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一種施釉裝置的制作方法

文檔序號(hào):1859075閱讀:344來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種施釉裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種施釉裝置。
背景技術(shù)
目前,現(xiàn)有技術(shù)中應(yīng)用于陶瓷生產(chǎn)中的施釉于陶瓷坯體的方法多種多樣,最基本的是“浸釉”,將陶瓷坯體浸入釉漿中片刻后取出,利用坯體的吸水性、使釉漿均勻地附著于坯體表面。釉層厚度由坯體的吸水率、釉漿濃度和浸入時(shí)間決定;蕩釉法,將釉漿澆入坯體內(nèi),用手緩慢搖蕩,使得釉漿分在坯體內(nèi)表面,這種方法適宜器型較深的產(chǎn)品;噴釉法,采用噴釉器將釉料霧化噴到坯體表面,此種施釉方法適合于大型產(chǎn)品及造型復(fù)雜、或薄胎等需要多次施釉的產(chǎn)品,可以多次噴釉。對(duì)于杯碗類制品施外釉,傳統(tǒng)方法是采用浸釉法,手持坯體浸入釉漿中,待坯體表層掛釉,然后取出,但是由于釉漿是靜止盛放于釉桶內(nèi),容易沉淀,影響施釉效果。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中采用浸釉法時(shí),釉料是靜止的,容易沉淀的缺點(diǎn),提供一種能防止釉料沉淀的施釉裝置本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種施釉裝置,包括釉料桶和輸入端與釉料桶相通的釉泵,其特征在于還包括有施釉桶和供釉管,該供釉管一端與所述施釉桶相連通,另一端與所述釉泵輸出端相連來(lái)實(shí)現(xiàn)供釉,施釉桶還設(shè)有將釉料送至釉料桶的排釉管。進(jìn)一步地,所述施釉桶通過(guò)一固定架固定于略高于所述釉料桶位置。進(jìn)一步地,所述供釉管所述施釉桶底部中央,且安裝有一向上的噴釉管,該噴釉管頂部低于所述施釉桶頂部邊緣。進(jìn)一步地,所述排釉管設(shè)置于所述施釉桶側(cè)壁略低于頂部邊緣位置。由上述對(duì)本實(shí)用新型的描述可知,與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型具有如下有益效果本實(shí)用新型通過(guò)采用釉泵將釉料通過(guò)供釉管送至施釉桶側(cè)壁,使得釉料以一定角度噴向施釉桶,從而在施釉桶內(nèi)形成流動(dòng)的液體,在整個(gè)施釉過(guò)程中保持流動(dòng),而不會(huì)沉淀;本實(shí)用新型還用于對(duì)杯碗進(jìn)行施內(nèi)釉,將供釉管設(shè)置于施釉桶底部中央且安裝一向上的噴釉管,即可對(duì)杯碗內(nèi)壁進(jìn)行施釉,側(cè)壁設(shè)置排釉管用于循環(huán)利用釉料。

圖1為本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為本實(shí)用新型施內(nèi)釉的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下通過(guò)具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。[0013]參照?qǐng)D1,一種施釉裝置,包括釉料桶1和輸入端與釉料桶1相通的釉泵2,還包括有施釉桶3和供釉管4,施釉桶3通過(guò)一固定架5固定于略高于釉料桶3位置。供釉管4 一端于施釉桶3側(cè)壁的小孔13相連接,另一端與釉泵2輸出端相連來(lái)實(shí)現(xiàn)供釉,施釉桶3還設(shè)有將釉料送至釉料桶1的排釉管6,該排釉管6設(shè)置于施釉桶1側(cè)壁略低于頂部邊緣位置。參照?qǐng)D2,本實(shí)用新型還可作為施內(nèi)釉裝置,將圖1中的供釉管4設(shè)置于施釉桶3 底部中央同時(shí)安裝一向上的噴釉管7,該噴釉管7頂部低于施釉桶3頂部邊緣。將圖1中的側(cè)壁小孔13作為排釉孔用于連接排釉管6,將釉料排至釉料桶1。上述僅為本實(shí)用新型的一個(gè)具體實(shí)施方式
,但本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)構(gòu)思并不局限于此,凡利用此構(gòu)思對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行非實(shí)質(zhì)性的改動(dòng),均應(yīng)屬于侵犯本實(shí)用新型保護(hù)范圍的行為。
權(quán)利要求1.一種施釉裝置,包括釉料桶和輸入端與釉料桶相通的釉泵,其特征在于還包括有施釉桶和供釉管,該供釉管一端設(shè)置于施釉桶側(cè)壁上且與施釉桶內(nèi)部相連通,另一端與所述釉泵輸出端相連來(lái)實(shí)現(xiàn)供釉,施釉桶還設(shè)有將釉料送至釉料桶的排釉管。
2.如權(quán)利要求1所述的一種施釉裝置,其特在于所述施釉桶通過(guò)一固定架固定于略高于所述釉料桶位置。
3.如權(quán)利要求1所述的一種施釉裝置,其特征在于所述供釉管所述施釉桶底部中央, 且安裝有一向上的噴釉管,該噴釉管頂部低于所述施釉桶頂部邊緣。
4.如權(quán)利要求1所述的一種施釉裝置,其特征在于所述排釉管設(shè)置于所述施釉桶側(cè)壁略低于頂部邊緣位置。
專利摘要一種施釉裝置,包括釉料桶和輸入端與釉料桶相通的釉泵,其特征在于還包括有施釉桶和供釉管,該供釉管一端設(shè)置于施釉桶側(cè)壁上且與施釉桶內(nèi)部相連通,另一端與所述釉泵輸出端相連來(lái)實(shí)現(xiàn)供釉,施釉桶還設(shè)有將釉料送至釉料桶的排釉管。本實(shí)用新型通過(guò)采用釉泵將釉料通過(guò)供釉管送至施釉桶側(cè)壁,使得釉料以一定角度噴向施釉桶,從而在施釉桶內(nèi)形成流動(dòng)的液體,在整個(gè)施釉過(guò)程中保持流動(dòng),而不會(huì)沉淀;本實(shí)用新型還用于對(duì)杯碗進(jìn)行施內(nèi)釉,將供釉管設(shè)置于施釉桶底部中央且安裝一向上的噴釉管,即可對(duì)杯碗內(nèi)壁進(jìn)行施釉,側(cè)壁設(shè)置排釉管用于循環(huán)利用釉料,十分方便。
文檔編號(hào)C04B41/86GK202022860SQ20112010359
公開(kāi)日2011年11月2日 申請(qǐng)日期2011年4月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月8日
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