專利名稱：一種三銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及鍍膜玻璃，尤其涉及一種三銀低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
國標(biāo)GBT18915[2]_2002《建筑玻璃第2部分低輻射鍍膜玻璃》，中規(guī)定的離線低輻 射鍍膜玻璃的輻射率低于0. 15。在現(xiàn)有技術(shù)的單銀低輻射鍍膜玻璃、雙銀低輻射鍍膜玻璃， 可以做到輻射率0. 05 0. 08。為了提升隔熱性，一般是通過增加銀層的厚度的方法，這將 意味著是犧牲一定的透過率的前提下獲得更低的輻射率。而銀層的厚度的增加也會(huì)造成成 本的上升。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種低輻射率的三銀鍍膜玻璃。本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為一種三銀低輻射鍍膜玻璃，層級(jí)結(jié)構(gòu)依次是玻璃，第一阻隔層，第一電介質(zhì)層，第 一銀層，第二阻隔層，第二電介質(zhì)層，第二銀層，第三阻隔層，第三電介質(zhì)層，第三銀層，第四 阻隔層，第四電介質(zhì)層，頂層保護(hù)層。所述第一阻隔層厚度為10-30nm。所述第二阻隔層、第三阻隔層、第四阻隔層厚度為0. 5-8nm。所述第一銀層、第二銀層、第三銀層為平面靶濺射而成，膜層厚度為6-20nm ；所述第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層厚度為10-60nm。所述頂層保護(hù)層厚度為10-30nm。本實(shí)用新型中，第一阻隔層采用硅的氧化物、氮化物或氮氧化物制成；第二阻隔 層、第三阻隔層、第四阻隔層采用鎳鉻的氧化物、氮化物或氮氧化物制成；第一銀層、第二銀 層、第三銀層采用平面靶濺射而成；第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第四電介 質(zhì)層采用鈦、鋅、鋁、硅的氧化物、氮化物或氮氧化物，可以是TiO2, SiO2, ZnO，Al2O3中的一種 或多種制成；頂層保護(hù)層是硅的氮氧化物Si3NxOy制成，其中χ > 2，0 < y < 2。本實(shí)用新型的有益效果具有很低的輻射率< 0. 03，良好的遮陽系數(shù)，顏色可調(diào)， 隔熱性好，可以應(yīng)用在建筑玻璃和汽車玻璃等方面；通過設(shè)置阻隔層，可以有效的保護(hù)后續(xù) 的銀層，阻止玻璃本體中鈉離子等的擴(kuò)散，減少有害離子對(duì)于銀層的侵蝕，利用濺射的硅的 氧化物很好的與玻璃本體之中的硅氧網(wǎng)絡(luò)體連接起來，更好的匹配作用，可有效的提高整 個(gè)膜系的抗老化性能、抗侵蝕性能，性能更穩(wěn)定、壽命更長(zhǎng)久。

圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的一種三銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參考圖1，一種三銀低輻射鍍膜玻璃，其層級(jí)結(jié)構(gòu)一次是玻璃1，第一阻隔層2，第 一電介質(zhì)層3，第一銀層4，第二阻隔層5，第二電介質(zhì)層6，第二銀層7，第三阻隔層8，第三 電介質(zhì)層9，第三銀層10，第四阻隔層11，第四電介質(zhì)層12，頂層保護(hù)層13。第一阻隔層2 =SiO2制成，膜層厚度為15nm ；第一電介質(zhì)層3 氧化鋅錫制成，膜層厚度為18nm ；第一銀層4 :Ag平面靶濺射而成，膜層厚度為IOnm ；第二阻隔層5 氧化鎳鉻制成，膜層厚度為2nm ；第二電介質(zhì)層6 氧化鋅錫制成，膜層厚度為56nm ；第二銀層7 :Ag平面靶濺射而成，膜層厚度為12nm ；第三阻隔層8 氧化鎳鉻制成，膜層厚度為2nm ；第三電介質(zhì)層9 氧化鋅錫制成，膜層厚度為60nm ；第三銀層10 :Ag平面靶濺射而成，膜層厚度為ISnm ；第四阻隔層11 氧化鎳鉻制成，膜層厚度為2nm ；第四電介質(zhì)層12 氧化鋅錫制成，膜層厚度為20nm ；頂層保護(hù)層13 =Si3N4制成，膜層厚度為16nm ；第一阻隔層(10-30nm) :Si02，膜層厚度為12-18nm ；作用是很好的保護(hù)作用，防止 玻璃本體中的鈉離子遷移而影響膜層的結(jié)合性能，隔絕作用，而是利用濺射的Si的氧化物 很好的與玻璃本體之中的硅氧網(wǎng)絡(luò)體連接起來，更好的匹配作用，有利于提高玻璃的光學(xué) 性能和化學(xué)穩(wěn)定性。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型所作的進(jìn)一步詳細(xì)說明，不能 認(rèn)定本實(shí)用新型的具體實(shí)施只局限于這些說明。對(duì)于本實(shí)用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù) 人員來說，在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下，作出具體的改變或變化均屬于本實(shí)用新型 的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于層級(jí)結(jié)構(gòu)依次是玻璃，第一阻隔層，第一電 介質(zhì)層，第一銀層，第二阻隔層，第二電介質(zhì)層，第二銀層，第三阻隔層，第三電介質(zhì)層，第三 銀層，第四阻隔層，第四電介質(zhì)層，頂層保護(hù)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一阻隔層厚度為 10-30nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第二阻隔層、第三阻 隔層、第四阻隔層厚度為0. 5-8nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一銀層、第二銀 層、第三銀層為平面靶濺射而成，膜層厚度為6-20nm ；
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述第一電介質(zhì)層、第二 電介質(zhì)層、第三電介質(zhì)層、第四電介質(zhì)層厚度為10-60nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的三銀低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述頂層保護(hù)層厚度為 10-30nm。
專利摘要本實(shí)用新型屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，提供一種三銀低輻射鍍膜玻璃。這種三銀低輻射鍍膜玻璃，層級(jí)結(jié)構(gòu)依次是玻璃，第一阻隔層，第一電介質(zhì)層，第一銀層，第二阻隔層，第二電介質(zhì)層，第二銀層，第三阻隔層，第三電介質(zhì)層，第三銀層，第四阻隔層，第四電介質(zhì)層，頂層保護(hù)層。本實(shí)用新型三銀低輻射鍍膜玻璃，輻射率＜0.03，遮陽系數(shù)良好，顏色可調(diào)，隔熱性好，可以用作建筑玻璃和汽車玻璃等；通過設(shè)置阻隔層，可以有效的保護(hù)后續(xù)的銀層，阻止玻璃本體中鈉離子等的擴(kuò)散，減少有害離子對(duì)于銀層的侵蝕，利用濺射的硅的氧化物很好的與玻璃本體之中的硅氧網(wǎng)絡(luò)體連接起來，更好的匹配作用，可有效的提高整個(gè)膜系的抗老化性能、抗侵蝕性能，性能更穩(wěn)定、壽命更長(zhǎng)久。
文檔編號(hào)C03C17/36GK201901646SQ20102062338
公開日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2010年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月24日
發(fā)明者董清世, 辛崇飛 申請(qǐng)人:信義玻璃工程(東莞)有限公司