專利名稱：陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)及其自動添加系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)、填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，以及超潔亮陶
瓷瓷磚。
背景技術：
陶瓷瓷磚通過原料制粉、壓機壓制、窯爐燒制、拋光、超潔亮防污、分級、包裝等一系列工序，最后才能成為優(yōu)質(zhì)合格的產(chǎn)品，在生產(chǎn)過程中使用了十幾種原料，因各種原料的特性不一，在窯爐燒制的過程中不可避免的出現(xiàn)一些微裂紋和表面氣孔。微裂紋和表面氣孔有時很大、有時很小，其分布沒有明顯的規(guī)律，完全靠各技術人員憑經(jīng)驗控制，致使發(fā)現(xiàn)有微裂紋和表面氣孔時，已經(jīng)有大批量的產(chǎn)品具有這種缺陷。而這些缺陷大大影響了瓷磚的品質(zhì)和在日常使用中的防污性能。目前，超白磚、滲花磚、微粉磚、拋釉磚等新型高檔陶瓷磚全面應用超潔亮防污系統(tǒng)。超潔亮防污系統(tǒng)主要通過納米水填充磚面的表面氣孔和微裂紋，為瓷磚表面增添特殊防護功能且結(jié)構(gòu)穩(wěn)定的納米級保護層，全面提升了新型高檔陶瓷磚的防污性能、光澤度和抗磨損性能。而納米水的特性是顆粒細小，無色無味，呈透明狀，通過納米拋光機磨盤的高速旋轉(zhuǎn)，再施加一定的氣壓，達到對納米水加溫加壓，增加納米水的滲透性，使其能完全滲透進磚面的表面氣孔和微裂紋中。正是因為納米水的特性，在對一些較大的表面氣孔和微裂紋達不到完全填充的效果，從而影響新型高檔磚在生產(chǎn)過程中的防污性和磚面效果。同時，陶瓷行業(yè)是流水線生產(chǎn)，對瓷磚的產(chǎn)量有一定的要求，也就是對流水線的速度有一定要求。納米水其材料顆粒小至納米級，很容易對細小的磚面毛孔和微裂紋填充。在線速度一定的情況下，如果磚面毛孔和微裂紋稍大，納米水就無法做到完全填充，生產(chǎn)中就會出現(xiàn)防污不達標，至使瓷磚缺陷大大超標，這種問題在線速度越快的情況就會越明顯。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述缺點，提供一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)、填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，使用一種顆粒性大于納米水的介質(zhì)碳酸氫鈣，與納米水聯(lián)合使用對較大的磚面毛孔和微裂紋進行填充，達到全面提升高檔瓷磚的超潔亮防污性和磚面效果。為解決上述問題，本發(fā)明通過以下技術方案實現(xiàn)本發(fā)明的一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)，其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣 60-70%、納米水30-40%。本發(fā)明還涉及一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，其包括以下步驟a.經(jīng)過拋光后的瓷磚從進口線架傳遞向超潔亮納米拋光機時，設置在進口線架和超潔亮納米拋光機之間的料斗內(nèi)的碳酸氫鈣滴落至磚面；b.瓷磚經(jīng)過超潔亮納米拋光機時，加溫至25-35°C的納米水滴落至磚面，其中步驟a中的碳酸氫鈣與納米水所占的重量百分比為碳酸氫鈣60-70%、納米水30-40%。C.利用超潔亮納米拋光機的第一組、第二組磨盤加壓、升溫，使磚面溫度也達到25-35°C，同時施加4KG的壓力，以增強碳酸氫鈣和納米水的滲透性；再通過磨盤的高速旋轉(zhuǎn)，使碳酸氫鈣和納米水均勻的分布于磚面，并完全滲透至稍大的磚面氣孔和微裂紋之中。在所述的料斗頂部設置有通過電磁閥開關控制的氣管，在料斗內(nèi)部設置有振動器，在料斗的底設置有過濾網(wǎng)，電磁閥、振動器分別與PLC連接。在步驟b中所述的加溫至25_35°C的納米水，加溫溫度優(yōu)選加溫至30°C，步驟c中所述的磚面加溫溫度也優(yōu)選加溫至30°C。本發(fā)明還涉及一種超潔亮陶瓷瓷磚，其在瓷磚表面和納米層1之間添加填充介質(zhì)，其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣60-70%、納米水30-40%。本發(fā)明還涉及一種根據(jù)所述的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)制備的超潔亮陶瓷瓷磚。本發(fā)明的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)，在納米層與磚面之間填充碳酸輕鈣和納米水的混合液，能有效填充磚面較大的表面氣孔(直徑約1匪以上)和微裂紋(長度約1匪以上)， 彌補納米水只能填充微小的氣孔和微裂紋的不足，達到全面填充的效果；由于填充工序設置在使用超潔亮納米拋光機之前，在達到填充效果的同時，也保持了納米水的特性，有效的降低了脫落、落臟等缺陷的發(fā)生率，全面提升新型高檔瓷磚的質(zhì)量。本發(fā)明涉及的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，在超潔亮納米拋光機設置有由PLC自動控制的料斗，能夠在不影響原有自動化流水線生產(chǎn)的基礎上，增加了添加碳酸氫鈣填料的工序，使生產(chǎn)的瓷磚的質(zhì)量更好。


圖1為填充了填充介質(zhì)的陶瓷瓷磚的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明所述的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖號說明L···納米層2…瓷磚表面 3…填充介質(zhì) 4…進口線架5…超潔亮納米拋光機6…料斗7…電磁閥 8…氣管9…振動器10…過濾網(wǎng)
具體實施例方式下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。本發(fā)明的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)3，其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣 60-70%、納米水30-40%。
具體實施方式
見表1:表1 填充介質(zhì)的組成(重量百分比％ )
權利要求
1.一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)，其特征在于其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣60-70%、納米水30-40%。
2.一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，其特征在于 其包括以下步驟a.經(jīng)過拋光后的瓷磚從進口線架傳遞向超潔亮納米拋光機時，設置在進口線架和超潔亮納米拋光機之間的料斗內(nèi)的碳酸氫鈣撒落至磚面；b.瓷磚經(jīng)過超潔亮納米拋光機時，加溫至25-35°C的納米水滴落至磚面，其中步驟a中的碳酸氫鈣與納米水所占的重量百分比分別為碳酸氫鈣60-70%、納米水30-40%。c.利用超潔亮納米拋光機的第一組、第二組磨盤加壓、升溫，使磚面溫度也達到 25-35°C，同時施加4KG的壓力，以增強碳酸氫鈣和納米水的滲透性；再通過磨盤的高速旋轉(zhuǎn)，使碳酸氫鈣和納米水均勻的分布于磚面，并完全滲透至稍大的磚面氣孔和微裂紋之中。
3.根據(jù)權利要求2所述的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，其特征在于在所述的料斗頂部設置有通過電磁閥開關控制的氣管，在料斗內(nèi)部設置有振動器，在料斗的底部設置有過濾網(wǎng)，電磁閥、振動器分別與PLC連接。
4.根據(jù)權利要求2所述的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，其特征在于 在步驟b中所述的加溫至25-35°C的納米水，加溫溫度優(yōu)選加溫至30°C，步驟c中所述的磚面加溫溫度也優(yōu)選加溫至30°C。
5.一種超潔亮陶瓷瓷磚，其特征在于在瓷磚表面和納米層1之間添加權利要求1所述的填充介質(zhì)，其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣60-70%、納米水30-40%。
6.一種根據(jù)權利要求2所述的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)制備的超潔亮陶瓷瓷石專ο
全文摘要
一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)，其包括以下重量百分比的組分碳酸氫鈣60-70％、納米水30-40％；以及一種陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，將加溫至25-35℃的納米水與碳酸氫鈣混合，通過超潔亮納米拋光機使碳酸氫鈣和納米水均勻的分布于磚面，并完全滲透至稍大的磚面氣孔和微裂紋之中。本發(fā)明提供的陶瓷瓷磚的填充介質(zhì)、填充介質(zhì)的自動添加系統(tǒng)，使用一種顆粒性大于納米水的介質(zhì)碳酸氫鈣，與納米水聯(lián)合使用對較大的磚面毛孔和微裂紋進行填充，達到全面提升高檔瓷磚的超潔亮防污性和磚面效果。
文檔編號B28B11/08GK102241058SQ201110157749
公開日2011年11月16日 申請日期2011年6月10日 優(yōu)先權日2011年6月10日
發(fā)明者姜斌 申請人:霍鐮泉