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一種鐘罩淋釉的平流裝置和鐘罩淋釉器的制作方法

文檔序號:1844546閱讀:492來源:國知局
專利名稱:一種鐘罩淋釉的平流裝置和鐘罩淋釉器的制作方法
技術領域
本實用新型涉及一種鐘罩淋釉的平流裝置,具體是一種實現鐘罩淋釉釉簾均勻平穩(wěn)的淋釉裝置,使淋釉后的磚坯表面釉料均勻的平流裝置;本實用新型還涉及采用上述平流裝置的鐘罩淋釉器。
背景技術
在陶瓷行業(yè),大多數廠家均采用鐘罩淋釉工藝為磚坯上釉,由于鐘罩淋釉器是弧形,釉料經弧形罩可以較均勻地對磚坯各點施加壓力,施釉重量差別小,最終獲得的釉面質量較高;現實生產中普遍采用鐘罩平行于釉線的部分進行淋釉生產,即用兩條濕布條在鐘罩淋釉器表面上圍成扇形,釉料從鐘罩的上方口流下,在鐘罩淋釉器外表面形成扇形釉簾, 扇形釉簾的寬度根據磚坯平行釉線的一邊的尺寸而定。根據微積分原理,扇形釉簾容易出現中間部分的釉料流量小,兩邊釉料流量大。由于磚坯的邊緣有小弧度的倒角,使得邊緣的致密度比其它部位高。淋釉時,磚坯中間部位的釉料較簿,收水快,釉料在重力的作用下流向四邊積存,造成磚坯四邊的釉層較厚,收水慢, 特別是平行于釉線前進方向的磚坯邊緣釉層更厚,收水更慢,從而使淋在磚坯兩邊的釉料多于中間,造成釉面不平整,易產生“重釉”缺陷,以及在使用輥筒印花時很容易造成磚坯表面兩邊出現“色紋”;在生產色釉時,還會因兩邊的釉料比中間厚,從而造成邊緣的顏色深于中間而形成“色邊”。當生產邊緣簿中間厚的異形磚坯時,還會因兩邊的釉料過多,從而形成流釉,不但造成釉料浪費,還會因磚坯邊緣吸附的釉滴,在洗邊時易造成崩邊、剝釉缺陷,嚴重影響到產品的質量。

實用新型內容本實用新型要解決的第一個技術問題,是提供一種實現鐘罩淋釉釉簾均勻平穩(wěn)的淋釉裝置,使淋釉后的磚坯表面釉料均勻的平流裝置。本實用新型要解決的第二個技術問題,是提供一種采用上述平流裝置的鐘罩淋釉
ο本實用新型要解決的第一個技術問題,可以通過以下的技術方案實現一種鐘罩淋釉的平流裝置,其特征在于包括平流弧形板,該平流弧形板的一弧形邊設有兩個向外彎的折邊,兩折邊為平流耳臂,所述兩平流耳臂之間形成低于兩平流耳臂最高端面的平流缺本平流裝置的平流弧形板的弧度設計成鐘罩淋釉器上方的弧度相應,使用時,將本平流裝置按照平流耳臂朝上的方向安裝在鐘罩淋釉器的上方出釉缺口的內壁處,并使平流耳臂的最高端面略低于鐘罩淋釉器的出釉缺口,此時平流耳臂的最高端面與平流缺口連貫形成出釉缺口的底面。工作時,釉料經出釉口漫過平流裝置從平流耳臂和平流缺口流下, 流經平流耳臂時,由于兩邊平流耳臂比平流缺口高,釉料的流量略??;而流經平流缺口的釉料略大,形成略厚的扇形釉簾,但是從平流缺口流出的釉料與流經平流耳臂的釉料同時流
3下混合后,平流缺口流出的釉料被沖簿,因而在鐘罩上能形成均勻的釉簾。另外,兩平流耳臂之間的平流缺口的寬度對扇形釉簾的均勻度有影響,淋釉磚坯的尺寸大時,平流缺口也應按比例加大,反之則減少;實際使用時,根據生產的實際情況來設定平流缺口的尺寸,使平流缺口的寬度與淋釉磚坯的尺寸保持一定的比例。在上述基礎上,本實用新型所述兩平流耳臂最高端面與平流缺口的高度差h為 1. 5mm ;平流耳臂和平流缺口的高度差直接影響到淋釉時扇形釉簾的均勻度,針對目前常用的鐘罩,該數值可獲得較理想的淋釉效果,根據不同的生產需要,可設計平流耳臂最高端面與平流缺口的不同高度差,以達到最合適的生產效果。在上述基礎上,本實用新型可以做以下的改進所述兩平流耳臂與平流缺口的接連處均為平滑弧形;所述兩平流耳臂和/或平流缺口的邊緣均圓滑。上述兩結構可減少釉料經過平流耳臂和平流缺口時的阻力。在上述基礎上,本實用新型還可以做以下的改進所述兩平流耳臂與所述平流弧形板均垂直,并對稱設置在平流缺口的兩側;所述兩平流耳臂與平流弧形板為倒圓角過渡。在上述基礎上,本實用新型還可以做進一步的改進所述平流弧形板的一弧形邊緣向外90°彎折,該彎折邊的中部開有低于彎折邊的最高端面的缺口,該缺口為平流缺口, 所述平流缺口的兩側形成平流耳臂;該結構使平流弧形板和平流耳臂無接縫一體成型,便于制造,而且減少處理接縫處的工作。本實用新型要解決的第二技術問題,可以通過以下的技術方案來實現一種鐘罩淋釉器,包括底部密封、頂部為開口的圓弧罩,該圓弧罩頂部開口的側壁開有出釉缺口 ;其特征在于還包括平流裝置,該平流裝置包括設置在所述出釉缺口的平流弧形板,該平流弧形板的上弧形邊設有兩個向外彎的折邊,兩折邊為平流耳臂,所述兩平流耳臂之間形成低于兩平流耳臂最高端面的平流缺口 ;所述平流耳臂的最高端面位于圓弧罩的頂部端面和出釉缺口的底面之間。上述的技術方案,當平流缺口的底面低于出釉缺口的底面時,釉料經平流耳臂和出釉缺口位于兩平流耳臂之間的底面溢出,平流耳臂與出釉缺口的高度差影響淋釉時扇形釉簾的均勻度,因此將平流弧形板安裝在出釉缺口處時,需要保證平流耳臂最高端面與出釉缺口的底面的高度差在合適的范圍,增加了淋釉器的制造難度,作為本實用新型的一個優(yōu)選實施例,所述平流缺口的底面不低于所述出釉缺口的底面。該實施例使得平流耳臂的最高端面與平流缺口的底面連貫形成出釉缺口的底面,平流耳臂、平流缺口與出釉缺口的高度差均不會對釉簾厚度帶來任何影響,為使釉料經平流耳臂和平流缺口溢出形成厚度合適的釉簾,只需保證平流耳臂最高端面與平流缺口底面的高度差即可。所述平流弧形板的外徑與弧形罩頂部開口側壁的內徑相同,所述平流弧形板兩直邊的外表面緊貼在置弧形罩頂部開口的側壁的內表面上。所述平流弧形板的弧長小于比弧形罩頂部開口的半圓,以便調整平流缺口的位置。所述平流弧形板的寬度d與弧形罩頂部開口側壁的厚度d’相等。作為本實用新型最佳的實施例所述兩平流耳臂最高端面與平流缺口的高度差h 為 1. 5mm ;所述兩平流耳臂與平流缺口的接連處均為平滑弧形;所述兩平流耳臂和/或平流
4缺口的邊緣均圓滑;所述平流弧形板的一弧形邊緣向外90°彎折,該彎折邊的中部開有低于彎折邊的最高端面的缺口,該缺口為平流缺口,所述平流缺口的兩側形成平流耳臂。與現有技術相比,本實用新型提供的平流裝置,由于兩邊平流耳臂比平流缺口高, 釉料的流量略小;而流經平流缺口的釉料略大,形成略厚的扇形釉簾,但是從平流缺口流出的釉料與流經平流耳臂的釉料同時流下混合后,平流缺口流出的釉料被沖簿,因而在鐘罩上能形成均勻的釉簾。本實用新型提供的平流裝置不僅可提高磚坯釉面的質量,而且減少釉料浪費的情況。

圖1是本實用新型實施例1的平流裝置的結構示意圖;圖2是圖1的仰視圖;圖3是本實用新型實施例2的鐘罩淋釉器的使用示意圖;圖4是圖3中A部的放大圖;圖5是圖3的俯視圖。
具體實施方式
實施例1如圖1 2所示的鐘罩淋釉的平流裝置是本實用新型的實施例,本平流裝置為不銹鋼材料制成的一體結構,它包括了平流弧形板1,該平流弧形板1的一弧形邊緣向外90° 彎折,彎折處形成圓弧過渡。彎折邊的中部開有低于彎折邊的最高端面的缺口,該缺口為平流缺口 3,平流缺口 3的兩側形成對稱的平流耳臂2。兩平流耳臂2最高端面與平流缺口 3的高度差h為1. 5mm,兩平流耳臂2與平流缺口 3的接連處均為平滑弧形;兩平流耳臂2和平流缺口 3的邊緣均圓滑。實施例2本實用新型實施例2的鐘罩淋釉器如圖3 5所示,它包括了實施例1的平流裝置和弧形罩4,其中弧形罩4底部密封、頂部為開口,且頂部開口的側壁開有出釉缺口 ;平流裝置的平流弧形板1的外徑與弧形罩4頂部開口側壁的內徑相同;平流弧形板1弧長則小于比弧形罩4頂部開口的半圓;平流弧形板1寬度d與弧形罩4頂部開口側壁的厚度d’相等。平流裝置的平流弧形板1以平流耳臂2朝上的方向設置在出釉缺口處,具體是通過平流弧形板1兩直邊的外表面緊貼在置弧形罩4頂部開口的側壁的內表面上實現固定; 平流耳臂2的最高端面位于圓弧罩的頂部端面和出釉缺口的底面之間;平流缺口的底面不低于出釉缺口的底面(即平流缺口的底面高于出釉缺口的底面或與出釉缺口的底面齊平)。
權利要求1.一種鐘罩淋釉的平流裝置,其特征在于包括平流弧形板(1),該平流弧形板(1)的一弧形邊設有兩個向外彎的折邊,兩折邊為平流耳臂O),所述兩平流耳臂( 之間形成低于兩平流耳臂最高端面的平流缺口(3)。
2.根據權利要求1所述的平流裝置,其特征在于所述兩平流耳臂(2)最高端面與平流缺口(3)的高度差h為1. 5mm。
3.根據權利要求2所述的平流裝置,其特征在于所述兩平流耳臂(2)與平流缺口(3) 的接連處均為平滑弧形。
4.根據權利要求3所述的平流裝置,其特征在于所述兩平流耳臂(2)和/或平流缺口(3)的邊緣均圓滑。
5.根據權利要求4所述的平流裝置,其特征在于所述兩平流耳臂(2)與所述平流弧形板(1)均垂直,并對稱設置在平流缺口( 的兩側;所述兩平流耳臂( 與平流弧形板 (1)為倒圓角過渡。
6.根據權利要求5所述的平流裝置,其特征在于所述平流弧形板(1)的一弧形邊緣向外90°彎折,該彎折邊的中部開有低于彎折邊的最高端面的缺口,該缺口為平流缺口(3),所述平流缺口(3)的兩側形成平流耳臂O)。
7.—種鐘罩淋釉器,包括底部密封、頂部為開口的圓弧罩G),該圓弧罩(4)頂部開口的側壁開有出釉缺口 ;其特征在于還包括平流裝置,該平流裝置包括設置在所述出釉缺口的平流弧形板(1),該平流弧形板(1)的上弧形邊設有兩個向外彎的折邊,兩折邊為平流耳臂O),所述兩平流耳臂(2)之間形成低于兩平流耳臂最高端面的平流缺口(3);所述平流耳臂O)的最高端面位于圓弧罩的頂部端面和出釉缺口的底面之間。
8.根據權利要求7所述的鐘罩淋釉器,其特征在于所述平流缺口(3)的底面不低于所述出釉缺口的底面。
9.根據權利要求8所述的鐘罩淋釉器,其特征在于所述平流弧形板(1)的外徑與弧形罩(4)頂部開口側壁的內徑相同,所述平流弧形板(1)兩直邊的外表面緊貼在置弧形罩(4)頂部開口的側壁的內表面上;所述平流弧形板(1)的弧長小于比弧形罩(4)頂部開口的半圓; 所述平流弧形板(1)的寬度d與弧形罩(4)頂部開口側壁的厚度d’相等。
10.根據權利要求9所述的鐘罩淋釉器,其特征在于所述兩平流耳臂(2)最高端面與平流缺口(3)的高度差h為1. 5mm ;所述兩平流耳臂( 與平流缺口( 的接連處均為平滑弧形;所述兩平流耳臂(2)和 /或平流缺口⑶的邊緣均圓滑;所述兩平流耳臂( 與所述平流弧形板(1)均垂直,并對稱設置在平流缺口( 的兩側;所述兩平流耳臂O)與平流弧形板(1)為倒圓角過渡;所述平流弧形板(1)的一弧形邊緣向外90°彎折,該彎折邊的中部開有低于彎折邊的最高端面的缺口,該缺口為平流缺口(3),所述平流缺口( 的兩側形成平流耳臂O)。
專利摘要本實用新型涉及一種鐘罩淋釉的平流裝置,其特征在于包括平流弧形板(1),該平流弧形板(1)的一弧形邊設有兩個向外彎的折邊,兩折邊為平流耳臂(2),所述兩平流耳臂(2)之間形成低于兩平流耳臂最高端面的平流缺口(3)。本實用新型提供的平流裝置,由于兩邊平流耳臂比平流缺口高,釉料的流量略?。欢鹘浧搅魅笨诘挠粤下源?,形成略厚的扇形釉簾,但是從平流缺口流出的釉料與流經平流耳臂的釉料同時流下混合后,平流缺口流出的釉料被沖簿,因而在鐘罩上能形成均勻的釉簾。
文檔編號C04B41/86GK201942617SQ201020656978
公開日2011年8月24日 申請日期2010年12月11日 優(yōu)先權日2010年12月11日
發(fā)明者余國明, 李少平 申請人:廣東宏威陶瓷實業(yè)有限公司, 廣東宏陶陶瓷有限公司
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