專(zhuān)利名稱(chēng)：鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃及生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合吸減反層的高透射高效遮陽(yáng)性能的三銀 低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
隨著對(duì)于玻璃幕墻的高通透外光和高遮陽(yáng)性能不斷的追求，兩者之間的矛盾愈發(fā) 凸顯。市場(chǎng)上現(xiàn)有鍍有雙銀層的低輻射鍍膜玻璃，普遍高可見(jiàn)光透射的產(chǎn)品其遮陽(yáng)系數(shù)較 高，尚沒(méi)有同時(shí)滿(mǎn)足高透射率和低遮陽(yáng)系數(shù)的雙層銀結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的，為提供一種高可見(jiàn)光透射率和低遮陽(yáng)系數(shù)鍍有三層銀的低輻射鍍膜 玻璃，該玻璃結(jié)構(gòu)是在玻璃基板鍍制包含有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層在內(nèi)的三層銀層 結(jié)構(gòu)，各膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向外依次為
玻璃和復(fù)合減反層(1) +銀層(1) +保護(hù)層(1)和復(fù)合電介質(zhì)層(1) +銀層(2) +保護(hù) 層(2 ) +復(fù)合減反層(2 ) +銀層(3 ) +保護(hù)層( +電介質(zhì)層(1)；各膜層厚度是 電介質(zhì)層(1)為Si3N4,膜層厚度為 IOnm-IOOnm; 銀層(1)、( 2 )、( 3 )為Ag，膜層厚度分別為 5nm-50nm ； 復(fù)合減反層(1)、(2)為SiR+ZnO，厚度為分別IOnm-IOOnm; 保護(hù)層(1)、(2)、(3)為NiCrOx，膜層厚度為分別為lnm-50nm; 復(fù)合電介質(zhì)層(1)為ai0+Sn02+Zn0結(jié)構(gòu)，膜層厚度為IOnm-110nm。所述鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃各膜層的鍍制工藝是 復(fù)合減反層(1)、(2)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的Si圓靶在氬氧氛圍中濺射，其氬氧比
例保持在1:1.2 ；并在SiO2I鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的SiO層，其氬氧比例保持在 6 7 ；復(fù)合減反層(1)的總厚度為IOnm-IOOnm；復(fù)合減反層(2)的總厚度為IOnm-IIOnm; 銀層(1)、( 2 )、( 3 )鍍制工藝通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射； 保護(hù)層(1)、(2)鍍制工藝通過(guò)直流平靶在氬氧氣氛圍中濺 射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20 ；氬氧比例保持在20 :3 ；
復(fù)合電介質(zhì)層(1)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射，其中氬氧 比為2 :3，鋅靶氬氧比為5 7 ；
電介質(zhì)層(1)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的Si圓靶在氬氮氛圍中濺射；硅鋁合金之比為 Si:Al=90:10 ；氬氮之比為 1 1. 2。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是，和傳統(tǒng)高透雙銀層的低輻射鍍膜玻璃相比，在相同的可見(jiàn)光透 射值條件下，其遮陽(yáng)性能較之傳統(tǒng)雙銀低輻射玻璃提高了 3096，有效了彌補(bǔ)了這一市場(chǎng)需 求空白。特別是具有超出相同高可見(jiàn)光透射值的雙銀低輻射膜的紅外線(xiàn)反射能力，膜層表 面輻射率和遮陽(yáng)系數(shù)更低且反射率低等優(yōu)良特性的玻璃。
與高透射低輻射雙銀玻璃相比，本次開(kāi)發(fā)的高透射高遮陽(yáng)性能低輻射三銀玻璃 由于采取了 3層銀層間整合復(fù)合電介質(zhì)層和兩層復(fù)合減反層的復(fù)雜工藝，使得輻射率較之 前者大大降低，從而實(shí)現(xiàn)玻璃的遮陽(yáng)性能的進(jìn)一步提高，光選擇性范圍加大。由于鍍有復(fù)合 電介質(zhì)層和復(fù)合減反層，使得產(chǎn)品保留了本身高通透率的同時(shí)，不僅比同通光率的雙銀低 輻射玻璃的輻射率降低了 30%，而且可以按客戶(hù)要求同時(shí)滿(mǎn)足高透射率和低遮陽(yáng)系數(shù)。其克 服了以往雙銀低輻射玻璃光選擇性差，不能兼顧高透射和低輻射率的缺點(diǎn)，能在保有非常 優(yōu)異的遮陽(yáng)性能的同時(shí)，獨(dú)特的膜層結(jié)構(gòu)又能使得產(chǎn)品具有高通透的外觀(guān)效果。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明用平板玻璃雙端連續(xù)式鍍膜機(jī)，包括12個(gè)交流陰極，6個(gè)直流陰極，采用下表 列出的工藝參數(shù)，使用10個(gè)交流雙靶，6個(gè)直流單靶，共16個(gè)靶位進(jìn)行生產(chǎn)，制出本發(fā)明三 銀復(fù)合結(jié)構(gòu)的
低反射高遮陽(yáng)低輻射鍍膜玻璃，其工藝參數(shù)和靶的位置列表如下
權(quán)利要求
1.一種鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃，其特征在于在玻璃基板 鍍制包含有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層在內(nèi)的三層銀層結(jié)構(gòu)，各膜層結(jié)構(gòu)，自玻璃基板向 外依次為玻璃和復(fù)合減反層(1) +銀層(1) +保護(hù)層(1)和復(fù)合電介質(zhì)層(1) +銀層(2) +保護(hù) 層(2 ) +復(fù)合減反層(2 ) +銀層(3 ) +保護(hù)層(3) +電介質(zhì)層(1)；各膜層厚度是 電介質(zhì)層(1)為Si3N4，膜層厚度為 IOnm-IOOnm； 銀層(1)、( 2 )、( 3 )為Ag，膜層厚度分別為 5nm-50nm ； 復(fù)合減反層(1)、(2)為Si02+Zn0，厚度為分別IOnm-IOOnm; 保護(hù)層(1)、(2)、(3)為NiCrOx，膜層厚度為分別為lnm-50nm;復(fù)合電介質(zhì)層(1)為Zn0+Sn02+Zn0結(jié)構(gòu)，膜層厚度為IOnm-110nm。
2.按權(quán)利要求1所述鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃生產(chǎn)工藝，各 膜層的鍍制工藝是復(fù)合減反層(1)、(2)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的Si圓靶在氬氧氛圍中濺射，其氬氧比 例保持在1 :1. 2 ；并在SiO2I鍍有由交流陰極的陶瓷鋅靶濺射的ZnO層，其氬氧比例保持在 6 7 ；復(fù)合減反層(1)的總厚度為IOnm-IOOnm;復(fù)合減反層(2)的總厚度為IOnm-IlOnm; 銀層(1)、( 2 )、( 3 )鍍制工藝通過(guò)直流平靶在氬氣氛圍中濺射； 保護(hù)層(1)、( 2)鍍制工藝通過(guò)直流平靶在氬氧氣氛圍中濺 射鎳鉻合金，其中Ni:Cr=80:20 ；氬氧比例保持在20 :3 ；復(fù)合電介質(zhì)層(1)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的錫靶、鋅靶在氧氬氛圍中濺射，其中氬氧 比為2 :3，鋅靶氬氧比為5 7 ；電介質(zhì)層(1)鍍制工藝通過(guò)交流陰極的Si圓靶在氬氮氛圍中濺射；硅鋁合金之比為 Si:Al=90:10 ；氬氮之比為 1 1. 2。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍有復(fù)合電介質(zhì)層和復(fù)合減反層的高透射鍍膜玻璃及生產(chǎn)工藝，該產(chǎn)品自玻璃基板向外的結(jié)構(gòu)層依次為玻璃/復(fù)合減反層(1)+銀層(1)+保護(hù)層(1)/復(fù)合電介質(zhì)層(1)+銀層(2)+保護(hù)層(2)+復(fù)合減反層(2)+銀層(3)+保護(hù)層(3)+電介質(zhì)層(1)；各膜層鍍制工藝，采用真空磁控濺射鍍膜工藝，優(yōu)點(diǎn)是，具有極強(qiáng)的紅外線(xiàn)反射能力，膜層表面輻射率低，實(shí)現(xiàn)可見(jiàn)光的高透過(guò)率和中低反射率等優(yōu)良特性的玻璃的同時(shí)，獲得比傳統(tǒng)雙銀低輻射膜更高的遮陽(yáng)性能。
文檔編號(hào)C03C17/36GK102079629SQ20101058039
公開(kāi)日2011年6月1日 申請(qǐng)日期2010年12月9日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月9日
發(fā)明者吳斌, 徐佳霖, 李志軍, 楊國(guó)浩, 沈國(guó)全, 陳海嶸 申請(qǐng)人:上海耀華皮爾金頓玻璃股份有限公司, 上海耀皮工程玻璃有限公司, 上海耀皮建筑玻璃有限公司, 天津耀皮工程玻璃有限公司