專利名稱：蝕刻玻璃基板的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開(kāi)在此涉及一種蝕刻裝置。
背景技術(shù)：
平板顯示器包括由二氧化硅形成的玻璃基板。由于玻璃基板是平板顯示器中最重的部分，因此為了提供更輕且更纖薄的平板顯示器正在進(jìn)行大量的研究以開(kāi)發(fā)更輕的玻璃基板。減輕玻璃基板的重量的典型方法可以是減小該玻璃基板的厚度。為此，基板玻璃在蝕刻之后應(yīng)該是平整的。也就是說(shuō)，在減小玻璃基板的厚度時(shí)玻璃基板的均勻性是重要的，因?yàn)槿绻褂貌痪鶆虻牟ＡЩ鍎t平板顯示器可能具有圖像質(zhì)量缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例的一方面致力于一種用于均勻且有效地蝕刻玻璃基板的裝置。本發(fā)明的各實(shí)施例提供一種用于蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置包括容器，配置為容納蝕刻劑；第一板，位于所述容器中，并配置為在該第一板上接收水平放置的玻璃基板； 和循環(huán)單元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置為在所述第一板的面上產(chǎn)生蝕刻劑的流動(dòng)。所述循環(huán)單元可以包括第二板，面向所述第一板；和旋轉(zhuǎn)葉片，位于所述第二板的頂面或底面上。所述第一板和所述第二板在俯視圖中可以具有圓形形狀。所述循環(huán)單元可以進(jìn)一步包括配置為控制所述第二板的驅(qū)動(dòng)單元。所述驅(qū)動(dòng)單元可以配置為調(diào)節(jié)所述第一板與所述第二板之間的距離以及所述第二板的旋轉(zhuǎn)速度。用于蝕刻玻璃基板的所述裝置可以進(jìn)一步包括傳感器，位于所述容器的側(cè)壁上并鄰近所述第一板，且配置為測(cè)量所述玻璃基板的厚度；和控制單元，配置為接收來(lái)自所述傳感器的信號(hào)并向所述驅(qū)動(dòng)單元提供驅(qū)動(dòng)信號(hào)。用于蝕刻玻璃基板的所述裝置可以進(jìn)一步包括連接到所述容器的底面以排出所述蝕刻劑的收集管。從所述玻璃基板蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆?？梢酝ㄟ^(guò)所述蝕刻劑的流動(dòng)被收集到所述收集管。用于蝕刻玻璃基板的所述裝置可以進(jìn)一步包括閥，配置為控制所述蝕刻劑在所述收集管中的流動(dòng)；過(guò)濾器，配置為在所述蝕刻劑通過(guò)所述閥之后從所述蝕刻劑中去除所述物質(zhì)或顆粒；供應(yīng)管，配置為將所述蝕刻劑供應(yīng)到所述容器內(nèi)；和泵，配置為在所述蝕刻劑通過(guò)所述過(guò)濾器之后將所述蝕刻劑輸送到所述供應(yīng)管。
所述循環(huán)單元可以配置為相對(duì)于所述第一板水平移動(dòng)以產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。所述循環(huán)單元可以包括配置為控制主體和連接至所述主體的能水平移動(dòng)的葉片的操作的驅(qū)動(dòng)單元。所述驅(qū)動(dòng)單元可以配置為調(diào)節(jié)所述第一板與所述主體之間的距離以及所述主體的水平速度。所述第一板在俯視圖中可以具有矩形形狀。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施例，一種用于蝕刻玻璃基板的裝置包括容器，配置為容納蝕刻劑；和板，位于所述容器中，并配置為在該板上接收水平放置的玻璃基板。所述板可以配置為被旋轉(zhuǎn)，以引發(fā)所述蝕刻劑的流動(dòng)。用于蝕刻玻璃基板的所述裝置可以進(jìn)一步包括配置為控制所述板的驅(qū)動(dòng)單元。所述驅(qū)動(dòng)單元可以配置為控制所述板的豎直運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)速度。用于蝕刻玻璃基板的所述裝置可以進(jìn)一步包括傳感器，位于所述容器的側(cè)壁上并鄰近所述板，且配置為測(cè)量所述玻璃基板的厚度；和控制單元，配置為接收來(lái)自所述傳感器的信號(hào)并向所述驅(qū)動(dòng)單元提供驅(qū)動(dòng)信號(hào)。根據(jù)本發(fā)明的又一實(shí)施例，一種用于蝕刻玻璃基板的裝置包括容器，配置為容納蝕刻劑；第一板，位于所述容器中，并配置為在該第一板上接收玻璃基板，所述玻璃基板具有平行于所述第一板的面的主平面；和循環(huán)單元，位于所述容器中，并配置為在所述第一板的所述面上產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。


附圖被包含以提供對(duì)本發(fā)明的各實(shí)施例的進(jìn)一步理解，且附圖被合并入說(shuō)明書(shū)中并組成該說(shuō)明書(shū)的一部分。附圖表示本發(fā)明的各示例性實(shí)施例，并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本發(fā)明的原理。在所述附圖中圖1為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的裝置的視圖；圖2為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置的容器和板的詳細(xì)視圖；圖3為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置的板和旋轉(zhuǎn)葉片的詳細(xì)視圖；圖4為表示根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的裝置的視圖；圖5為表示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的裝置的視圖；圖6為表示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置的容器、板和循環(huán)單元的詳細(xì)視圖；圖7為表示根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的裝置的視圖。
具體實(shí)施例方式下面，將參照附圖更詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的各示例性實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以實(shí)施為不同的形式，并且不應(yīng)當(dāng)理解為限于這里所列出的各實(shí)施例。相反，這些實(shí)施例被提供以使本公開(kāi)全面和完整，并且向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分傳達(dá)本發(fā)明的范圍。在說(shuō)明書(shū)中，應(yīng)當(dāng)理解的是當(dāng)一個(gè)元件被稱為位于另一元件“上”時(shí)，其可以直接位于該另一元件上，或者也可以有一個(gè)或多個(gè)中間元件存在于兩者之間。在附圖中，相似的參照標(biāo)記自始至終指代相似的元件。
在說(shuō)明書(shū)中，將參照示例性的剖視圖和透視圖來(lái)描述各實(shí)施例。因此，各示例性視圖的形狀可以根據(jù)制造技術(shù)和/或容許誤差來(lái)修改。應(yīng)當(dāng)理解的是，盡管例如第一、第二和第三的術(shù)語(yǔ)在此用來(lái)描述各種元件，但是這些元件不應(yīng)當(dāng)被這些術(shù)語(yǔ)所限制。這些術(shù)語(yǔ)僅用于將一個(gè)元件與另一元件區(qū)別開(kāi)。在此描述和示例的各實(shí)施例包括其補(bǔ)充的各實(shí)施例。在此使用的術(shù)語(yǔ)用于解釋各實(shí)施例而不是用于限制本發(fā)明。除非所指的相反，單數(shù)形式的術(shù)語(yǔ)可以包括復(fù)數(shù)形式。“包括(include)，，、“包含(comprise)，，、“包括 (including)”或“包含(comprising)”的含義限定了性質(zhì)、區(qū)域、固定數(shù)目、步驟、過(guò)程、元件和/或組件，但并不排除其他的性質(zhì)、區(qū)域、固定數(shù)目、步驟、過(guò)程、元件和/或組件。圖1為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的玻璃基板蝕刻裝置100 的視圖。圖2為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置100的容器110和第一板 120以及第二板132的詳細(xì)透視圖。圖3為表示根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的第二板132和旋轉(zhuǎn)葉片135的詳細(xì)視圖。參見(jiàn)圖1至圖3，玻璃基板蝕刻裝置100包括容器110，配置為容納蝕刻劑115 ； 第一板120，設(shè)置在容器110中，用于在該第一板120上水平放置玻璃基板125(即，玻璃基板125具有主平面，該主平面被放置為面對(duì)或背對(duì)或平行于第一板120的頂面)；和循環(huán)單元130，設(shè)置在容器110中，以使第一板120的頂面上的蝕刻劑115循環(huán)。玻璃基板125可以通過(guò)真空吸附方法而放置在第一板120上。多個(gè)玻璃基板125 可以以相同的方式提供在第一板120上。在這種情況下，由于在相同或共同的時(shí)刻減小該多個(gè)玻璃基板125的厚度，因此可以降低制造成本。蝕刻劑115可以包括氟化鹽、硫酸鹽、 硝酸鹽、磺酸鹽、氫氟酸、硫磺酸、和/或硝酸?？梢约訜嵛g刻劑115以增加蝕刻速度。玻璃基板125可以用于例如觸摸屏面板的顯示器。循環(huán)單元130可以包括面對(duì)第一板120的第二板132和設(shè)置在第二板132背面 (例如，面向第一板120的面)上的旋轉(zhuǎn)葉片135。當(dāng)從頂部觀看時(shí)，第一板120和第二板 132可以具有圓形形狀。容器110可以具有圓柱形形狀。循環(huán)單元130可以進(jìn)一步包括驅(qū)動(dòng)單元138以控制第二板132。驅(qū)動(dòng)單元138可以豎直移動(dòng)第二板132。第一板120和第二板132之間的距離L可以通過(guò)豎直移動(dòng)第二板 132來(lái)調(diào)節(jié)。驅(qū)動(dòng)單元138可以控制第二板132的旋轉(zhuǎn)速度。旋轉(zhuǎn)葉片135可以產(chǎn)生渦流， 以使玻璃基板125上的蝕刻劑115的流動(dòng)可以受到該渦流的影響。驅(qū)動(dòng)單元138可以通過(guò)控制第二板132的豎直運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)速度來(lái)調(diào)節(jié)玻璃基板 125的蝕刻速度。驅(qū)動(dòng)單元138通過(guò)使用旋轉(zhuǎn)葉片135可以產(chǎn)生蝕刻劑115的定速流動(dòng)以蝕刻玻璃基板125的面。玻璃基板蝕刻裝置100可以進(jìn)一步包括傳感器140，該傳感器140設(shè)置在容器110 的側(cè)壁上接近于第一板120的位置處，用于測(cè)量玻璃基板125的厚度。傳感器140可以為激光傳感器。傳感器140可以通過(guò)向玻璃基板提供信號(hào)并接收(或檢測(cè))由該玻璃基板反射的信號(hào)來(lái)測(cè)量玻璃基板125的厚度。玻璃基板蝕刻裝置100可以進(jìn)一步包括控制單元145， 該控制單元145配置為接收來(lái)自傳感器140的信號(hào)并向驅(qū)動(dòng)單元138傳輸驅(qū)動(dòng)信號(hào)。通過(guò)使用傳感器140可以測(cè)量被蝕刻的(或蝕刻后的)玻璃基板125的厚度，并且通過(guò)使用控制單元145的驅(qū)動(dòng)信號(hào)可以調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)單元138的速度。通過(guò)使用傳感器140、驅(qū)動(dòng)單元138
6和控制單元145，玻璃基板125可以被蝕刻至小的厚度，例如，大約0. 02毫米。當(dāng)玻璃基板 125具有較小的厚度時(shí)，可以減小使用該玻璃基板125的顯示器(例如，觸摸屏面板、液晶顯示器、或有機(jī)電致發(fā)光設(shè)備)的厚度和重量。玻璃基板125由于其小的厚度可以被彎曲 (或是柔性的)。例如，玻璃基板125可以用于柔性顯示器。玻璃基板蝕刻裝置100可以進(jìn)一步包括供應(yīng)管160，配置為將蝕刻劑115供應(yīng)到容器110內(nèi)；收集管175，連接到容器110的底面以通過(guò)該收集管175排出蝕刻劑115 ；和排出孔150，形成在第一板120與容器110之間。排出孔150可以貫通第一板120而形成。 通過(guò)供應(yīng)管160供應(yīng)的蝕刻劑115可以借助于循環(huán)單元130進(jìn)行循環(huán)并通過(guò)排出孔150流動(dòng)到收集管175。由于該蝕刻劑115的流動(dòng)，玻璃基板125可以被蝕刻。這可以稱為“液體流動(dòng)磨削”。玻璃基板蝕刻裝置100可以進(jìn)一步包括閥172，配置為控制蝕刻劑115在收集管 175中的流動(dòng)；過(guò)濾器174，配置為在蝕刻劑115通過(guò)閥172之后凈化蝕刻劑115 ；和泵176， 配置為將由過(guò)濾器174凈化后的蝕刻劑115輸送到供應(yīng)管160。從玻璃基板125蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆粒127可以通過(guò)過(guò)濾器174從蝕刻劑115中去除。蝕刻劑115可以循環(huán)通過(guò)收集管175、過(guò)濾器174、泵176和供應(yīng)管160。也就是說(shuō)，蝕刻劑115可以重復(fù)使用。圖4為表示根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的玻璃基板蝕刻裝置200 的視圖。為了該說(shuō)明書(shū)的簡(jiǎn)潔，與圖1至圖3的第一實(shí)施例相同的描述將不再重復(fù)。參見(jiàn)圖4，根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例，玻璃基板蝕刻裝置200包括容器210，配置為容納蝕刻劑215 ；第一板220，設(shè)置在容器210中以在該第一板220上水平放置玻璃基板 225 ；和循環(huán)單元230，設(shè)置在容器210中以使第一板220的底面上的蝕刻劑215循環(huán)。玻璃基板225可以通過(guò)真空吸附方法而放置在第一板220上。玻璃基板225可以通過(guò)該真空吸附方法放置在第一板220的背面(例如，面向循環(huán)單元230的面)上。玻璃基板225可以用于例如觸摸屏面板的顯示器。循環(huán)單元230可以包括面向第一板220的第二板232和設(shè)置在第二板232的頂面 (例如，面向第一板220的面)上的旋轉(zhuǎn)葉片235。當(dāng)從頂部觀看時(shí)，第一板220和第二板 232可以具有圓形形狀。容器210可以具有圓柱形形狀。循環(huán)單元230可以進(jìn)一步包括驅(qū)動(dòng)單元238以控制第二板232。驅(qū)動(dòng)單元238可以豎直移動(dòng)第二板232。第一板220和第二板232之間的距離L可以通過(guò)豎直移動(dòng)第二板 232來(lái)調(diào)節(jié)。驅(qū)動(dòng)單元238可以控制第二板232的旋轉(zhuǎn)速度。驅(qū)動(dòng)單元238可以通過(guò)控制第二板232的豎直運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)速度來(lái)調(diào)節(jié)玻璃基板 225的蝕刻速度。玻璃基板225的暴露于蝕刻劑的面可以通過(guò)蝕刻劑215的流動(dòng)而被蝕刻。玻璃基板蝕刻裝置200可以進(jìn)一步包括傳感器M0，該傳感器240設(shè)置在容器210 的側(cè)壁上接近于第一板220的位置處，以測(cè)量玻璃基板225的厚度。傳感器240可以為激光傳感器。傳感器240可以通過(guò)向玻璃基板225提供信號(hào)并接收(或檢測(cè))反射的信號(hào)來(lái)測(cè)量該玻璃基板225的厚度。玻璃基板蝕刻裝置200可以進(jìn)一步包括控制單元M5，該控制單元245配置為接收來(lái)自傳感器240的信號(hào)并向驅(qū)動(dòng)單元238傳輸驅(qū)動(dòng)信號(hào)?？梢酝ㄟ^(guò)使用傳感器240測(cè)量被蝕刻的(或蝕刻后的)玻璃基板225的厚度，并可以通過(guò)使用控制單元M5的驅(qū)動(dòng)信號(hào)來(lái)調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)單元238的速度。玻璃基板蝕刻裝置200可以進(jìn)一步包括供應(yīng)管沈0，配置為將蝕刻劑215供應(yīng)到容器210內(nèi)；收集管275，連接到容器210的底面以通過(guò)該收集管275排出蝕刻劑215 ；和排出孔250，形成在第二板232與容器210之間。排出孔250可以貫通第二板232而形成。玻璃基板蝕刻裝置200可以進(jìn)一步包括閥272，配置為控制蝕刻劑215在收集管 275中的流動(dòng)；過(guò)濾器274，配置為在蝕刻劑215通過(guò)閥272之后凈化蝕刻劑215 ；和泵276， 配置為將由過(guò)濾器274凈化后的蝕刻劑215輸送到供應(yīng)管沈0。從玻璃基板225蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆粒227可以通過(guò)過(guò)濾器274從蝕刻劑215中去除。蝕刻劑215可以循環(huán)通過(guò)收集管275、過(guò)濾器274、泵276和供應(yīng)管沈0。也就是說(shuō)，蝕刻劑215可以重復(fù)使用。圖5為表示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的玻璃基板蝕刻裝置300 的視圖。圖6為表示根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置300的容器310、第一板 320和循環(huán)單元330的詳細(xì)視圖。為了說(shuō)明書(shū)的簡(jiǎn)潔，與圖1至圖3的第一實(shí)施例相同的描述將不再重復(fù)。參見(jiàn)圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例，玻璃基板蝕刻裝置300包括容器 310，配置為容納蝕刻劑315 ；第一板320，設(shè)置在容器310中以在該第一板320上水平放置玻璃基板325 ；和循環(huán)單元330，設(shè)置在容器310中以使第一板320的頂面(例如，面向循環(huán)單元330的面)上的蝕刻劑325循環(huán)。玻璃基板325可以通過(guò)真空吸附方法而放置在第一板320上。玻璃基板325可以通過(guò)該真空吸附方法放置在第一板320的頂面上。玻璃基板325可以用于例如觸摸屏面板的顯示器。循環(huán)單元330可以包括設(shè)置在第一板320上方的主體332和設(shè)置在主體332的背面(例如，面向第一板320的面)上的能水平移動(dòng)的葉片335。當(dāng)從頂部觀看時(shí)，第一板320 具有矩形形狀。循環(huán)單元330可以進(jìn)一步包括驅(qū)動(dòng)單元338以控制主體332的移動(dòng)。驅(qū)動(dòng)單元 338可以豎直移動(dòng)主體332。第一板320和主體332之間的距離L可以通過(guò)豎直移動(dòng)主體 332來(lái)調(diào)節(jié)。驅(qū)動(dòng)單元338可以進(jìn)一步控制主體332的水平移動(dòng)速度。驅(qū)動(dòng)單元338可以通過(guò)控制主體332的豎直運(yùn)動(dòng)和水平運(yùn)動(dòng)來(lái)調(diào)節(jié)玻璃基板325 的蝕刻速度。玻璃基板325的暴露的面可以通過(guò)蝕刻劑315的流動(dòng)而被蝕刻。玻璃基板蝕刻裝置300可以進(jìn)一步包括傳感器340，該傳感器340設(shè)置在容器310 的側(cè)壁上接近于第一板320的位置處，以測(cè)量玻璃基板325的厚度。傳感器340可以通過(guò)向玻璃基板提供信號(hào)并接收(或檢測(cè))由該玻璃基板反射的信號(hào)來(lái)測(cè)量玻璃基板325的厚度。玻璃基板蝕刻裝置300可以進(jìn)一步包括控制單元345，該控制單元配置為接收來(lái)自傳感器340的信號(hào)并向驅(qū)動(dòng)單元338傳輸驅(qū)動(dòng)信號(hào)。通過(guò)使用傳感器340可以測(cè)量被蝕刻的 (或蝕刻后的)玻璃基板325的厚度，并且通過(guò)使用控制單元345的驅(qū)動(dòng)信號(hào)可以調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)單元338的速度。玻璃基板蝕刻裝置300可以進(jìn)一步包括供應(yīng)管360，配置為將蝕刻劑315供應(yīng)到容器310內(nèi)；收集管375，連接到容器310的底面以通過(guò)該收集管375排出蝕刻劑315 ；和排出孔350，形成在第一板320與容器310之間。排出孔350可以貫通第一板320而形成。玻璃基板蝕刻裝置300可以進(jìn)一步包括閥372，配置為控制蝕刻劑315在收集管 375中的流動(dòng)；過(guò)濾器374，配置為在蝕刻劑315通過(guò)閥372之后凈化蝕刻劑315 ；和泵376， 配置為將由過(guò)濾器374凈化后的蝕刻劑315輸送到供應(yīng)管360。從玻璃基板325蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆粒327可以通過(guò)過(guò)濾器374從蝕刻劑315中去除。蝕刻劑315可以循環(huán)通過(guò)收集管375、過(guò)濾器374、泵376和供應(yīng)管360。也就是說(shuō)，蝕刻劑315可以重復(fù)使用。根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例，玻璃基板蝕刻裝置300能夠?qū)⒉ＡЩ?25蝕刻至小的厚度。此外，由于玻璃基板蝕刻裝置300包括可豎直移動(dòng)的循環(huán)單元330，因此玻璃基板 325可以被均勻地蝕刻至相同的厚度。圖7為表示根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的用于蝕刻玻璃基板的玻璃基板蝕刻裝置400 的視圖。參見(jiàn)圖7，根據(jù)本發(fā)明的第四實(shí)施例，玻璃基板蝕刻裝置400包括容器410，配置為容納蝕刻劑415 ；和板420，設(shè)置在容器410中以在該板420上水平放置玻璃基板425。板 420可以旋轉(zhuǎn)以產(chǎn)生蝕刻劑415的流動(dòng)(例如，相對(duì)流動(dòng))。玻璃基板425可以通過(guò)真空吸附方法而放置在板420上。玻璃基板425可以通過(guò)該真空吸附方法放置在板420的頂面上。玻璃基板425可以用于觸摸屏面板。玻璃基板蝕刻裝置400可以進(jìn)一步包括配置為控制板420的驅(qū)動(dòng)單元430。驅(qū)動(dòng)單元430可以控制板420的旋轉(zhuǎn)速度。驅(qū)動(dòng)單元430可以豎直移動(dòng)板420。驅(qū)動(dòng)單元430可以通過(guò)控制板420的豎直移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)來(lái)調(diào)節(jié)玻璃基板425的蝕刻速度。玻璃基板425的暴露的面可以通過(guò)蝕刻劑415的流動(dòng)(例如，相對(duì)流動(dòng))而被蝕刻。玻璃基板蝕刻裝置400可以進(jìn)一步包括傳感器440，該傳感器440設(shè)置在容器410 的側(cè)壁上接近于板420的位置處，以測(cè)量玻璃基板425的厚度。傳感器440可以為激光傳感器。玻璃基板蝕刻裝置400可以進(jìn)一步包括控制單元445，該控制單元445配置為接收來(lái)自傳感器440的信號(hào)并向驅(qū)動(dòng)單元430傳輸驅(qū)動(dòng)信號(hào)?？梢酝ㄟ^(guò)使用傳感器440測(cè)量被蝕刻的(或蝕刻后的)玻璃基板425的厚度，并可以通過(guò)控制單元445的驅(qū)動(dòng)信號(hào)來(lái)調(diào)節(jié)驅(qū)動(dòng)單元430的速度。玻璃基板蝕刻裝置400可以進(jìn)一步包括供應(yīng)管460，配置為將蝕刻劑415供應(yīng)到容器410內(nèi)；收集管475，連接到容器410的底面以通過(guò)該收集管410排出蝕刻劑415 ；和排出孔450，形成在板420與容器410之間。排出孔450可以貫通板420而形成。玻璃基板蝕刻裝置400可以進(jìn)一步包括閥472，配置為控制蝕刻劑415在收集管 475中的流動(dòng)；過(guò)濾器474，配置為在蝕刻劑415通過(guò)閥472之后凈化蝕刻劑415 ；和泵476， 配置為將由過(guò)濾器474凈化后的蝕刻劑415輸送到供應(yīng)管460。從玻璃基板425蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆粒427可以通過(guò)過(guò)濾器474從蝕刻劑415中去除。蝕刻劑415可以循環(huán)通過(guò)收集管475、過(guò)濾器474、泵476和供應(yīng)管460。也就是說(shuō)，蝕刻劑415可以重復(fù)使用。下面的表1示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例得到的玻璃基板厚度與根據(jù)比較例得到的玻璃基板厚度的比較。在下面的表1中，Sl表示比較例，在該比較例中通過(guò)將基板浸沒(méi)在蝕刻劑中來(lái)蝕刻基板，S2表示本發(fā)明的實(shí)施例，在本發(fā)明的實(shí)施例中通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的玻璃基板蝕刻裝置來(lái)蝕刻基板。如下面的表1所示，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，基板的厚度能夠減小至比較例的基板厚度的1/10。此外，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例制作的基板具有良好的柔性，并能夠具有約10厘米的曲率半徑。[表1]
權(quán)利要求
1.一種用于蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置包括 容器，配置為容納蝕刻劑；第一板，位于所述容器中，并配置為在該第一板上接收水平放置的玻璃基板；和循環(huán)單元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置為在所述第一板的面上產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述循環(huán)單元包括 第二板，面向所述第一板；和旋轉(zhuǎn)葉片，位于所述第二板的頂面或底面上。
3.如權(quán)利要求2所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述第一板和所述第二板在俯視圖中具有圓形形狀。
4.如權(quán)利要求2所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述循環(huán)單元進(jìn)一步包括配置為控制所述第二板的驅(qū)動(dòng)單元，其中所述驅(qū)動(dòng)單元配置為調(diào)節(jié)所述第一板與所述第二板之間的距離以及所述第二板的旋轉(zhuǎn)速度。
5.如權(quán)利要求4所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，進(jìn)一步包括傳感器，位于所述容器的側(cè)壁上并鄰近所述第一板，且配置為測(cè)量所述玻璃基板的厚度；和控制單元，配置為接收來(lái)自所述傳感器的信號(hào)并向所述驅(qū)動(dòng)單元提供驅(qū)動(dòng)信號(hào)。
6.如權(quán)利要求1所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，進(jìn)一步包括連接到所述容器的底面以排出所述蝕刻劑的收集管；其中從所述玻璃基板蝕刻下來(lái)的物質(zhì)或顆粒通過(guò)所述蝕刻劑的流動(dòng)被收集到所述收集管。
7.如權(quán)利要求6所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，進(jìn)一步包括 閥，配置為控制所述蝕刻劑在所述收集管中的流動(dòng)；過(guò)濾器，配置為在所述蝕刻劑通過(guò)所述閥之后從所述蝕刻劑中去除所述物質(zhì)或顆粒； 供應(yīng)管，配置為將所述蝕刻劑供應(yīng)到所述容器內(nèi)；和泵，配置為在所述蝕刻劑通過(guò)所述過(guò)濾器之后將所述蝕刻劑輸送到所述供應(yīng)管。
8.如權(quán)利要求1所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述循環(huán)單元配置為相對(duì)于所述第一板水平移動(dòng)以產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。
9.如權(quán)利要求8所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述循環(huán)單元包括主體和連接至所述主體的能水平移動(dòng)的葉片。
10.如權(quán)利要求9所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述循環(huán)單元進(jìn)一步包括 驅(qū)動(dòng)單元，配置為控制所述主體和連接至所述主體的能水平移動(dòng)的所述葉片的操作， 其中所述驅(qū)動(dòng)單元配置為調(diào)節(jié)所述第一板與所述主體之間的距離以及所述主體的水平移動(dòng)速度。
11.如權(quán)利要求10所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，其中，所述第一板在俯視圖中具有矩形形狀。
12.一種用于蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置包括 容器，配置為容納蝕刻劑；和板，位于所述容器中，并配置為在該板上接收水平放置的玻璃基板， 其中所述板配置為被旋轉(zhuǎn)，以引發(fā)所述蝕刻劑的流動(dòng)。
13.如權(quán)利要求12所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，進(jìn)一步包括配置為控制所述板的驅(qū)動(dòng)單元，其中所述驅(qū)動(dòng)單元配置為控制所述板的豎直運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)速度。
14.如權(quán)利要求13所述的用于蝕刻玻璃基板的裝置，進(jìn)一步包括傳感器，位于所述容器的側(cè)壁上并鄰近所述板，且配置為測(cè)量所述玻璃基板的厚度；和控制單元，配置為接收來(lái)自所述傳感器的信號(hào)并向所述驅(qū)動(dòng)單元提供驅(qū)動(dòng)信號(hào)。
15.一種用于蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置包括 容器，配置為容納蝕刻劑；第一板，位于所述容器中，并配置為在該第一板上接收玻璃基板，所述玻璃基板具有平行于所述第一板的面的主平面；和循環(huán)單元，位于所述容器中，并配置為在所述第一板的所述面上產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。
全文摘要
一種用于蝕刻玻璃基板的裝置，包括容器，配置為容納蝕刻劑；第一板，位于所述容器中，并配置為在該第一板上接收水平放置的玻璃基板；和循環(huán)單元，位于所述容器中且面向所述第一板，并配置為在所述第一板的面上產(chǎn)生所述蝕刻劑的流動(dòng)。
文檔編號(hào)C03C15/00GK102557465SQ20111033358
公開(kāi)日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月28日
發(fā)明者李雅蘫, 韓官榮 申請(qǐng)人:三星移動(dòng)顯示器株式會(huì)社