專利名稱：具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及玻璃深加工中的鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，具體是ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃。
背景技術(shù)：
鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍ー層或多層金屬、合金或金屬化合物的薄膜，用以改變玻璃的光學(xué)性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃在人們?nèi)粘Ｉ钪械膽?yīng)用越來(lái)越廣泛，不單用于建筑領(lǐng)域，而且很多生活用品也用玻璃為材料。但是，鍍膜玻璃在運(yùn)輸和存儲(chǔ)的過程中，基片膜層容易發(fā)生劃傷、磨損的情況，其功能層銀膜也很容易氧化，并且鍍膜玻璃在進(jìn)行各種深加工和熱處理后，物理化學(xué)性能容易發(fā)生改變。針對(duì)上述問題，目前玻璃制造企業(yè) 采用的方法是使用PE有機(jī)貼膜保護(hù)基片膜層，它可以起到一定的保護(hù)作用。但是，在使用基片時(shí)，需要人工揭膜，該保護(hù)膜不能重復(fù)利用且不易降解，批量使用會(huì)造成大量固體廢棄物，對(duì)環(huán)境造成嚴(yán)重的負(fù)面影響。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的技術(shù)目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，提供ー種光學(xué)性能穩(wěn)定、不易發(fā)生氧化的鍍膜玻璃。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍制在玻璃基片上的鍍膜層，其特征在于，所述鍍膜層以玻璃基片為基礎(chǔ)自內(nèi)向外依次包括沉積在所述玻璃基片上的第一保護(hù)層；沉積在所述第一保護(hù)層上的第一電介質(zhì)層；沉積在所述第一電介質(zhì)層上的第二保護(hù)層；沉積在所述第二保護(hù)層上的功能膜層；沉積在所述功能膜層上的第三保護(hù)層；沉積在第三保護(hù)層上的第二電介質(zhì)層；沉積在所述第二電介質(zhì)層上的外保護(hù)膜層。進(jìn)ー步的技術(shù)方案還包括作為優(yōu)選，所述外保護(hù)膜層設(shè)為碳膜層；所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層優(yōu)選為NiCr、Cr、Ti或不銹鋼材料膜層中的ー種；所述第一電介質(zhì)層、所述第二電介質(zhì)層優(yōu)選為Sn02、ZnS03、ZnO、Si3N4或TiO2材料膜層中的ー種；所述功能膜層為銀層；作為優(yōu)選，所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層的膜厚范圍設(shè)為3_8nm;所述第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層的膜厚設(shè)為16-100nm ;所述外保護(hù)膜層的厚度范圍設(shè)為O. I-O. 5 μ m。本實(shí)用新型的有益效果I)、通過在玻璃基片上設(shè)置第一保護(hù)層有效的阻止了 Na+擴(kuò)散，避免了 Na+擴(kuò)散對(duì)薄膜沉積性能和色系的不利影響，并起到降低反射，提高玻璃機(jī)械化強(qiáng)度的作用；2)、在功能膜層上下兩側(cè)沉積第二保護(hù)層和第三保護(hù)層提高功能膜層的抗氧化性能，延長(zhǎng)其保存時(shí)間，増加膜層之間的附著力，同時(shí)增強(qiáng)玻璃的可加工性；3)、通過在所述功能膜層上沉積外保護(hù)膜層，提高玻璃的耐腐蝕性與耐磨損性，便于玻璃的運(yùn)輸和儲(chǔ)存。作為優(yōu)選的炭膜層，膜層材料環(huán)保，使用時(shí)易于去除，同時(shí)還使得玻璃具有高硬度、低摩擦系數(shù)的優(yōu)點(diǎn)，具有良好耐腐蝕性與耐磨損性。

圖I是本實(shí)用新型具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃的制備流程示意圖。
具體實(shí)施方式
為了闡明本實(shí)用新型的技術(shù)方案、構(gòu)造特征、產(chǎn)品功效及技術(shù)目的，
以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)ー步的介紹。如圖I所示，本實(shí)用新型的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃I，包括玻璃基片10和鍍制在玻璃基片10上的鍍膜，其膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基片10向外依次為沉積在所述玻璃基片10上的第一保護(hù)層11 ；沉積在所述第一保護(hù)層11上的第一電介質(zhì)層12 ；沉積在所述第一電介質(zhì)層12上的第二保護(hù)層13 ；沉積在所述第二保護(hù)層13上的功能膜層14 ；沉積在所述功能膜層14上的第三保護(hù)層15 ；沉積在所述第三保護(hù)層15上的第二電介質(zhì)層16 ；沉積在所述第二電介質(zhì)層16上的外保護(hù)膜層17。其中，所述第一保護(hù)層11、第二保護(hù)層13以及第三保護(hù)層15優(yōu)選NiCr、Cr、不銹鋼、Ti等材料中的一種鍍制膜層。所述功能膜層14為具有低輻射性能的銀層，起到増加保溫或隔熱效果的作用。所述第一電介質(zhì)層12與所述第二電介質(zhì)層16優(yōu)選Sn02、ZnSO3> ZnO> Si3N4、TiO2等材料中的一種鍍制膜層。為了使玻璃具有高硬度、低摩擦系數(shù)、良好耐腐蝕性與耐磨損性等特性，在本實(shí)用新型中，所述外保護(hù)膜層17優(yōu)選的為碳膜層，其可以通過650°以上的熱處理去除。如圖2所示，為ー種制備上述具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃的制備方法，采用真空磁控濺射設(shè)備鍍膜，其制備流程具體包括以下步驟步驟SI :提供玻璃基片10 ；步驟S2 :在所述玻璃基片10上沉積第一保護(hù)層11，所述第一保護(hù)層11通過直流單靶材濺射形成，靶材為NiCr IE,其濺射條件為背景真空度為3. 2 X 10_3mbar，在純氬 氣環(huán)境中濺射，所述第一保護(hù)層11的膜厚為3-8nm ；[0039]步驟S3 :在所述第一保護(hù)層11上沉積第一電介質(zhì)層12。所述第一電介質(zhì)層12通過交流雙靶濺射形成，其濺射條件為背景真空度為3.0X10_3mbar，在氮?dú)寤蛘邭逖醐h(huán)境中派射。其中，充入IS氣和氮?dú)鈺r(shí)，IS氣和氮?dú)獾捏w積比為30 : 35,所述第一電介質(zhì)層12的膜厚為16-100nm ；步驟S4 :在所述第一電介質(zhì)層12上沉積第二保護(hù)層13。所述第二保護(hù)層13通過直流單祀材派射形成，祀材為NiCr革E,其派射條件為背景真空度為2. 85X 10_3mbar,充入純氬氣濺射，所述第二保護(hù)層13的膜厚為3-8nm ；步驟S5 :在所述第二保護(hù)層13上沉積功能膜層14。所述功能膜層14是通過直流單革G材派射形成。其中，派射條件為背景真空度為4. 5X 10_3mbar,在純気氣環(huán)境中派射；步驟S6 :在所述功能膜層14上沉積第三保護(hù)層15。所述第三保護(hù)層15通過直流單革巴材派射形成，祀材為NiCr革E,其派射條件為背景真空度為2. 85X 10_3mbar,充入純気氣濺射，所述第三保護(hù)層15的膜厚為3-8nm ；步驟S7 :在所述第三保護(hù)層15上沉積第二電介質(zhì)層16。所述第二電介質(zhì)層16通過交流雙靶濺射形成，其濺射條件為背景真空度為3. OX 10_3mbar，在充入氬氣、氮?dú)饣蛘邭鍤狻⒀鯕獾幕旌蠚怏w的環(huán)境下濺射。其中，充入氬氣和氮?dú)鈺r(shí)，氬氣和氮?dú)獾捏w積比為30 35，所述第二電介質(zhì)層16的膜厚為16-100nm;步驟S8 :在所述第二電介質(zhì)層16上沉積外保護(hù)膜層17。所述外保護(hù)膜層17是由碳材料構(gòu)成，所述外保護(hù)膜層17是將100%含碳?xì)湓赐ㄈ敕磻?yīng)器中經(jīng)薄膜エ藝形成。在本實(shí)用新型中優(yōu)選的含碳?xì)湓礊榧淄椋霰∧ぅㄋ嚳刹捎没瘜W(xué)氣相沉積、離子蒸鍍或反應(yīng)磁控濺射。具體的，以等離子體離子蒸鍍?yōu)槔?，該薄膜沉積エ藝是將基板載體通以高周波電源，使反應(yīng)器的真空腔體壁產(chǎn)生電容放電，等離子體甲烷解離，使甲烷離子憑借高周波的自我偏壓所得到的能量直接轟擊基板，エ藝真空背景維持在I. 9X 10_3mbar，高周波功率為IOOff0所述外保護(hù)膜層17的厚度范圍為O. 1-0. 5 μ m。以上已以較佳實(shí)施例公開了本實(shí)用新型，然其并非用以限制本實(shí)用新型，凡采用等同替換或者等效變換方式所獲得的技術(shù)方案，均應(yīng)落在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍制在玻璃基片上的鍍膜層，其特征在于，所述鍍膜層以玻璃基片為基礎(chǔ)自內(nèi)向外依次包括 沉積在所述玻璃基片上的第一保護(hù)層； 沉積在所述第一保護(hù)層上的第一電介質(zhì)層； 沉積在所述第一電介質(zhì)層上的第二保護(hù)層； 沉積在所述第二保護(hù)層上的功能膜層； 沉積在所述功能膜層上的第三保護(hù)層； 沉積在第三保護(hù)層上的第二電介質(zhì)層； 沉積在所述第二電介質(zhì)層上的外保護(hù)膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于 所述外保護(hù)膜層為碳膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于 所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層為NiCr、Cr、Ti或不銹鋼材料的膜層。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于 所述第一電介質(zhì)層、所述第二電介質(zhì)層為Sn02、ZnS03、ZnO、Si3N4或TiO2材料的膜層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任ー權(quán)利要求所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于 所述功能膜層為銀層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于所述第一保護(hù)層、第二保護(hù)層、第三保護(hù)層的膜厚為3-8nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于所述第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層的膜厚為16-100nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的ー種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，其特征在于所述外保護(hù)膜層的厚度為O. 1-0. 5 μ m。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種具有保護(hù)膜層的鍍膜玻璃，包括玻璃基片和鍍制在玻璃基片上的鍍膜層，其特征在于，所述鍍膜層以玻璃基片為基礎(chǔ)自內(nèi)向外依次包括第一保護(hù)層、第一電介質(zhì)層、第二保護(hù)層、功能膜層、第三保護(hù)層、第二電介質(zhì)層、外保護(hù)膜層。本實(shí)用新型通過在玻璃基片上沉積第一保護(hù)層有效的阻止了Na+擴(kuò)散，降低反射，并且提高了玻璃的機(jī)械化強(qiáng)度；在功能膜層上下兩側(cè)沉積第二保護(hù)層和第三保護(hù)層提高了功能膜層的抗氧化性能，延長(zhǎng)其保存時(shí)間，增加膜層之間的附著力，同時(shí)增強(qiáng)了玻璃的可加工性，另外，在所述功能膜層上沉積外保護(hù)膜層使得鍍膜玻璃便于運(yùn)輸和儲(chǔ)存，并且使用時(shí)易于去除。
文檔編號(hào)C03C17/36GK202415379SQ20112053365
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月19日
發(fā)明者林嘉宏 申請(qǐng)人:林嘉宏