專利名稱：一種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域，特指ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
如圖I所示，設(shè)備濺鍍時(shí)，通過(guò)氣管進(jìn)行通入氬氣，氬氣在電場(chǎng)作用下，氬氣進(jìn)行電離，在磁場(chǎng)作用力下，進(jìn)行高速撞擊銦錫靶材，形成電漿，附著在基板上。如圖2所示，現(xiàn)有的設(shè)備是使用単元雙出氣管1，利用上氣孔11和下氣孔12出氣，在真空狀態(tài)下濺鍍。但是，如圖3和圖4所示，在使用吋，上氣孔11和下氣孔12位置相對(duì)在待濺鍍玻璃2兩端，上氣孔11可以通入氣體，可以有充分的氣體進(jìn)行電離、濺鍍，中間位置沒(méi)有氣孔，沒(méi)有充分的氣體進(jìn)行電離、濺鍍，下氣孔12可以通入氣體，可以有充分的氣體進(jìn)行電離、濺鍍；導(dǎo)致電 離后的電漿比較難落在中間位置，比較難滿足中間的膜厚，導(dǎo)致直流濺鍍ITO (銦錫金屬氧化物，在化學(xué)上，ITO是Indium Tin Oxides的縮寫)導(dǎo)電膜的上、中、下膜厚均勻性會(huì)達(dá)到
0.5%以上，均勻性很差。因此，本發(fā)明人對(duì)此做進(jìn)ー步研究，研發(fā)出ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，本案由此產(chǎn)生。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，以便提高直流濺鍍ITO導(dǎo)電膜均勻性。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，包括単元雙出氣管，単元雙出氣管具有上氣孔和下氣孔，在上氣孔處向上延伸出第一出氣孔，向下延伸出第二出氣孔；在下氣孔處向上延伸出第三出氣孔，向下延伸出第四出氣孔。優(yōu)選的，第一出氣孔和第四出氣孔超出待濺鍍玻璃60毫米。優(yōu)選的，第一出氣孔到第二出氣孔距離為142毫米，第二出氣孔到第三出氣孔距離為387毫米，第三出氣孔到第四出氣孔距離為142毫米。采用上述方案后，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn)一、第一出氣孔和第四出氣孔可以滿足上下位置的濺鍍氣體需求，從而滿足對(duì)待濺鍍玻璃上下濺鍍的要求；ニ、待濺鍍玻璃中間使用第二出氣孔和第三出氣孔進(jìn)行出氣，可以滿足中間位置的氣體需求，可以充分進(jìn)行電離、濺鍍，從而増加中間濺鍍膜厚與上下膜厚均衡。

圖I是現(xiàn)有噴濺設(shè)備的示意圖；圖2是現(xiàn)有氬氣通氣管的示意圖；[0014]圖3是現(xiàn)有氬氣通氣管使用時(shí)的示意圖；圖4是使用現(xiàn)有氬氣通氣管噴濺設(shè)備的示意圖；圖5是本實(shí)用新型噴濺設(shè)備的示意圖；圖6是本實(shí)用新型的示意圖；圖7是本實(shí)用新型使用時(shí)的示意圖圖8是使用本實(shí)用新型噴濺設(shè)備的示意圖。標(biāo)號(hào)說(shuō)明雙出氣管I上氣孔11下氣孔12待濺鍍玻璃2第一出氣孔13第二出氣孔14第三出氣孔15第四出氣孔16。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)ー步的說(shuō)明。如圖5和圖6所示，本實(shí)用新型掲示的ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，包括單元雙出氣管1，具有上氣孔11和下氣孔12，還包括在上氣孔11處向上延伸出第一出氣孔13，向下延伸出第二出氣孔14 ;在下氣孔12處向上延伸出第三出氣孔15，向下延伸出第四出氣孔16。優(yōu)選的，第一出氣孔13和第四出氣孔16超出待濺鍍玻璃2，達(dá)60_ (毫米)的距 離。沒(méi)有加寬的氣管，玻璃邊緣的電漿就比較難滿足與中間位置均勻，氣管加寬后，可以在比玻璃大的范圍內(nèi)進(jìn)行鍍膜，增加鍍膜均勻性，穩(wěn)定性。出氣孔距離超出待濺鍍玻璃是為了能補(bǔ)償濺鍍玻璃上、下膜厚的均勻性及穩(wěn)定性。這樣，第一出氣孔13和第四出氣孔16可以通入氣體，可以有充分的氣體進(jìn)行電離和濺鍍。優(yōu)選的，第一出氣孔13到第二出氣孔14距離為142mm，第二出氣孔14到第三出氣孔15距離為387mm，第三出氣孔15到第四出氣孔16距離為142mm，使四個(gè)出氣孔呈對(duì)稱分布。如圖7和圖8所示，在使用本實(shí)用新型濺鍍玻璃時(shí)，第二出氣孔14與第三出氣孔15正對(duì)待濺鍍玻璃2，這樣，是中間占三分之ニ的玻璃使用雙孔進(jìn)行出氣，確保有充分的氣體進(jìn)行電離和濺鍍。本實(shí)用新型通過(guò)對(duì)設(shè)備氣管進(jìn)行改進(jìn)，使膜厚均勻性可以達(dá)到0. 3%±0. 05%，大大降低了現(xiàn)有技術(shù)中膜厚均勻性。上述僅為本實(shí)用新型的ー個(gè)具體實(shí)施例，但本實(shí)用新型的設(shè)計(jì)構(gòu)思并不局限于此，凡利用此構(gòu)思對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行非實(shí)質(zhì)性的改動(dòng)，均應(yīng)屬于侵犯本實(shí)用新型保護(hù)范圍的行為。
權(quán)利要求1.ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，包括単元雙出氣管，単元雙出氣管具有上氣孔和下氣孔，其特征在于在上氣孔處向上延伸出第一出氣孔，向下延伸出第二出氣孔；在下氣孔處向上延伸出第三出氣孔，向下延伸出第四出氣孔。
2.如權(quán)利要求I所述的ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于 第一出氣孔和第四出氣孔超出待濺鍍玻璃60毫米。
3.如權(quán)利要求I所述的ー種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，其特征在于第一出氣孔到第二出氣孔距離為142毫米，第二出氣孔到第三出氣孔距離為387毫米，第三出氣孔到第四出氣孔距離為142毫米。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種玻璃表面濺鍍?cè)O(shè)備氬氣通氣管改進(jìn)結(jié)構(gòu)，包括單元雙出氣管，單元雙出氣管具有上氣孔和下氣孔，在上氣孔處向上延伸出第一出氣孔，向下延伸出第二出氣孔；在下氣孔處向上延伸出第三出氣孔，向下延伸出第四出氣孔。本實(shí)用新型使膜厚均勻性可以達(dá)到0.3%±0.05%，提高了直流濺鍍ITO導(dǎo)電膜均勻性。
文檔編號(hào)C03C17/245GK202390315SQ20112051886
公開日2012年8月22日 申請(qǐng)日期2011年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月13日
發(fā)明者謝隆興, 郭卓越, 陳康 申請(qǐng)人:宸陽(yáng)光電科技(廈門)有限公司