專利名稱：基板的處理裝置及處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將在液晶顯示裝置等中使用的玻璃制的基板通過(guò)處理液處理的基板 的處理裝置及處理方法。
背景技術(shù)：
在用在液晶顯示裝置中的玻璃制的基板上形成電路圖案。為了在基板上形成電路 圖案而采用光刻工藝。光刻工藝如周知那樣在上述基板上涂布抗蝕劑，對(duì)該抗蝕劑經(jīng)由形 成有電路圖案的掩模照射光。接著，通過(guò)反復(fù)進(jìn)行多次將抗蝕劑的沒(méi)有被照射光的部分或照射了光的部分除 去、將除去了基板的抗蝕劑的部分蝕刻等的一系列的工序，在上述基板上形成電路圖案。在這樣的光刻工藝中，需要對(duì)上述基板進(jìn)行通過(guò)蝕刻液或在蝕刻后將抗蝕劑除去 的剝離液、還有在除去后用來(lái)清洗基板的清洗液等的處理液處理基板的工序。在將基板的板面通過(guò)處理液處理的情況下，例如進(jìn)行將基板通過(guò)輸送輥沿規(guī)定方 向輸送、并且在輸送的中途從位于基板的上方的噴嘴體噴射上述處理液來(lái)處理基板的作 業(yè)。上述噴嘴體在基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向上分別以規(guī)定間隔配置。 并且，從上述噴嘴體通常將處理液以圓形圖案噴射，并且使得在基板的板面上不產(chǎn)生沒(méi)有 被噴射處理液的部分，所以進(jìn)行使處理液的相鄰的圓形圖案搭接的作業(yè)。在專利文獻(xiàn)1中公開了將處理液以圓形的圖案噴射并使其在基板上搭接的技術(shù)， 在專利文獻(xiàn)2中公開了將處理液以四方形的圖案噴射并使其在基板上搭接的技術(shù)。[專利文獻(xiàn)1]日本特開2002-173784號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]日本特開2004-275989號(hào)公報(bào)可是，如果將處理液從噴嘴體噴射以使處理液的圖案在基板的板面上搭接，則與 圖案不搭接的情況相比有處理液的使用量增大的情況，有在成本上不好的情況。并且，由于 在圖案搭接的部分與不搭接的部分中處理液的供給量不同，所以還有沒(méi)有均勻地進(jìn)行通過(guò) 處理液的處理的情況。所以，最近考慮了使處理液以圖案不搭接的狀態(tài)從噴嘴體對(duì)基板的板面噴射的技 術(shù)。但是，如果從噴嘴體噴射的處理液的圖案是圓形，則如果不使其圖案搭接而噴射供給到 基板的板面上，則在相鄰的圖案間產(chǎn)生間隙。如果在相鄰的圓形的圖案間產(chǎn)生間隙，則有通過(guò)該間隙使處理液變得容易在基板 上流動(dòng)的情況。如果處理液變得容易在基板上流動(dòng)，則有處理液容易從基板的周邊部、特別 是與基板的輸送方向交叉的寬度方向的兩端部流落的情況。由此，流到基板的寬度方向的兩端部的處理液的量與其他部分相比變多，所以基 板的寬度方向兩端部的處理變得比其他部分更容易進(jìn)行，有基板的處理不能遍及整面均勻 地進(jìn)行的情況。此外，在基板的板面通過(guò)前工序的處理等而成為疏水面的情況下，處理液變得更容易從基板的寬度方向的兩側(cè)部流落，所以在這樣的疏水面的基板的情況下，有更容易在 處理中產(chǎn)生不均勻的情況。另一方面，如果從噴嘴體噴射的處理液的圖案是四方形，則能夠?qū)宓陌迕嬉?在圖案間不產(chǎn)生間隙的狀態(tài)均勻地噴射供給處理液。但是，如果對(duì)基板的整個(gè)板面以四方 形的圖案無(wú)間隙地均勻地供給處理液，則有在基板上形成各圖案的處理液的流動(dòng)性降低的 情況。如果基板的板面上的處理液的流動(dòng)性下降，則有在基板的上表面在處理液中發(fā)生 淤塞、向新的處理液的替換不再順暢地進(jìn)行的情況。由此，有通過(guò)處理液的基板的處理不再 均勻地進(jìn)行、或處理速度下降等的情況。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種通過(guò)使處理液不易從基板的寬度方向的兩端部流落、并 且使得在基板的寬度方向兩端部之間的部分中能夠確保處理液的流動(dòng)性、能夠遍及整個(gè)板 面不會(huì)不均勻而均勻地進(jìn)行基板的處理的基板的處理裝置及處理方法。本發(fā)明的基板的處理裝置，對(duì)基板的板面供給處理液從而處理該板面，其特征在 于，具備輸送單元，將上述基板沿規(guī)定方向輸送；第1噴嘴體，對(duì)上述基板的與輸送方向交 叉的寬度方向的兩端部，以不會(huì)產(chǎn)生間隙的緊密的狀態(tài)均勻地噴射供給上述處理液；以及 第2噴嘴體，對(duì)上述基板的除了由上述第1噴嘴體供給了處理液的寬度方向兩端部以外的 部分，相對(duì)上述基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向以產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴射供 給上述處理液。本發(fā)明的基板的處理方法，對(duì)基板的板面供給處理液而處理該板面，其特征在于， 具備將上述基板沿規(guī)定方向輸送的工序；對(duì)上述基板的與輸送方向交叉的寬度方向的兩 端部，以不會(huì)產(chǎn)生間隙的緊密的狀態(tài)均勻地噴射供給上述處理液的工序；以及對(duì)上述基板 的除了寬度方向兩端部以外的部分，相對(duì)上述基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向以 產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴射供給上述處理液的工序。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，對(duì)基板的寬度方向的兩端部將處理液以不會(huì)產(chǎn)生間隙的緊密的狀態(tài) 均勻地噴射供給，對(duì)除了寬度方向兩端部以外的部分，相對(duì)基板的輸送方向及與輸送方向 交叉的方向以產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴射供給處理液。因此，在基板的寬度方向的兩端部，處理液的流動(dòng)性下降，所以即使基板的板面是 疏水性，處理液也不易從該板面的寬度方向兩端部流落，在除了寬度方向兩端部以外的部 分中，被噴射供給的處理液處于具有流動(dòng)性的狀態(tài)，所以處理液遍及到整個(gè)板面而進(jìn)行均 勻地處理。即，能夠不使處理液從基板的寬度方向兩端部流落的量增大而將整個(gè)面均勻地處理。


圖1是表示有關(guān)本發(fā)明的第1實(shí)施方式的處理槽的沿著長(zhǎng)度方向的概略結(jié)構(gòu)的剖 視圖。圖2是處理槽的沿著寬度方向的放大剖視圖。
圖3是處理槽的寬度方向一端部的放大圖。圖4A是第1噴嘴體的噴嘴頭部的立體圖。圖4B是第2噴嘴體的噴嘴頭部的立體圖。圖5是表示從第1、第2噴嘴體沿基板的寬度方向噴射處理液的狀態(tài)的立體圖。圖6是表示從第1、第2噴嘴體對(duì)基板噴射的處理液的圖案的俯視圖。圖7是表示從第1、第2噴嘴體對(duì)基板以與圖6所示的圖案不同的圖案噴射處理液 的狀態(tài)的俯視圖。圖8是將圖7所示的通過(guò)四方形圖案和圓形圖案噴射蝕刻液的情況、與僅將圓形 圖案以曲折狀噴射的情況的蝕刻量比較的曲線圖。圖9是表示表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式的從第1、第2噴嘴體沿基板的寬度方向噴 射處理液的狀態(tài)的立體圖。圖10是表示從第1、第2噴嘴體對(duì)基板噴射的處理液的圖案的俯視圖。圖11是表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式的被傾斜輸送的基板的圖。圖12是表示對(duì)圖11所示的基板從第1、第2噴嘴體噴射的處理液的圖案的俯視 圖。標(biāo)記說(shuō)明4輸送軸(輸送單元)，5輸送輥(輸送單元)，12驅(qū)動(dòng)源(輸送單元)，23第1噴 嘴體，24第2噴嘴體，23a、24a噴嘴頭部，23b、24b噴射孔，Sl四方形圖案，S2圓形圖案
具體實(shí)施例方式以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。圖1至圖8表示本發(fā)明的第1實(shí)施方式。圖1所示的本發(fā)明的處理裝置具備腔室 1。該腔室1在長(zhǎng)度方向一端形成有送入口 2，在另一端形成有送出口 3，在內(nèi)部在長(zhǎng)度方向 上以規(guī)定間隔可旋轉(zhuǎn)地設(shè)有多個(gè)輸送軸4。在輸送軸4上，沿軸向以規(guī)定間隔設(shè)有多個(gè)輸送 輥5。如圖2和圖3所示，各輸送軸4的兩端部受軸承6可旋轉(zhuǎn)地支撐。在多個(gè)輸送軸 的1根的端部上嵌裝有蝸輪7。設(shè)在該輸送軸4上的蝸輪7與蝸桿8嚙合。蝸桿8嵌裝在 沿著腔室1的長(zhǎng)度方向配置的從動(dòng)軸9上。在上述從動(dòng)軸9上設(shè)有從動(dòng)滑輪11，在該從動(dòng)滑輪11和嵌裝在驅(qū)動(dòng)源12的旋轉(zhuǎn) 軸12a上的驅(qū)動(dòng)滑輪13上張?jiān)O(shè)有鏈14。由此，如果通過(guò)驅(qū)動(dòng)源12旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)上述驅(qū)動(dòng)滑輪 13，則對(duì)應(yīng)于其旋轉(zhuǎn)，經(jīng)由從動(dòng)軸9旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)設(shè)有上述蝸輪7的輸送軸4。在各輸送軸4的一端部上設(shè)有未圖示的鏈輪。在各鏈輪上張?jiān)O(shè)有未圖示的鏈。由 此，如果旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)設(shè)有蝸輪7的輸送軸4，則其他輸送軸4與其旋轉(zhuǎn)聯(lián)動(dòng)。另外，上述驅(qū)動(dòng)源12受未圖示的控制裝置控制驅(qū)動(dòng)，能夠使上述驅(qū)動(dòng)滑輪13的旋 轉(zhuǎn)方向?yàn)檎D(zhuǎn)方向、反轉(zhuǎn)方向以及使正轉(zhuǎn)方向和反轉(zhuǎn)方向交替而旋轉(zhuǎn)。從上述腔室1的送入口 2送入在液晶顯示裝置中使用的玻璃制的矩形狀的基板W。 將送入到腔室1內(nèi)的基板W使其下表面接觸在設(shè)于輸送軸4上的輸送輥5而輸送。在上述輸送軸4的上方，配置有兩端部受軸承17可旋轉(zhuǎn)地支撐的推壓軸18。在該 推壓軸18的兩端部上，設(shè)有推壓由上述輸送軸4的輸送輥5輸送的上述基板W的寬度方向的兩端邊緣的上表面的推壓輥19。即，基板W的寬度方向兩端邊緣的下表面和上表面被上 述輸送輥5和推壓輥19保持而輸送。在由上述腔室1內(nèi)的輸送輥5輸送的基板W的上方，如圖1所示，沿著基板W的輸 送方向以間距P1的間隔配置有桿狀的多個(gè)安裝部件22。如圖2所示，在各安裝部件22的兩端部、即在與上述基板W的輸送方向交叉的寬 度方向的兩端部的上方對(duì)置的部分上安裝有第1噴嘴體23，在中途部安裝有多個(gè)第2噴嘴 體24。這些噴嘴體23、24在上述安裝部件22的長(zhǎng)度方向上等間隔、在該實(shí)施方式中以間距 P2的間隔安裝。這里，設(shè)定為P1 = P20另外，在基板W的輸送方向上，設(shè)在相鄰的安裝部件22上的第1、第2噴嘴體23、 24在與基板W的輸送方向交叉的寬度方向上設(shè)在相同的位置上。如圖3和圖4A、圖4B所示，第1、第2噴嘴體23、24具有噴嘴頭部23a、24a。在第 1噴嘴體23的噴嘴頭部23a上，如圖4A所示在上述噴嘴頭部23a的下表面形成有開口為四 方形、在該實(shí)施方式中開口為正方形的菱錐狀的噴射孔23b。在噴嘴孔23b的頂部上連通著 圓柱狀的供給孔23c，將處理液從該供給孔23c供給到噴射孔23b中。在上述第2噴嘴體24的噴嘴頭部24a上，如圖4B所示在上述噴嘴頭部24a的下 表面形成有開口為圓形的圓錐狀的噴射孔24b。在噴射孔24b的頂部上連通著圓柱狀的供 給孔24c，將處理液從該供給孔24c供給到噴射孔24b中。被供給到各噴嘴體23、24中的處理液成為對(duì)應(yīng)于各噴嘴頭部23a、24a的噴射孔 23b,24b的形狀的形狀，即成為作為第1圖案的正方形狀的四方形圖案Si、和作為第2圖案 的圓形圖案S2，被噴射到基板W的上表面。通過(guò)用后述的高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)25設(shè)定設(shè)有上述第1、第2噴嘴體23、24的安裝部件 22的高度，如圖6所示那樣對(duì)上述基板W的上表面的與輸送方向交叉的寬度方向的兩端部 從一對(duì)第1噴嘴體23將處理液以正方形的四方形圖案Sl噴射供給，對(duì)一對(duì)四方形圖案Sl 之間從多個(gè)第2噴嘴體24將處理液以鄰接的圓形圖案S2噴射供給。此時(shí)，四方形圖案Sl 的一邊的長(zhǎng)度與圓形圖案S2的直徑為相同的尺寸。另一方面，從設(shè)在沿基板W的輸送方向相鄰的安裝部件22上的第1噴嘴體23的 噴射孔23b噴射的處理液的四方形圖案Sl被以在上述基板W的輸送方向上無(wú)間隙地鄰接 的狀態(tài)、即緊密的狀態(tài)噴射。從設(shè)在相鄰的安裝部件22上的上述第2噴嘴體24的噴射孔24b噴射的處理液的 圓形圖案S2在被噴射上述四方形圖案Sl的基板W的寬度方向的兩端部間以矩陣狀鄰接而 被噴射供給。如果將四方形圖案Sl的處理液以沿著基板的輸送方向鄰接的、沒(méi)有間隙的緊密 的狀態(tài)對(duì)基板W的寬度方向兩端部噴射供給，則在基板W的寬度方向兩端部上處理液的流 動(dòng)性降低。由此，即使基板W的板面是疏水面，被供給到基板W的寬度方向兩端部上的處理 液也不易從端部向外方流落。對(duì)于基板W的寬度方向兩端部的四方形圖案Sl之間，將圓形圖案S2的處理液以 沿基板W的寬度方向及輸送方向鄰接的狀態(tài)以矩陣狀噴射供給。即使圓形圖案S2沿基板 W的寬度方向及輸送方向鄰接，在相鄰的圓形圖案S2之間也產(chǎn)生圖6中用C表示的間隙。 即，對(duì)基板W以有間隙C的稀松的狀態(tài)噴射供給圓形圖案S2。
如果在圓形圖案S2間有間隙C，則在形成圓形圖案S2的處理液中發(fā)生朝向上述間 隙C的流動(dòng)。即，供給到基板W的寬度方向兩端部的四方形圖案Sl之間的圓形圖案S2的 處理液通過(guò)形成上述間隙C而具有流動(dòng)性。由此，被供給到基板W的寬度方向兩端部的四 方形圖案Sl之間的圓形圖案S2的處理液一邊流動(dòng)以填埋上述間隙C一邊使相互的圖案S2 相互交雜而均勻地分布。上述噴嘴體23、24能夠由設(shè)在上述安裝部件22的兩端部上的上述高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu) 25進(jìn)行相對(duì)于基板W的板面的高度調(diào)節(jié)。該高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)25如圖3所示，具有裝配桿27。 該裝配桿27的一端經(jīng)由連結(jié)片26安裝在上述安裝部件22的兩端上。裝配桿27使軸線與 上述安裝部件22的軸線平行而設(shè)置。在上述腔室1內(nèi)的寬度方向兩端上經(jīng)由L字狀的托架29立設(shè)有導(dǎo)引部件28。該 托架29的下端固定在上述腔室1的側(cè)壁下部。在上述導(dǎo)引部件28上沿著上下方向，在上 述導(dǎo)引部件28的厚度方向上貫通形成有細(xì)長(zhǎng)的導(dǎo)引孔31。在上述導(dǎo)引孔31中，從導(dǎo)引部件28的厚度方向的一端將上述裝配桿27的另一端 部沿著導(dǎo)引孔31的長(zhǎng)度方向可滑動(dòng)地插入。從上述導(dǎo)引部件28的厚度方向另一端，將翼 形螺釘32經(jīng)由墊圈33螺合在上述裝配桿27的端面。因而，如果將上述翼形螺釘32松動(dòng)，則能夠使上述安裝部件22沿著導(dǎo)引部件28 的導(dǎo)引孔31沿上下方向滑動(dòng)，如果將上述翼形螺釘32擰緊，則能夠?qū)⑸鲜霭惭b部件22在 規(guī)定的位置上固定。在上述裝配桿27上螺合著調(diào)節(jié)螺釘34。該調(diào)節(jié)螺釘34的上端部可旋轉(zhuǎn)地插通在 設(shè)在上述導(dǎo)引部件28的上端的支撐部件35中，下端可旋轉(zhuǎn)地支撐在安裝有上述導(dǎo)引部件 28的托架29的上表面。在上述調(diào)節(jié)螺釘34上，螺合著位于上述支撐部件35的上表面?zhèn)群拖卤砻鎮(zhèn)鹊穆?母36。如果將螺合在一對(duì)螺母36的某一個(gè)和上述裝配桿27上的翼形螺釘32松動(dòng)，使上 述調(diào)節(jié)螺釘34旋轉(zhuǎn)，則能夠經(jīng)由上述裝配桿27將上述安裝部件22的高度向上方或下方微 調(diào)。即，安裝在上述安裝部件22上的噴嘴體23、24能夠通過(guò)上述高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)25調(diào)節(jié)相 對(duì)于上述基板W的板面的高度。通過(guò)改變噴嘴體23、24的高度，能夠改變從各噴嘴體23、24噴射而到達(dá)基板W的 上表面的處理液的四方形圖案Sl及圓形圖案S2的面積。由此，在基板W的寬度方向及與 該寬度方向交叉的輸送方向上，能夠?qū)⑸鲜龅?、第2圖案S1、S2如圖6所示那樣噴射供給 到基板W的上表面。另外，如圖6所示，將從上述第1、第2噴嘴體23、24噴射的處理液的基板W的與輸 送方向?qū)?yīng)的噴射區(qū)域R設(shè)定得比基板W的沿著輸送方向的長(zhǎng)度尺寸大，該第1、第2噴嘴 體23、24設(shè)在沿基板W的輸送方向以規(guī)定間隔配置的多個(gè)安裝部件22上。接著，說(shuō)明通過(guò)上述結(jié)構(gòu)的處理裝置處理基板W的順序。首先，使驅(qū)動(dòng)源12動(dòng)作， 將基板W從腔室1的送入口 2送入到內(nèi)部，從設(shè)在腔室1內(nèi)的第1、第2噴嘴體23、24將處 理液朝向基板W的板面噴射。對(duì)于基板W的板面的與輸送方向交叉的寬度方向的兩端部，如圖6所示，通過(guò)與基 板W的輸送方向鄰接的四方形圖案Sl以緊密的狀態(tài)供給從第1噴嘴體23噴射的處理液， 對(duì)于基板W的寬度方向的兩端部間、即四方形圖案Sl之間的部分，通過(guò)以矩陣狀鄰接、并且為在相鄰的圖案間產(chǎn)生間隙C的稀松的狀態(tài)的圓形圖案S2噴射供給處理液。如果對(duì)基板W的寬度方向兩端部將處理液通過(guò)四方形圖案Sl以沒(méi)有間隙的緊密 的狀態(tài)對(duì)基板W的輸送方向供給，則處理液不僅在基板W的輸送方向上，而且對(duì)于基板W的 寬度方向，流動(dòng)性也被限制。由此，被供給到基板W的寬度方向兩端部的處理液不易從寬度 方向的端部向外方流落。對(duì)以緊密的狀態(tài)供給到基板W的寬度方向兩端部上的四方形圖案Sl之間、以存在 間隙C的稀松的狀態(tài)以矩陣狀噴射供給的圓形圖案S2的處理液流動(dòng)，以使形成各圓形圖案 S2的處理液將上述間隙C填埋。由此，在基板W的寬度方向兩端部之間的部分，通過(guò)處理液朝向上述間隙C流動(dòng)， 分布狀態(tài)變得均勻，并且通過(guò)該流動(dòng)，不易發(fā)生基板W上的淤塞，所以容易沒(méi)有不均勻而均 勻地進(jìn)行處理液的處理。S卩，由于處理液不易從基板W的寬度方向的兩端部流落、并且在其他部分中處理 液流動(dòng)而均勻地分布，所以結(jié)果將基板W的整個(gè)板面進(jìn)行均勻地處理。通常，從上述腔體1的送入口 2送入到內(nèi)部的基板W被朝向送出口 3以規(guī)定的速 度輸送。并且，基板W在通過(guò)上述腔室1的期間中，被從第1、第2噴嘴體23、24如上述那樣 供給的處理液處理。另一方面，在想要可靠地進(jìn)行對(duì)基板W的蝕刻或清洗等的處理的情況下，也可以 使處理液在基板W上在不從第1、第2噴嘴體23、24噴射的區(qū)域R (圖6所示)脫離的范圍 中反復(fù)往復(fù)運(yùn)動(dòng)。在上述第1實(shí)施方式中，對(duì)于上述基板W的板面的被用四方形圖案Sl噴射供給處 理液的兩端部之間的部分，將處理液以圓形圖案S2以矩陣狀噴射供給，但也可以將上述圓 形圖案S2以如圖7所示那樣成為曲折狀的方式噴射供給。如果將圓形圖案S2的處理液以曲折狀噴射供給，則圓形圖案S2的數(shù)量在每一列 中一個(gè)個(gè)變少。由此，與將圓形圖案S2以矩陣狀噴射供給的情況相比，在數(shù)量較少的列中， 在位于兩端的圓形圖案S2與噴射供給到寬度方向兩端部的矩形圖案Sl之間產(chǎn)生的間隙C2 變得比其他部分的間隙Cl大，所以通過(guò)上述間隙C2，能夠使流動(dòng)性較少的寬度方向兩端部 的處理液的流動(dòng)性變大。另外，如果使圓形圖案S2成為曲折狀，則沿基板W的輸送方向圓形圖案S2的間距 變小，所以相應(yīng)地相鄰的矩形圖案Si搭接。圖8表示作為處理液而使用蝕刻液，將如圖7所示那樣通過(guò)四方形圖案Sl和配置 為曲折狀的圓形圖案S2將蝕刻液噴射供給到基板W上的情況、和僅將圓形圖案S2設(shè)為曲 折狀噴射供給的情況的蝕刻量在多個(gè)點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。圖8中用A表示的折線是前 者的情況，用B表示的折線是后者的情況。另外，折線A和折線B中的測(cè)量點(diǎn)測(cè)量在各處理 中使用的各個(gè)基板W的相同的位置(部位)。如果比較折線A和折線B，則將處理液對(duì)基板W的寬度方向兩端部用四方形圖案 Sl供給、對(duì)其之間的部分將圓形圖案S2設(shè)為曲折狀而供給的曲線A，與對(duì)整個(gè)面用圓形圖 案S2以曲折狀供給的情況相比，可以確認(rèn)蝕刻量的偏差變小、即能夠均勻地進(jìn)行蝕刻。圖9和圖10表示本發(fā)明的第2實(shí)施方式。在該第2實(shí)施方式中，如圖9所示，在 使長(zhǎng)度方向沿著與基板W的輸送方向交叉的寬度方向而配置在基板的上方的安裝部件22上，在對(duì)置于上述基板W的兩端部的部分上，以間距P2的間隔分別設(shè)有兩個(gè)第1噴嘴體23， 在第1噴嘴體23之間的部分上同樣以間距P2的間隔設(shè)有多個(gè)第2噴嘴體24。詳細(xì)情況沒(méi)有圖示，但在基板W的輸送方向上，將如上述那樣設(shè)有第1噴嘴體23 和第2噴嘴體24的多個(gè)安裝部件22以間距P1的間隔設(shè)置。圖10表示對(duì)在如圖9所示那樣設(shè)有第1噴嘴體23和第2噴嘴體24的多個(gè)安裝 部件22的下方輸送的基板W噴射的處理液的圖案。根據(jù)第2實(shí)施方式，對(duì)于與基板W的輸送方向交叉的寬度方向的兩端部，分別通過(guò) 兩個(gè)第1噴嘴體23將四方形的第1圖案Sl以兩列噴射供給。因而，與對(duì)基板W的寬度方向兩端部噴射的第1圖案Sl是1列的情況相比，能夠 進(jìn)一步減少?gòu)幕宓膶挾确较騼啥瞬苛髀涞奶幚硪旱牧?。在上述?實(shí)施方式中，排列在基板W的寬度方向兩端部上的四方形的圖案根據(jù) 基板的大小等也可以是3列以上，其列的數(shù)量越多，供給到基板的上表面的處理液越不易 從寬度方向兩端部流落。即，排列在基板W的寬度方向兩端部上的四方形的圖案的列的數(shù) 量并不僅限于1列，也可以是多列。圖11和圖12表示本發(fā)明的第3實(shí)施方式。在該第3實(shí)施方式中，如圖11所示， 將設(shè)有構(gòu)成輸送單元的輸送輥5的輸送軸4使軸線相對(duì)于水平線H以規(guī)定的角度θ、例如 5 10度的角度傾斜而配置。由此，將由上述輸送輥5輸送的基板W相對(duì)于與輸送方向交叉的寬度以5 10度 的角度傾斜而輸送。對(duì)于上述基板W的上表面，如圖11和圖12所示，對(duì)基板W的傾斜方向的上端側(cè)的 端部、即寬度方向一端部，通過(guò)第1噴嘴體23將處理液用四方形圖案Sl以不產(chǎn)生間隙的緊 密的狀態(tài)噴射供給，對(duì)于除了上述一端部以外的其他部分，通過(guò)第2噴嘴體24將處理液例 如用圓形圖案S2以產(chǎn)生間隙C的稀松的狀態(tài)噴射供給。上述第1、第2噴嘴體23、24與第 1實(shí)施方式同樣，安裝在沿著基板W的輸送方向以間距P1的間隔配置的安裝部件22上。另外，與基板W的輸送方向相對(duì)的噴射區(qū)域R與第1實(shí)施方式同樣，設(shè)定得比基板 W的沿著輸送方向的長(zhǎng)度尺寸大。在使基板W相對(duì)于與輸送方向交叉的寬度方向傾斜而輸送的情況下，對(duì)基板W的 上表面噴射供給的處理液的一部分難以從作為基板W的傾斜方向的上端側(cè)的寬度方向一 端部向外方流落，但在基板W的傾斜角度較小的情況下有流落的情況。如果處理液的一部 分從基板W的傾斜方向的上端側(cè)流落，則有基板W的板面沒(méi)有被均勻地處理的情況。所以，如果對(duì)基板W的寬度方向一端部將處理液通過(guò)四方形圖案Sl以不產(chǎn)生間隙 的緊密的狀態(tài)噴射供給，則能夠防止處理液從基板W的寬度方向一端部流落。結(jié)果，被噴射供給到基板W的上表面的處理液從基板W的傾斜方向上端側(cè)朝向下 端側(cè)均勻地流落，所以通過(guò)該處理液的流動(dòng)，能夠?qū)⒒錡的板面均勻地處理。在上述各實(shí)施方式中，對(duì)作為四方形圖案而將處理液用正方形的圖案噴射供給的 情況進(jìn)行了說(shuō)明，但作為四方形圖案也可以不是正方形而是矩形。只要是能夠?qū)宓膶?度方向的兩端部將處理液以緊密的狀態(tài)噴射供給的形狀就可以。此外，對(duì)基板的寬度方向的兩端部噴射處理液的四方形圖案也可以是一部分從基 板的寬度方向的端緣向外方偏離的狀態(tài)。
此外，對(duì)基板的除了寬度方向兩端部以外的部分供給處理液的圖案也可以代替圓 形圖案而是橢圓形的圖案，只要是能夠?qū)⑻幚硪阂援a(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)供給的形狀就可 以。進(jìn)而，也可以改變第1、第2噴嘴體的支撐高度，使相鄰的四方形圖案Sl及圓形圖 案S2以規(guī)定的搭接量搭接而供給處理液。
權(quán)利要求
1.一種基板的處理裝置，對(duì)基板的板面供給處理液從而處理該板面，其特征在于，具備輸送單元，將上述基板沿規(guī)定方向輸送；第1噴嘴體，對(duì)上述基板的與輸送方向交叉的寬度方向的兩端部，以不會(huì)產(chǎn)生間隙的 緊密的狀態(tài)均勻地噴射供給上述處理液；以及第2噴嘴體，對(duì)上述基板的除了由上述第1噴嘴體供給了處理液的寬度方向兩端部以 外的部分，相對(duì)上述基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向以產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴 射供給上述處理液。
2.如權(quán)利要求1所述的基板的處理裝置，其特征在于，上述第1噴嘴體以四方形狀的第1圖案噴射供給上述處理液，上述第2噴嘴體以圓形 或橢圓形的第2圖案噴射供給上述處理液。
3.如權(quán)利要求1或2所述的基板的處理裝置，其特征在于，對(duì)上述基板的與輸送方向交叉的寬度方向的兩端部，通過(guò)上述第1噴嘴體以上述第1 圖案沿著上述基板的輸送方向成為一列的方式噴射供給上述處理液，對(duì)上述基板的上述寬 度方向的兩端部之間的部分，通過(guò)上述第2噴嘴體以上述第2圖案成為矩陣狀或曲折狀的 方式噴射供給上述處理液。
4.一種基板的處理裝置，一邊將基板沿規(guī)定方向輸送，一邊對(duì)板面供給處理液而處理 該板面，其特征在于，具備輸送單元，使上述基板在與上述規(guī)定方向交叉的寬度方向上傾斜而沿上述規(guī)定方向輸送；第1噴嘴體，對(duì)上述基板的寬度方向中的傾斜方向上端側(cè)的一端部，以不會(huì)產(chǎn)生間隙 的緊密的狀態(tài)均勻地噴射供給上述處理液；以及第2噴嘴體，對(duì)上述基板的除了由上述第1噴嘴體供給了處理液的寬度方向一端部以 外的部分，相對(duì)上述基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向以產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴 射供給上述處理液。
5.一種基板的處理方法，對(duì)基板的板面供給處理液而處理該板面，其特征在于，具備 將上述基板沿規(guī)定方向輸送的工序；對(duì)上述基板的與輸送方向交叉的寬度方向的兩端部，以不會(huì)產(chǎn)生間隙的緊密的狀態(tài)均 勻地噴射供給上述處理液的工序；以及對(duì)上述基板的除了寬度方向兩端部以外的部分，相對(duì)上述基板的輸送方向及與輸送方 向交叉的方向以產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴射供給上述處理液的工序。
全文摘要
本發(fā)明提供一種在將基板的板面通過(guò)由噴嘴體噴射供給的處理液處理時(shí)，能夠?qū)⒄麄€(gè)面均勻地處理的基板的處理裝置。具備將基板沿規(guī)定方向輸送的輸送輥(5)、對(duì)基板的與輸送方向交叉的寬度方向兩端部以不會(huì)產(chǎn)生間隙的緊密的狀態(tài)均勻地噴射供給處理液的第1噴嘴體(23)、以及對(duì)基板的除了由第1噴嘴體供給了處理液的寬度方向兩端部以外的部分，以相對(duì)于基板的輸送方向及與輸送方向交叉的方向產(chǎn)生間隙的稀松的狀態(tài)噴射供給處理液的第2噴嘴體(24)。
文檔編號(hào)C03C15/00GK102001834SQ20101027067
公開日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2010年9月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月2日
發(fā)明者今岡裕一, 大森圭悟, 磯明典 申請(qǐng)人:芝浦機(jī)械電子株式會(huì)社