶出離開涂敷液，要求控制傳送帶的速度使瓷磚離開涂敷液面的速度為6 15cm/min，此時被帶出離開涂敷液的瓷磚表面已經(jīng)涂敷上了 Ti02參雜體濕膜，再繼續(xù)沿傳 送帶進入強制通風干燥區(qū)段進行干燥。 第5、將步驟4已經(jīng)涂敷上了 1102參雜體濕膜的陶瓷磚進行干燥和熱處理，在常溫 條件下強制通風干燥，根據(jù)溫度和濕度不同干燥時間在5 30分鐘之間，干燥后的Ti02參 雜體膜瓷磚必須放入加熱爐進行熱處理使其轉(zhuǎn)化為具有銳鈦礦結(jié)晶型的納米微晶膜，若用 間歇箱式靜止加熱爐進行熱處理，爐溫按每分鐘10°C 15t:的升溫速度升至50(TC，保溫 10min，再按每分鐘2(TC左右的速度降至室溫，即可得到納米微晶膜光催化陶瓷磚；若用連 續(xù)式隧道加熱爐進行熱處理(適合連續(xù)化生產(chǎn))，則隧道加熱爐必須設計成程序加熱爐(溫 度遞增加熱段、保溫段和溫度遞減段)，要求瓷磚沿隧道加熱爐傳送帶進入爐體后瓷磚表面 升溫速度按每分鐘10°C 15°C的升溫速度升至500°C ，保溫10min，再按每分鐘2(TC左右的 速度降至6(TC左右出隧道爐，即可制得納米微晶膜光催化陶瓷磚。 第6、將步驟5制得的納米微晶膜陶瓷磚進行貼膜保護處理，將從熱處理爐出來的 納米微晶膜陶瓷磚趁熱貼上PET塑料膜或其它特制塑料膜(大小規(guī)格與瓷磚相同)，并裝入 包裝箱以達到保護納米微晶膜的目的，直到用戶貼墻裝飾完成后再撕掉塑料保護膜。
以上所述的間歇式生產(chǎn)涂敷操作過程和連續(xù)化生產(chǎn)涂敷操作過程中的瓷磚表面 離開涂敷液的速度必須恒定(根據(jù)所需微晶膜的厚度在6 15cm/min之間進行調(diào)整)，且 涂敷液面不能晃動要保持平靜。 所述的連續(xù)化生產(chǎn)涂敷裝置中的傳送帶是不銹鋼材質(zhì)，具有一定的摩擦力，且每 隔50cm設有凸卡以防瓷磚滑動；裝置中的涂敷池也為不銹鋼材質(zhì)；裝置中的傳送帶動力系 統(tǒng)為電力、電機、傳動等，速度控制系統(tǒng)是為電力電機傳動調(diào)節(jié)而設置的電子控制系統(tǒng)。
所述的間歇式生產(chǎn)涂敷裝置中的控制聯(lián)動升降裝置是專門交替升降A、B涂敷池 而使用，涂敷池和涂敷液進出口均為不銹鋼材質(zhì)，其中的涂敷液出口 (1)和涂敷液進口 (2) 為特別設置，不能設計為處于涂敷池下部的同一個口，否則將會造成納米微晶膜在陶瓷磚 表面涂敷不均勻。 實施例1 :專門用于醫(yī)院手術(shù)室及病房殺菌功能化裝飾的納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚的 生產(chǎn) 1、配制1102參雜體涂敷液 按照上述生產(chǎn)工藝步驟的第2步進行，只是參雜劑加入量為Ti02總量的1. 2% (重 量比)，其中Ag+(其鹽AgNO》為0.8X，Cu2+(其鹽Cu(Ac)2)為0. 4%，配制涂敷液的多少根 據(jù)生產(chǎn)需要而定； 2 、納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚的生產(chǎn) 完全按照生產(chǎn)工藝步驟的第1至第6步進行，即可獲得醫(yī)院手術(shù)室及病房殺菌功能化裝飾的納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚，其中控制瓷磚離開涂敷液面的速度要求為8cm/min ;
3、納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚應用 上述內(nèi)墻瓷磚除了應用于醫(yī)院手術(shù)室及病房殺菌功能化裝飾外，也可應用于無菌
室、無菌生產(chǎn)車間等的殺菌功能化裝飾。 實施例2 :殺菌性能測試 按照實施例1方法制備得到的納米微晶膜陶瓷磚，其微晶膜為均勻、透明的Ti02 參雜體膜，粒徑20 50nm、膜厚30 80nm， AFM圖說明其表面形貌規(guī)整(圖3)，猶如鵝卵 石鑲嵌在水泥上形成的路面一樣，說明生產(chǎn)工藝與技術(shù)成熟。該微晶膜在弱光線(室內(nèi)自 然光或一般燈光)的情況下具有較強的光催化能力，經(jīng)測試證明，納米微晶膜陶瓷磚在室 內(nèi)自然光照射30min對大腸桿菌、金黃色葡萄球菌、白色念珠菌的殺菌率均達到90. 00%以 上(圖5)，對比測試表明純Ti02膜在120min內(nèi)對大腸桿菌的殺菌率只有70. 92%，而Ti02 參雜體膜在30min內(nèi)對大腸桿菌的殺菌率達到了 96. 74% (圖4)，說明Ti02參雜體膜比純 TiOj莫(未參雜金屬)殺菌時間更快(由120min縮短為30min)、殺菌效率更高(由70. 92% 提高到96. 74% )。 實施例3 :用于水產(chǎn)養(yǎng)殖(如甲魚)池裝飾的納米微晶膜瓷磚的生產(chǎn)
1、配制1102參雜體涂敷液 按照上述生產(chǎn)工藝步驟的第2步進行，只是參雜劑加入量為Ti02總量的1. 5% (重 量比)，其中Cu2+(其鹽Cu(Ac)2)為0.5X，F(xiàn)e3+(其鹽FeCl3)為0. 5%，Co2+(其鹽CoCl2)為 0. 3%， Tb,其鹽Tb(N0》3)為0. 2%，配制涂敷液的量根據(jù)生產(chǎn)需要而定；
2 、納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚的生產(chǎn) 按照生產(chǎn)工藝步驟的第1至第6步進行，即可獲得水產(chǎn)養(yǎng)殖(如甲魚)池裝飾的 納米微晶膜瓷磚，其中控制瓷磚離開涂敷液面的速度要求為12cm/min。
實施例4 :用于一般大眾場合及家庭的納米微晶膜瓷磚的生產(chǎn)
1、配制1102參雜體涂敷液 按照上述生產(chǎn)工藝步驟的第2步進行，只是參雜劑加入量為Ti02總量的1. 5% (重 量比)，其中Cu2+ (其鹽Cu (Ac) 2)為0. 5 % ， Fe3+ (其鹽FeCl3)為0. 3 % ， Ni2+ (其鹽Ni (N03) 2) 為0.3X，Ag+(其鹽AgN03)為0.2X，Eu3+(其鹽Eu(N03)3)為0. 2% ，配制涂敷液的量根據(jù)生 產(chǎn)需要而定； 2 、納米微晶膜內(nèi)墻瓷磚的生產(chǎn) 按照上述生產(chǎn)工藝步驟的第1至第6步進行，即可獲得一般大眾場合及家庭的納 米微晶膜瓷磚，其中控制瓷磚離開涂敷液面的速度要求為10cm/min。
權(quán)利要求
一種納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)裝置，其特征在于包括涂敷池A和涂敷池B，涂敷池A和B的涂敷液出口設置在底部，涂敷池A的涂敷液入口設置在頂部，涂敷池A的涂敷液出口與入口處于涂敷池的同側(cè)；涂敷池B的涂敷液入口設置在與出口相對的一側(cè)上部；涂敷池A與B的涂敷液出入口用軟管連接，軟管中部設置有流量控制閥。
2. 權(quán)利要求1所述裝置用于納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝，其特征在于包括如下步驟(1) 陶瓷磚清潔去油去灰塵并干燥；(2) 配制Ti02參雜體涂敷液；(3) 將陶瓷磚放入涂敷池A和B中，瓷磚沿涂敷池側(cè)壁立式放置且能完全被涂敷液浸沒，將涂敷液加至涂敷池A中；(4) 通過控制流量控制閥將涂敷液從涂敷池A完全流入涂敷池B，保持涂敷液沿瓷磚表面下降速度為6 15cm/min，此時涂敷池A中的瓷磚表面已涂敷Ti02參雜體濕膜，涂敷池B中的瓷磚完全被涂敷液浸沒；(5) 取出涂敷池A中已涂敷的瓷磚，控制聯(lián)動升降裝置使涂敷池A下降，涂敷池B上升，用軟管連接涂敷池B的涂敷液出口與涂敷池A的涂敷液入口 ，控制流量控制閥使涂敷液從涂敷池B完全流入涂敷池A，使涂敷液沿瓷磚表面下降速度為6 15cm/min，此時涂敷池B中的瓷磚表面已經(jīng)涂敷上了 Ti02參雜體濕膜，取出涂敷池B中已涂敷好的瓷磚，同時向涂敷池A中放入瓷磚，至此完成間歇式一個完整操作；(6) 將已經(jīng)涂敷上Ti02參雜體濕膜的陶瓷磚進行干燥，干燥后的Ti02參雜體膜瓷磚放入加熱爐進行熱處理使其轉(zhuǎn)化為具有銳鈦礦結(jié)晶型的納米微晶膜，爐溫按每分鐘10°C 15t:的升溫速度升至50(TC，保溫10min，再按每分鐘2(TC左右的速度降至室溫，即可得到納米微晶膜光催化陶瓷磚。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述生產(chǎn)工藝，其特征在于涂敷液配制方法如下將金屬鹽溶解在乙醇水溶液中，加至體積百分比為20%的鈦酸丁酯的乙醇溶液中，攪拌得到穩(wěn)定均勻的透明涂敷液，所述金屬鹽至少選自Ci^、Ag+、F^+、C^+、Ni、Tb"或Eu"中之一，金屬離子加入量占1102總重量的1 2%。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述生產(chǎn)工藝，其特征在于涂敷裝置的操作控制使瓷磚表面離開涂敷液的速度恒定，并且根據(jù)所需微晶膜的厚度在6 15cm/min之間進行調(diào)整。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種納米微晶膜光催化陶瓷的生產(chǎn)工藝及專用生產(chǎn)設備。該生產(chǎn)裝置包括涂敷池A和涂敷池B，涂敷池A和B的涂敷液出口設置在底部，涂敷池A的涂敷液入口設置在頂部，涂敷池A的涂敷液出口與入口處于涂敷池的同側(cè)；涂敷池B的涂敷液入口設置在與出口相對的一側(cè)上部；涂敷池A與B的涂敷液出入口用軟管連接，軟管中部設置有流量控制閥。本發(fā)明采用均相共沉淀法直接在陶瓷(磚)表面涂敷TiO2參雜體膜，再通過熱處理將涂敷在陶瓷(磚)上的TiO2膜燒結(jié)轉(zhuǎn)化為具有銳鈦礦結(jié)晶型的納米微晶膜，從而制成了具有光催化功能的陶瓷(磚)，可廣泛用于體育館、博物館、賓館、醫(yī)院、家庭等場所，凈化環(huán)境、改善人類健康。
文檔編號C04B41/85GK101717273SQ20091021918
公開日2010年6月2日 申請日期2009年11月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月27日
發(fā)明者雷閆盈 申請人:西北大學