專利名稱：一種仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及陶瓷的制造方法，尤其涉及具有石紋外觀效果的陶瓷制品的制造方法。
背景技術(shù)：
具有石頭紋理效果的陶瓷制品由于具有特別的觀賞效果，作為花瓶、擺設(shè)、用具或 者收藏品受到消費(fèi)者的青睞，具有廣闊的市場(chǎng)空間。因此，它成為陶瓷制品裝飾的一個(gè)發(fā)展 方向。中國(guó)發(fā)明專利申請(qǐng)公開說(shuō)明書CN1218020A提出了一種在陶瓷上形成大理石紋飾 的方法，首先提供一高密度、粘度小、高稠度的底釉，然后將比重小、粘度大、低稠度的面釉 緩緩倒入底釉中，由于兩種釉比重及粘度的落差，面釉在底釉中未立即分解，并漂浮于底釉 的表層，接著劃動(dòng)釉面使其產(chǎn)生大理石紋，然后將素?zé)卟糠纸谟灾袧L轉(zhuǎn)一圈，使釉彩覆 于胚上，完成上釉程序后在高溫中燒制即產(chǎn)生大理石紋。該方法操作難以控制，再現(xiàn)性較 差，成品率低，并且難以形成不能形成石頭的自然色斑。CN1241497A、 CN1424190A、 CN1546294A、 CN1727147A、 CN1887558A 以及 CN101585210A公開的具有石紋表層的陶瓷是采用機(jī)械方法將一種或多種色漿分散在陶瓷 素坯表面，燒成后陶瓷表面顯示多種色漿顏色來(lái)體現(xiàn)石頭斑紋。但是這些方法操作復(fù)雜，并 且由于斑紋過(guò)于規(guī)整，仿石效果較差。CN1923747A認(rèn)為，將色素包裹在熔塊中，燒成后可形成仿石材圖案釉面陶瓷，但由 于色素斑塊過(guò)小，出現(xiàn)石材圖案與天然石頭差距較大。CN101066890A認(rèn)為，在陶瓷泥坯上施一層底釉，制備底釉坯，將底釉坯表面沾取含 有氣泡的色釉，由于色釉漿泡破滅形成大理石花紋，這種方法適應(yīng)性能強(qiáng)，能夠適用于器型 復(fù)雜的陶瓷產(chǎn)品，但色斑單一，陶瓷產(chǎn)品表面平整度較差，與自然石頭紋理差距較遠(yuǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種操作簡(jiǎn)易，在燒制過(guò)程釉層出現(xiàn)窯變而形成仿芝麻石 凹凸網(wǎng)紋的陶瓷制造方法。該方法包括以下步驟A.按重量百分比配制含二氧化錫11 13%，二氧化鋯78 82%，氧化鎳4 6%，氧化鈷2 4%的第一色基材料，按第一色基材料重量的50 60%加水研磨，按第一 色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第一色基材料與透明基礎(chǔ)釉混 合，加水配成總含固量50 52%的第一釉漿；B.按重量百分比配制含氧化鈷14 16%，氧化鎳9 11%，三氧化二鉻14 16%,氧化鐵18 22%，二氧化錳38 42%的第二色基材料，按第二色基材料重量的50 60%加水研磨，按第二色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第二色基 材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50 52%的第二釉漿；
C.按重量百分比配制含二氧化錫11 13%，二氧化鋯68 72%，氧化鎳2 4%,氧化銻9 11 %的第三色基材料，按第三色基材料重量的50 60%加水研磨，按第三 色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第三色基材料與透明基礎(chǔ)釉混 合，加水配成總含固量50 52%的第三釉漿；D.按重量百分比配制含三氧化二硼38 42%，氧化鈣28 32%，氧化鍶14 16 %，氧化鋅14 16 %的第四色基材料，按第四色基材料重量的50 60 %加水研磨，按第 四色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第四色基材料與透明基礎(chǔ)釉 混合，加水配成總含固量50 52%的第四釉漿；E.在陶瓷坯體上施第一釉漿，自然干燥0. 5 1小時(shí)后施第二釉漿，再自然干燥 1 1. 5小時(shí)后施第三釉漿，再自然干燥1 1. 5小時(shí)后施第四釉漿，第一釉漿、第二釉漿、 第三釉漿和第四釉漿的用量之比為1 0.55 0.65 0.35 0.45 0. 14 0. 18 ；F.施釉后的陶瓷坯體進(jìn)行燒制在200 800°C時(shí)每小時(shí)升溫180 200°C，800 1100°C時(shí)每小時(shí)升溫90 100°C，1100 1260°C時(shí)每小時(shí)升溫50 60°C，到達(dá)1260 1270°C時(shí)?；鸾禍?，冷卻后陶瓷坯體成為仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷制品。本發(fā)明中，透明基礎(chǔ)釉是陶瓷工業(yè)中使用的普通透明釉，或者成為熔塊。在步驟A中，優(yōu)選的第一色基材料的重量百分含量為二氧化錫12%，二氧化鋯 80 %，氧化鎳5 %，氧化鈷3 %。在步驟B中，優(yōu)選的第二色基材料重量百分含量為氧化鈷15%，氧化鎳10%，三氧 化二鉻15 %，氧化鐵20 %，二氧化錳40 %。在步驟C中，優(yōu)選的第三色基材料的重量百分含量為二氧化錫10%，二氧化鋯 70 %，氧化鎳3 %，氧化銻10 %。在步驟D中，優(yōu)選的第四色基材料的重量百分含量為三氧化二硼40%，氧化鈣 30 %，氧化鍶15 %，氧化鋅15 %。在步驟E中，第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿的用量之比為 1 0. 6 0. 4 0. 18。在步驟F中，燒制過(guò)程在溫度為800 900°C時(shí)，采用還原方式燒制，S卩加大燃料用 量但不增加空氣流量，窯爐中燃料在缺氧狀態(tài)下燃燒，此外的其它溫度范圍采用氧化方式 燒制，即燃料在氧氣充分的狀態(tài)下完全燃燒。本發(fā)明在燒成過(guò)程釉層出現(xiàn)窯變，燒成后的陶瓷制品在釉層表面出現(xiàn)凹凸，凹入 部分像鱗片，鱗片中出現(xiàn)灰黑色和白色等多種色斑，色斑深淺和分布狀況與芝麻石頭相近 似，具有芝麻石外觀視覺效果，凸起的部分在鱗片之間，為白色條紋色斑，并相互連接形成 網(wǎng)狀，本發(fā)明施釉操作不難控制，燒制過(guò)程與普通釉面陶瓷基本相同。由于采用低鉛、低鎘 材料，產(chǎn)品符合美國(guó)加州65和歐盟鉛鎘標(biāo)準(zhǔn)。


圖1是實(shí)施例1的方法制作的陶瓷制品表面外觀效果圖。圖2是圖1陶瓷制品的局部表面外觀效果圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1按重量百分比配制含二氧化錫12%，二氧化鋯80%，氧化鎳5%，氧化鈷3%的第 一色基材料，按第一色基材料重量的60%加水研磨，按第一色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比 20 100的比例將研磨后的第一色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50%的第 一釉漿。按重量百分比配制含氧化鈷15 %，氧化鎳10 %，三氧化二鉻15 %，氧化鐵20 %，二 氧化錳40%的第二色基材料，按第二色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨 后的第二色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50%的第二釉漿。按重量百分比配制含二氧化錫10 %，二氧化鋯70 %，氧化鎳3 %，氧化銻10 %的第 三色基材料，按第三色基材料重量的60%加水研磨，按第三色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比 20 100的比例將研磨后的第三色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50%的第 三釉漿。按重量百分比配制含三氧化二硼40%，氧化鈣30%，氧化鍶15%，氧化鋅15%的 第四色基材料，按第四色基材料重量的60%加水研磨，按第四色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量 比20 100的比例將研磨后的第四色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50%的 第三釉漿。在陶瓷坯體上采用浸泡法施第一釉漿，自然干燥0. 8小時(shí)后采用噴施法均勻噴施 第二釉漿，再自然干燥1小時(shí)后采用噴施法均勻噴施第三釉漿，再自然干燥1小時(shí)后采用噴 施法均勻噴施第四釉漿，第一釉漿干燥后的厚度約為0. 2mm，第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿 和第四釉漿的用量之比為1 0. 37 0. 30 0.25。施釉后的陶瓷坯體進(jìn)行燒制在開始時(shí)緩慢加熱，使陶瓷坯體中的水分緩慢蒸發(fā)， 防止陶瓷坯體變形，加熱1小時(shí)后可升高到80°c，之后逐漸加大火力，經(jīng)1小時(shí)后升高到 200 V，在200 800 V之間每小時(shí)升溫200 V，溫度升高到800 °C后，在800 900 V之間，采 用還原方式燒制，即加大燃料用量但不增加空氣流量，窯爐中燃料在缺氧狀態(tài)下不完全燃 燒，1小時(shí)后溫度升高到900°C，之后增加空氣流量，窯爐中燃料完全燃燒，在900 1100°C 之間每小時(shí)升溫100°C，1100 1260°C之間每小時(shí)升溫60°C，到達(dá)1260°C時(shí)?；鸾禍?，冷卻 到室溫后打開窯爐，陶瓷坯體成為仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷制品。該陶瓷制品外觀視覺效果如圖1和圖2所示，圖2是按比例尺1 1的局部表面 外觀圖，從圖1和圖2可見，釉層表面出現(xiàn)凹凸，凹入部分像鱗片，鱗片中出現(xiàn)灰黑色和白色 等多種色斑，色斑深淺和分布狀況與芝麻石頭相近似，具有明確的芝麻石外觀視覺效果，凸 起的部分在鱗片之間，為白色條紋色斑，并相互連接形成網(wǎng)狀。
權(quán)利要求
1.一種仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，包括以下步驟A.按重量百分比配制含二氧化錫11 13%，二氧化鋯78 82%，氧化鎳4 6%，氧 化鈷2 4%的第一色基材料，按第一色基材料重量的50 60%加水研磨，按第一色基材 料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第一色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水 配成總含固量50 52%的第一釉漿；B.按重量百分比配制含氧化鈷14 16%，氧化鎳9 11%，三氧化二鉻14 16%， 氧化鐵18 22%，二氧化錳38 42%的第二色基材料，按第二色基材料重量的50 60% 加水研磨，按第二色基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第二色基材料 與透明基礎(chǔ)釉混合，加水配成總含固量50 52%的第二釉漿；C.按重量百分比配制含二氧化錫11 13%，二氧化鋯68 72 %，氧化鎳2 4 %，氧 化銻9 11 %的第三色基材料，按第三色基材料重量的50 60%加水研磨，按第三色基材 料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第三色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合，加水 配成總含固量50 52%的第三釉漿；D.按重量百分比配制含三氧化二硼38 42%，氧化鈣28 32%，氧化鍶14 16%， 氧化鋅14 16%的第四色基材料，按第四色基材料重量的50 60%加水研磨，按第四色 基材料和透明基礎(chǔ)釉重量比20 100的比例將研磨后的第四色基材料與透明基礎(chǔ)釉混合， 加水配成總含固量50 52%的第四釉漿；E.在陶瓷坯體上施第一釉漿，自然干燥0.5 1小時(shí)后施第二釉漿，再自然干燥1 1. 5小時(shí)后施第三釉漿，再自然干燥1 1. 5小時(shí)后施第四釉漿，第一釉漿、第二釉漿、第三 釉漿和第四釉漿的用量之比為1 0.55 0.65 0.35 0.45 0. 14 0. 18 ；F.施釉后的陶瓷坯體進(jìn)行燒制在200 800°C時(shí)每小時(shí)升溫180 200°C，800 1100°C時(shí)每小時(shí)升溫90 100°C，1100 1260°C時(shí)每小時(shí)升溫50 60°C，到達(dá)1260 1270°C時(shí)?；鸾禍?，冷卻后陶瓷坯體成為仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷制品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟A中， 第一色基材料的重量百分含量為二氧化錫12 %，二氧化鋯80 %，氧化鎳5 %，氧化鈷3 %。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟B中， 第二色基材料重量百分含量為氧化鈷15 %，氧化鎳10 %，三氧化二鉻15 %，氧化鐵20 %，二 氧化錳40%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟C中， 第三色基材料的重量百分含量為二氧化錫10%，二氧化鋯70%，氧化鎳3%，氧化銻10%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟D中， 第四色基材料的重量百分含量為三氧化二硼40%，氧化鈣30%，氧化鍶15%，氧化鋅15%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟E中， 第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿的用量之比為1 0.6 0.4 0.18。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋陶瓷的制造方法，其特征在于，在步驟F中， 燒制過(guò)程在溫度為800 900°C時(shí)，采用還原方式燒制，此外的其它溫度范圍采用氧化方式 燒制。
全文摘要
本發(fā)明公開一種在燒制過(guò)程釉層出現(xiàn)窯變而形成仿芝麻石凹凸網(wǎng)紋的陶瓷制造方法，配制含二氧化錫、二氧化鋯、氧化鎳和氧化鈷的第一釉漿，含氧化鈷、氧化鎳、三氧化二鉻、氧化鐵和二氧化錳的第二釉漿，含二氧化錫、二氧化鋯、氧化鎳和氧化銻的第三釉漿，含三氧化二硼、氧化鈣、氧化鍶和氧化鋅的第四釉漿，在陶瓷坯體上依次施第一釉漿、第二釉漿、第三釉漿和第四釉漿，燒制后陶瓷制品釉層出現(xiàn)窯變，在釉層表面出現(xiàn)凹凸，凹入部分像鱗片，鱗片中出現(xiàn)灰黑色和白色等多種色斑，色斑深淺和分布狀況與芝麻石頭相近似，具有芝麻石外觀視覺效果，凸起的部分在鱗片之間，為白色條紋色斑，并相互連接形成網(wǎng)狀。
文檔編號(hào)C04B41/86GK102001866SQ20101059023
公開日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2010年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月7日
發(fā)明者陳佩娟, 陳樹波 申請(qǐng)人:陳佩娟