專利名稱：用于制造浮法玻璃的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于制造浮法玻璃的設(shè)備，更具體而言，涉及一種用于使用浮法 玻璃生產(chǎn)法來制造浮法玻璃的設(shè)備。相關(guān)申請(qǐng)的互相參引本申請(qǐng)要求于2009年2月13日在大韓民國提交的韓國專利申請(qǐng) No. 10-2009-0011980的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過參引納入本說明書。
背景技術(shù)：
通常，一種用于使用浮法玻璃生產(chǎn)法來制造浮法玻璃(也稱為玻璃片、平板玻璃 或板玻璃)的設(shè)備用于通過如下方法來制造具有預(yù)定寬度的帶狀的連續(xù)玻璃片向存儲(chǔ)在 浮槽中的流動(dòng)熔融金屬(熔融錫等)上連續(xù)供給熔融玻璃，同時(shí)使熔融玻璃浮在熔融金屬 上，由于表面張力和重力從而形成達(dá)到大約均衡厚度的熔融玻璃帶；并且將熔融玻璃帶拉 起至浮槽出口附近的退火爐。這里，所述熔融金屬包括，例如，熔融錫或熔融錫合金，并具有大于所述熔融玻璃 的比重。所述熔融金屬被接收在一個(gè)浮室中，將氫氣(H2)和/或氮?dú)?N2)組成的還原介質(zhì) 引入該浮室。在浮室中的浮槽被構(gòu)造為在其中容納熔融金屬。該浮槽具有水平延伸的結(jié)構(gòu)， 并且其中包括高熱阻材料(例如，底部大塊磚)。在從浮槽的上游端移動(dòng)至下游端的同時(shí)， 所述熔融玻璃在熔融金屬的表面上形成一熔融玻璃帶。所述熔融玻璃帶在設(shè)置在浮槽的下 游端的一位置——被稱為離開點(diǎn)——處被提起，以從所述熔融金屬移出，并被遞送至下一 工序的退火爐。然而，因?yàn)楦∈抑械娜廴诮饘偬幱诟邷貭顟B(tài)(例如，大約600到1100°C )，所以在 熔融金屬、熔融玻璃、介質(zhì)的H2和N2、非常少量的02、H2O和S之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而產(chǎn)生 被稱為“浮渣”的雜質(zhì)。具體而言，在浮槽的下游端(冷端)的離開點(diǎn)處和周圍的溫度低于 上游端(熱端)的溫度。由此，熔融金屬的溶解性在下游端減小，因此，易于在下游端產(chǎn)生 并積累金屬氧化物——例如SnO2等。當(dāng)熔融玻璃帶從所述離開點(diǎn)被提起時(shí)，浮渣附接至熔 融玻璃帶的底部并伴隨所述熔融玻璃帶從浮槽被拉起。因此，這導(dǎo)致刮傷、玷污等——這會(huì) 不利地影響隨后的工序和/或浮法玻璃產(chǎn)品的質(zhì)量。為了解決所述問題，迄今為止已研發(fā)了各種技術(shù)。例如，如在日本專利公布文本 No. S045-30711中公開的，一種常規(guī)的用于制造浮法玻璃的設(shè)備包括一個(gè)收集通道，該收集 通道具有近似T形的型腔，該型腔的一個(gè)平面在寬度方向上稍微伸展浮槽的縱向端部的側(cè) 壁和后壁。所述收集通道以預(yù)定角度形成，使得從暴露的排放區(qū)域聚集到收集通道中的浮 渣可被導(dǎo)引至所述型腔。所述浮渣從型腔排出到浮槽外。如在日本專利特許公開公布文本No. 2000-128552中公開的，另一常規(guī)的用于制 造浮法玻璃的設(shè)備包括一個(gè)第一流道，其在相對(duì)于浮法玻璃被拉出的方向的橫向方向上 延伸；以及一個(gè)第二流道，其連接至第一流道的一端并與從一側(cè)壁外側(cè)開始的壩連通。該設(shè) 備通過分立的流道使熔融金屬從浮槽的下游端流回至上游端。
然而，這些常規(guī)技術(shù)在浮槽的下游端的兩側(cè)處去除由浮槽中的污染物導(dǎo)致的浮 渣。然而，該常規(guī)技術(shù)在去除下游端熔融玻璃中央下面積累的浮渣方面具有困難，為了去除 這種浮渣，應(yīng)打開具有分立的木制帶狀工具的側(cè)部密封件。在該工作環(huán)境下，當(dāng)所述側(cè)部密 封件打開時(shí)，所述浮槽可進(jìn)一步被污染并且不能保障工作安全性。因此，浮法玻璃產(chǎn)品的質(zhì) 量以及程序穩(wěn)定性會(huì)惡化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明被設(shè)計(jì)以解決上述問題，并且因此本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種改進(jìn)的 用于制造浮法玻璃的設(shè)備，該設(shè)備具有一個(gè)排出口，其形成在一個(gè)“支撐墊塊”的中央處， 所述支撐墊塊位于下游端處在浮槽的地板大磚塊之間；以及一對(duì)側(cè)通道，其連通所述排出 口和所述浮槽的側(cè)部，使得熔融金屬的流動(dòng)從所述浮槽的中央被導(dǎo)引至所述浮槽的側(cè)部， 由此穩(wěn)定地去除浮在熔融金屬上的 浮渣。為了實(shí)現(xiàn)該目的，一種根據(jù)本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，包括一個(gè)用于存 儲(chǔ)熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動(dòng)，其中所述熔融金屬在所述浮槽中流 動(dòng)，該設(shè)備包括一個(gè)排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個(gè)壁在該壁的中央處形成，從 而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對(duì)側(cè)通道，其在 所述壁的內(nèi)側(cè)形成并與所述排出口和所述浮槽的兩側(cè)連通。優(yōu)選地，本發(fā)明的設(shè)備還包括一個(gè)導(dǎo)引構(gòu)件，其用于將所述浮渣導(dǎo)引至所述排出□。優(yōu)選地，所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)在所述排出口的進(jìn)口處形成的圓弧部分。優(yōu)選地，所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)錐形的導(dǎo)引壁，其從所述壁的兩個(gè)邊緣向位于所 述壁的中央處的所述排出口向內(nèi)傾斜。優(yōu)選地，所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)漏斗形的排出口，該排出口的出口具有小于入口 的寬度。優(yōu)選地，本發(fā)明的設(shè)備還包括一個(gè)加熱單元，其布置在相應(yīng)的側(cè)通道處，用于加熱 流經(jīng)所述側(cè)通道的所述熔融金屬。優(yōu)選地，所述加熱單元具有一個(gè)加熱器。優(yōu)選地，本發(fā)明的設(shè)備還包括一個(gè)循環(huán)構(gòu)件，其用于通過向所述熔融金屬施加一 行進(jìn)磁場(chǎng)而使在所述排出口和側(cè)通道中的熔融金屬和浮渣產(chǎn)生回流。優(yōu)選地，所述循環(huán)構(gòu)件具有一個(gè)線性電動(dòng)機(jī)。本發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設(shè)備使積累在位于浮槽下游端的支撐墊塊中 央處和附近的浮渣(雜質(zhì))有效地流回至浮槽的兩側(cè)，由此改善浮法玻璃的質(zhì)量并確保程 序穩(wěn)定性。


附圖示出了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案，以及包括這些附圖以與本發(fā)明的詳細(xì)描述一 起提供對(duì)本發(fā)明主旨的進(jìn)一步理解，因此，本發(fā)明不應(yīng)局限地被認(rèn)為是附圖中所示的內(nèi)容。圖1是一種根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的用于制造浮法玻璃的設(shè)備的示意性平面圖。圖2是圖1的側(cè)視圖。圖3到5是根據(jù)本發(fā)明的各實(shí)施方案的導(dǎo)引構(gòu)件的視圖，其分別示出了一個(gè)支撐墊塊或一個(gè)排出口的變型。
具體實(shí)施例方式在下文中，將參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方案。在描述之前，應(yīng)理解的 是，在本說明書和所附權(quán)利要求書中所用的術(shù)語不應(yīng)被認(rèn)為受限于常規(guī)含義和字典含義， 而應(yīng)在發(fā)明人被允許將術(shù)語適當(dāng)定義以供最佳解釋的原則基礎(chǔ)上、基于相應(yīng)于本發(fā)明技術(shù) 方面的含義和概念來詮釋。因此，這里所進(jìn)行的描述僅是出于闡釋目的的優(yōu)選實(shí)施例，并不 意在限制本發(fā)明的范圍，因此應(yīng)理解的是，在不背離本發(fā)明的主旨和范圍的情況下其它等 效物或變型可用于本發(fā)明。圖1是一種根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案的用于制造浮法玻璃的設(shè)備的示意 性平面圖。圖2是圖1的側(cè)視圖。參見圖1和2，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案的用于制造浮法玻璃的設(shè)備100被構(gòu)造 為使用所謂的浮法玻璃生產(chǎn)法來制造浮法玻璃。該設(shè)備100包括一個(gè)浮室，所述浮室具有 一個(gè)位于其下部的浮槽110以及一個(gè)覆蓋所述浮槽110頂部的頂蓋120。所述浮室是氣密 型的，其具有一個(gè)輸入口(未示出)和一個(gè)輸出口 112。浮槽110存儲(chǔ)熔融金屬(M)，諸如熔融錫、熔融錫合金等。所述熔融金屬(M)從該 浮槽110的上游端被提供(示出在附圖的左側(cè))并通過熔融玻璃(G)移動(dòng)至下游端(示出 在附圖的右側(cè))。由于在該浮槽110中的溫度梯度，所述熔融金屬(M)從該浮槽110的上游 端流至下游端，同時(shí)，從該浮槽110的中央流至該浮槽110的兩側(cè)。所述溫度梯度是在保持 相對(duì)較高溫度的上游端和下游端之間的溫度差。所述熔融玻璃(G)也從該浮槽110的上游 端流至下游端，并在離開點(diǎn)(TO)被向上拉起以從熔融金屬(M)的表面移出，并隨后被拉出 至下一工序(見箭頭C)的退火爐(未示出)。在浮室中的介質(zhì)由氮?dú)夂蜌錃獾幕旌蠚怏w形成。該混合氣體保持在略高于外部大 氣的壓力，熔融金屬(M)以及熔融玻璃(G)帶通過電加熱器(未示出)保持在大約800到 1300°C。所述熔融玻璃(G)是非堿性玻璃、蘇打-石灰玻璃等。用于在浮槽110中產(chǎn)生熔 融金屬(M)流動(dòng)的原理和結(jié)構(gòu)，以及熔融玻璃(G)的輸入、成帶狀、移動(dòng)以及排出，在一般浮 法玻璃生產(chǎn)法中都是熟知的，在此省略了詳細(xì)描述。該浮槽110具有一個(gè)排出口 130和一對(duì)側(cè)通道140。所述排出口 130貫穿下游端 的一個(gè)壁形成，或在支撐墊塊114中央貫穿該支撐墊塊114形成。所述側(cè)通道140基本平 行于該浮槽110的寬度方向形成。所述排出口 130被構(gòu)造為排出碰到支撐墊塊114——其為下游端的一個(gè)壁——中 央的熔融金屬(M)以及排出可能浮在熔融金屬(M)上的浮渣。該排出口 130具有的預(yù)定尺 寸相應(yīng)于支撐墊塊114的預(yù)定長度。也即，該排出口 130形成為具有預(yù)定的寬度以及以矩 形、方形或圓形為形狀的橫截面，然而本發(fā)明在這點(diǎn)上并不受限。所述排出口 130可具有各 種形狀，特別地，該排出口 130優(yōu)選具有這樣的線性形狀，其引向基本平行于浮法玻璃的行 進(jìn)方向的特定位置。
所述側(cè)通道140與排出口 130連通，并形成在支撐墊塊114的內(nèi)側(cè)基本平行于該 浮槽110的寬度方向，使得熔融金屬(M)流回并且使通過所述排出口 130流入的雜質(zhì)或浮 渣(D)流向該浮槽110的兩側(cè)。并且，各側(cè)通道140都具有一個(gè)與其一端部連通的側(cè)孔142。 所述側(cè)孔142也與浮槽110的各相對(duì)側(cè)連通。所述排出口 130和所述一對(duì)側(cè)通道140可通過處理支撐墊塊114并為該處理過的 支撐墊塊設(shè)置管道而形成，或者可從一開始就被設(shè)計(jì)并形成。
在一個(gè)替換性實(shí)施方案中，本發(fā)明的設(shè)備還包括一個(gè)循環(huán)構(gòu)件150，用于將通過排 出口 130排出的熔融金屬(M)流至側(cè)通道140。所述循環(huán)構(gòu)件150被構(gòu)造為通過向通過排出口 130流入的熔融金屬(M)施加一行 進(jìn)磁場(chǎng)而使在排出口 130和側(cè)通道140中的熔融金屬(M)和浮渣(D)產(chǎn)生回流。典型地， 該循環(huán)構(gòu)件150具有一個(gè)線性電動(dòng)機(jī)。該循環(huán)構(gòu)件150的線性電動(dòng)機(jī)可在熔融金屬(M)的 表面上、或在浮槽110的排出口 130和/或側(cè)通道140中的側(cè)部、底部或其它位置設(shè)有任意 數(shù)量。具有線性電動(dòng)機(jī)的循環(huán)構(gòu)件150可以非接觸的方式直接驅(qū)動(dòng)熔融金屬(M)，并由此具 有簡易的流動(dòng)控制的優(yōu)點(diǎn)。所述線性電動(dòng)機(jī)通過以下方法在預(yù)定方向上產(chǎn)生行進(jìn)磁場(chǎng)，即 圍繞鐵芯形成梳狀主線圈，向所述線圈施加三相交流電壓，并使該線圈磁化。所產(chǎn)生的行進(jìn) 磁場(chǎng)向熔融金屬(M)提供一驅(qū)動(dòng)力。根據(jù)需要，熔融金屬(M)的流動(dòng)控制可在操作該用于 制造浮法玻璃的設(shè)備之前進(jìn)行預(yù)設(shè)置，或在操作該用于制造浮法玻璃的設(shè)備之后在生產(chǎn)玻 璃的中間進(jìn)行設(shè)置。當(dāng)該線性電動(dòng)機(jī)運(yùn)行以激勵(lì)該行進(jìn)磁場(chǎng)時(shí)，在排出口 130和側(cè)通道140中產(chǎn)生一 熔融金屬(M)的回流。也即，浮渣(D)可浮于其上的熔融金屬(M)從下游端經(jīng)過排出口 130、 沿側(cè)通道140移動(dòng)并通過側(cè)孔142流回至浮槽110的兩側(cè)。因此，根據(jù)本發(fā)明的所述優(yōu)選實(shí)施方案，可防止浮渣(D)停留在并圍繞離開點(diǎn) (TO)，尤其停留在熔融玻璃(G)的中央處，由此減小浮法玻璃的缺陷率。同時(shí)，浮在熔融金屬(M)上的浮渣(D)可通過一個(gè)收集裝置(未示出)而被收集。 該收集裝置可設(shè)在排出口 130或側(cè)通道140附近或者設(shè)在浮槽110的下游端的兩側(cè)。這里， 該收集裝置可包括例如一個(gè)用于通過加熱熔融金屬(M)而分解浮渣(D)的裝備；一個(gè)用于 通過冷卻熔融金屬(M)分離浮渣(D)、機(jī)械地俘獲被分離的浮渣(D)并物理地去除被俘獲的 浮渣⑶的裝備等。根據(jù)本發(fā)明的該優(yōu)選實(shí)施方案，該用于制造浮法玻璃的設(shè)備100還包括加熱單元 160。該加熱單元160布置在相應(yīng)的側(cè)通道140處，以提高沿側(cè)通道140流動(dòng)時(shí)冷卻的熔融 金屬(M)的溫度。該加熱單元160可為一個(gè)電加熱器，并被構(gòu)造以解決如下問題，即由于熔 融金屬(M)在浮槽110的下游端溫度降低而可能產(chǎn)生不必要的氣體。在上述實(shí)施方案中，支撐墊塊114表示為一個(gè)基本垂直于浮槽110寬度方向的壁， 并具有線性的布置。在替換性實(shí)施方案中，可構(gòu)思各種變型以更有效地排出雜質(zhì)——諸如 存在于浮槽110的下游端的浮渣(D)。圖3到5是根據(jù)本發(fā)明的各實(shí)施方案的導(dǎo)引構(gòu)件的視圖，其分別示出了一個(gè)支撐 墊塊或一個(gè)排出口的變型。與圖1和2相同的參考數(shù)字指示相同功能的相同部件。如圖3所示，一種根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)替換性實(shí)施方案的用于制造浮法玻璃的設(shè)備 還包括一個(gè)導(dǎo)引構(gòu)件170。該導(dǎo)引構(gòu)件170具有一個(gè)在排出口 132的進(jìn)口處形成的圓弧部分134。該圓弧部分134具有預(yù)定的曲率，由此該排出口 132的進(jìn)口大于該排出口 132的出 口。該排出口 132的這一圓弧進(jìn)口相對(duì)于排出口 132的成角的進(jìn)口提供了導(dǎo)引功能以及用 于通過排出口 132更容易地排出浮渣(D)的作用。 如圖4所示，根據(jù)本發(fā)明的另一替換性實(shí)施方案，一個(gè)導(dǎo)引構(gòu)件172具有漏斗形的 排出口 136，該排出口的出口具有小于進(jìn)口的寬度。以類似于上述實(shí)施方案的圓弧部分134 的方式，由于通過改變排出口 130的進(jìn)口和出口的寬度而改變了流率，該漏斗形的排出口 136便于浮渣⑶排出。如圖5所示，根據(jù)本發(fā)明的又一替換性實(shí)施方案，一個(gè)導(dǎo)引構(gòu)件174具有錐形的導(dǎo) 引壁，其從支撐墊塊114的相對(duì)邊緣朝位于支撐墊塊114中央的排出口 130向內(nèi)傾斜。在 熔融金屬(M)碰到浮槽110下游端的支撐墊塊114之后，這一錐形導(dǎo)引壁允許熔融金屬(M) 沿其流向排出口 130。這一錐形的構(gòu)造提供了一個(gè)如下的下游端的壁，其相對(duì)于浮槽110的 寬度方向(W)以預(yù)定角度(θ )傾斜。同時(shí)，本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方案，可對(duì)其進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃秃透倪M(jìn)。并且，在 實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的的范圍內(nèi)可任意地選擇浮槽、熔融金屬、熔融玻璃、離開點(diǎn)、排出口、側(cè)通 道、循環(huán)構(gòu)件等的材料、形狀、尺寸、類型、數(shù)量、位置等，無論如何本發(fā)明在這點(diǎn)上并不受 限。如上所述，一種根據(jù)本發(fā)明的用于制造浮法玻璃的設(shè)備使用循環(huán)構(gòu)件使熔融金屬 流經(jīng)排出口和側(cè)通道流回至浮槽兩側(cè)。相應(yīng)地，可防止熔融金屬上的浮渣停留在浮槽的下 游端并減小浮法玻璃的缺陷率。在上文中，參考有限的實(shí)施方案和附圖描述了本發(fā)明。然而，這里所進(jìn)行的描述僅 是出于闡釋目的的優(yōu)選實(shí)施例，并不意在限制本發(fā)明的范圍，因此應(yīng)該理解的是，在不背離 本發(fā)明的主旨和范圍的情況下其它等價(jià)物和變型可用于本發(fā)明。
權(quán)利要求
一種用于制造浮法玻璃的設(shè)備，其包括一個(gè)用于存儲(chǔ)熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動(dòng)，所述熔融金屬在所述浮槽中流動(dòng)，該設(shè)備包括一個(gè)排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個(gè)壁在該壁的中央處形成，從而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對(duì)側(cè)通道，其在所述壁的內(nèi)部形成并與所述排出口和所述浮槽的兩側(cè)連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，還包括 一個(gè)導(dǎo)引構(gòu)件，其用于將所述壁附近的浮渣導(dǎo)引至所述排出口。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，其中所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)在所述排出口的進(jìn)口處形成的圓弧部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，其中所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)錐形的導(dǎo)引壁，其從所述壁的兩個(gè)邊緣朝位于所述壁的中 央處的所述排出口向內(nèi)傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，其中所述導(dǎo)引構(gòu)件具有一個(gè)漏斗形的排出口，該排出口的出口具有小于進(jìn)口的寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，還包括一個(gè)加熱單元，其布置在相應(yīng)的側(cè)通道處，用于加熱流經(jīng)所述側(cè)通道的熔融金屬。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備， 其中所述加熱單元具有一個(gè)加熱器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備，還包括一個(gè)循環(huán)構(gòu)件，其用于通過向所述熔融金屬施加一行進(jìn)磁場(chǎng)而使在排出口和側(cè)通道中 的所述熔融金屬和浮渣產(chǎn)生回流。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于制造浮法玻璃的設(shè)備， 其中所述循環(huán)構(gòu)件具有一個(gè)線性電動(dòng)機(jī)。
全文摘要
一種用于制造浮法玻璃的設(shè)備，其包括一個(gè)用于存儲(chǔ)熔融金屬的浮槽，熔融玻璃在所述熔融金屬上流動(dòng)，其中所述熔融金屬在該浮槽中流動(dòng)，該設(shè)備包括一個(gè)排出口，其貫穿所述浮槽的下游端的一個(gè)壁在該壁的中央處形成，從而將碰到所述壁的熔融金屬以及浮在所述熔融金屬上的浮渣排出；以及一對(duì)側(cè)通道，其形成在所述壁的內(nèi)部并與所述排出口和所述浮槽的兩側(cè)連通。
文檔編號(hào)C03B18/18GK101805112SQ20101011998
公開日2010年8月18日 申請(qǐng)日期2010年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月13日
發(fā)明者吳亨泳, 文元載, 樸熙俊, 李昌熙, 羅相業(yè), 金吉鎬, 金洋漢, 金英植 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Lg化學(xué)