專利名稱：玻璃硬盤基板的制造方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及玻璃硬盤基板的制造方法。
背景技術(shù)：
硬盤驅(qū)動器所搭載的硬盤由于高速旋轉(zhuǎn)，因而消耗電力高，近年來從環(huán)境的方面考慮，要求低消耗電力化。為了減小消耗電力，有如下方法:使每I張硬盤的記錄容量增大，減少驅(qū)動器所搭載的硬盤的張數(shù)，進行輕量化。為了使I張基板的重量輕量化，需要使基板的厚度變薄，從該觀點出發(fā)，提高了對與鋁基板相比機械強度更高的玻璃基板的需求，近年的擴張顯著。另外，為了提高每I張基板的記錄容量，需要縮小單位記錄面積。然而，若縮小單位記錄面積，則產(chǎn)生磁信號變?nèi)醯膯栴}。因此，為了提高磁信號的檢測靈敏度，正在進行用于進一步降低磁頭的飛浮高度的技術(shù)開發(fā)。在玻璃硬盤基板的研磨中，為了應對該磁頭的低飛浮化，對表面粗糙度、殘留物的降低的要求變得嚴格起來。針對這樣的要求，提出了用酸性的研磨液組合物對玻璃基板進行研磨的技術(shù)(例如，參照專利文獻I)。用酸性的研磨液組合物對玻璃基板進行研磨的方法起到研磨中玻璃基板所含有的堿離子溶出的浸出(leaching)作用，具有基板表面的硬度下降而提高研磨速度這樣的優(yōu)點。然而，用酸性的研磨液組合物對玻璃基板進行研磨的方法由于PH低時引起的浸出作用大，因而直至深處也產(chǎn)生脆浸出層，存在由于研磨工序后的堿洗滌工序中的堿蝕刻而表面粗糙度顯著惡化這樣的問題。針對這樣的問題，提出了如下方法:為了抑制浸出層的生成的同時提高研磨速度，用含有提高研磨液的電解質(zhì)濃度的添加劑的弱酸性(pH4 6)的研磨液，對玻璃基板進行研磨(例如，參照專利文獻2)。專利文獻3中提出了算術(shù)平均粗糙度(Ra)在0.1nm附近的缺陷數(shù)非常小的磁盤用玻璃基板。作為其制造中使用的研磨液的添加劑，公開了羧酸、多元胺、氨基酸、氨基聚羧酸、膦酸類等。還公開了這些添加劑在研磨材料保持二次凝集的形態(tài)下能夠維持與玻璃基板表面相互作用，由此能夠從玻璃基板中除去異物?，F(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2005-138197號公報專利文獻2:日本特開2009-087439號公報專利文獻3:TO2010/03874
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的問題然而，前述專利文獻2記載的方法中，由于用弱酸性的研磨液組合物對玻璃基板進行研磨，因而研磨速度慢、生產(chǎn)率低，在專利文獻3記載的方法中還存在無法獲得令人滿足的研磨速度這樣的問題。因此，本發(fā)明提供一種玻璃硬盤基板的制造方法，其具有在用酸性研磨液對玻璃基板進行研磨后，進行堿洗滌的工序，其中，在研磨工序中能夠在維持研磨速度的情況下抑制堿洗滌工序中的玻璃基板的表面粗糙度的惡化，進而還能夠提高清潔性。用于解決問題的方法本發(fā)明涉及包含以下工序(I)及(2)的玻璃硬盤基板的制造方法。(I)使用含有分子內(nèi)具有2 10個氮原子的多元胺化合物、且pH為1.0 4.2的研磨液組合物，對被研磨玻璃基板進行研磨的工序。(2)將工序(I)中獲得的基板，用pH8.0 13.0的洗滌劑組合物進行洗滌的工序。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，在研磨工序中能夠維持研磨速度的同時有效抑制堿洗滌工序中玻璃基板的表面粗糖度的惡化，進而還能夠提聞清潔性。
具體實施例方式本發(fā)明基于以下見解:即使在用酸性研磨液對玻璃基板進行研磨后進行堿洗滌的情況下，若在前述研磨液中包含多元胺化合物，則能夠在維持基于酸性研磨液的研磨速度的同時，抑制由堿洗滌引起的玻璃基板的表面粗糙度的惡化，進而還能夠提高清潔性。S卩，本發(fā)明的一個實施方式中，涉及包含以下工序(I)及(2)的玻璃硬盤基板的制造方法(以下，也稱為“本發(fā)明的基板制造方法”。)。(I)使用含有分子內(nèi)具有2 10個氮原子的多元胺化合物、且pH為1.0 4.2的研磨液組合物，對被研磨玻璃基板進行研磨的工序。(2)將工序⑴中獲得的基板，用pH8.0 13.0的洗滌劑組合物進行洗滌的工序。通過本發(fā)明的基板制造方法能夠在研磨工序中維持研磨速度的理由并不清楚，但推定是，多元胺化合物的氮原子數(shù)在規(guī)定范圍時對基板的吸附力得到適度調(diào)整，多元胺化合物吸附到玻璃基板表面，抑制浸出作用，維持了研磨速度。另外，堿洗滌工序中的表面粗糙度的惡化得到有效抑制的理由并不清楚，但推定是，在研磨工序中，多元胺化合物吸附到玻璃基板表面，抑制玻璃基板中的堿離子的溶出，從而能夠抑制脆浸出層的生成，因而堿洗滌工序中的表面粗糙度的惡化得到抑制。通常，由熔融玻璃的模壓或從片材玻璃切出的方法獲得玻璃基材的工序，經(jīng)過形狀加工工序、端面研磨工序、粗研削工序、精研削工序、粗研磨工序、終加工研磨工序、化學強化工序，制造玻璃硬盤基板。化學強化工序可以在終加工研磨工序之前實施。另外，還存在各工序之間包含洗滌工序的情況。玻璃硬盤基板通過經(jīng)過記錄部形成工序，從而成為磁硬盤。[玻璃基板]本發(fā)明的基板制造方法中的作為研磨對象的被研磨基板、及成為洗滌對象的研磨后的基板是玻璃基板。作為前述玻璃基板，可列舉出硅鋁酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、鋁硼硅酸鹽玻璃、化學強化工序中鈉被取代為鉀的硅鋁酸鹽玻璃等的含有除Si以外的金屬原子的玻璃，從提高研磨速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選硅鋁酸鹽玻璃基板、及化學強化工序中鈉被取代為鉀的硅鋁酸鹽玻璃，更優(yōu)選硅鋁酸鹽玻璃基板。對于硅鋁酸鹽玻璃基板，作為其構(gòu)成元素，除了 0(氧)以外最多地包含Si，接著較多包含Al(鋁)及Na(鈉)。通常，Si的含量為20 40重量％、Al的含量為3 25重量％、Na的含量為3 25重量％、除此以外還存在包含K、T1、Zn、S、Ca、P、B、Zr、Fe、Sr、Nb、Ba、Ni等的情況。在用作硬盤用的情況下，對于硅鋁酸鹽玻璃基板，從提高研磨速度及維持基板的透明性的觀點出發(fā)，Al的含量優(yōu)選為5 20重量％、更優(yōu)選為7 15重量％、Na的含量優(yōu)選為3 20重量％、更優(yōu)選為5 15重量％。另外，硅鋁酸鹽玻璃基板中所含的Al及Na的含量可以通過實施例所示的方法求出。[研磨液組合物]本發(fā)明的基板制造方法包含使用研磨液組合物對玻璃基板進行研磨的工序，前述研磨液組合物至少含有在分子內(nèi)具有2 10個氮原子的多元胺化合物(以下，也稱為“多元胺化合物”。)。前述研磨液組合物優(yōu)選還含有研磨磨粒、酸、及水。[多元胺化合物]前述研磨液組合物中配合的多元胺化合物中所含的氮原子的數(shù)越是增加則吸附的點越增加，因而被認為能夠牢固地吸附于玻璃基板而抑制酸性研磨時的浸出作用。另一方面，還認為:若多元胺化合物的氮原子的個數(shù)過多，則多元胺化合物牢固地吸附于玻璃基板，因而研磨速度降低。也就是說，為了兼顧酸性研磨時的浸出作用的抑制與研磨速度的提高，多元胺化合物有必要含有最適合的個數(shù)的氮原子。但是，這些推測并不限定本發(fā)明。對于本發(fā)明的研磨液組合物中使用的多元胺化合物中所含的氮原子數(shù)，從維持研磨速度的觀點出發(fā)，其為10個以下、優(yōu)選為8個以下、更優(yōu)選為6個以下、進一步優(yōu)選為5個以下、進一步更優(yōu)選為4個以下，從抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化的觀點出發(fā)，為2個以上。因此，從維持研磨速度、抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化的觀點出發(fā)，多元胺化合物中所含的氮原子數(shù)為分子內(nèi)2 10個、優(yōu)選2 8個、更優(yōu)選2 6個、進一步優(yōu)選2 5個、進一步更優(yōu)選2 4個。另外，本發(fā)明的基板制造方法能夠提高玻璃基板的清潔性。其理由并不清楚，但推定是，多元胺化合物吸附于玻璃基板表面，基板表面帶正電荷，另一方面，研磨后在基板上殘留的物質(zhì)(二氧化硅粒子、研磨屑等)也吸附多元胺化合物，帶正電荷。其結(jié)果是，在玻璃基板與殘留物之間產(chǎn)生排斥力，表現(xiàn)出殘留物的吸附得到抑制的效果。對于本發(fā)明的研磨液組合物中使用的多元胺化合物中所含的氮原子數(shù)，從提高清潔性的觀點出發(fā)，其為2個以上、優(yōu)選為3個以上。因此，從兼顧清潔性與研磨速度的觀點出發(fā)，多元胺化合物中所含的氮原子數(shù)優(yōu)選2 8個、更優(yōu)選2 6個、進一步優(yōu)選2 5個、進一步更優(yōu)選3 5個、進一步更優(yōu)選3 4個。另外，對于前述多元胺化合物的分子量，從維持研磨速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為500以下、更優(yōu)選為400以下、進一步優(yōu)選為300以下、進一步更優(yōu)選為200以下，從抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化、進一步提高清潔性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為40以上、更優(yōu)選為50以上、進一步優(yōu)選為60以上、進一步更優(yōu)選為100以上、進一步更優(yōu)選為150以上。因此，從維持研磨速度、抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化、進一步提高清潔性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為500以下、更優(yōu)選為40 500、進一步優(yōu)選為50 500、進一步更優(yōu)選為50 400、進一步更優(yōu)選為60 300、進一步更優(yōu)選為100 300、進一步更優(yōu)選為150 200。研磨液組合物中所含有的多元胺化合物可以是一種，也可以是二種以上。另外，前述多元胺化合物可以是鹽的形態(tài)，例如，與鹽酸、硫酸、磷酸等的無機酸、有機酸等的鹽、與陰離子性表面活性劑的鹽。
作為前述多元胺化合物的具體例子，可列舉出乙二胺、二乙三胺、三乙四胺、四乙五胺、五乙六胺、2-[ (2-氨基乙基)氨基]乙醇、2-[甲基[2-( 二甲基氨基)乙基]氨基]乙醇、2，2' _(亞乙基雙亞氨基)二乙醇、N-(2-羥基乙基)-N' -(2-氨基乙基)乙二胺、2，2' -(2-氨基乙基亞氨基)二乙醇、N1，N4-雙(羥基乙基)二乙三胺、N1，N7-雙(羥基乙基)二乙三胺、1，3- 二氨基-2-丙醇、哌嗪、1-甲基哌嗪、3-(1-哌嗪基)-1_丙烷胺、1-(2-氨基乙基)哌嗪、4-甲基哌嗪-1-胺、1-哌嗪甲烷胺、4-乙基-1-哌嗪胺、1-甲基-4-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羥基乙基)哌嗪，從維持研磨速度、抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化、提高清潔性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為2-[(2_氨基乙基)氨基]乙醇、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羥基乙基)哌嗪、二乙三胺、三乙四胺，更優(yōu)選為2-[(2_氨基乙基)氨基]乙醇、1-(2-氨基乙基)哌嗪、1-(2-羥基乙基)哌嗪、二乙三胺，進一步優(yōu)選為2-[(2_氨基乙基)氨基]乙醇、1-(2-氨基乙基)哌嗪、二乙三胺，進一步更優(yōu)選為二乙三胺。另外，特別是從維持研磨速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為1-(2-羥基乙基)哌嗪。另外，對于前述多元胺化合物，從防止由胺的揮發(fā)等導致異臭產(chǎn)生及提高操作者的安全性的觀點出發(fā)，25°C下的蒸氣壓優(yōu)選為0.3mmHg以下、更優(yōu)選為0.25mmHg以下。作為這樣的多元胺化合物，可列舉出2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇、1-(2-羥基乙基)哌嗪、
1-(2-氨基乙基)哌嗪、二乙三胺、三乙四胺、四乙五胺、五乙六胺，從同樣的觀點出發(fā)，優(yōu)選為2-[(2_氨基乙基)氨基]乙醇、1-(2-羥基乙基)哌嗪、二乙三胺、三乙四胺、四乙五胺、五乙六胺，更優(yōu)選為三乙四胺、四乙五胺、五乙六胺。這里，25°C下的蒸氣壓是指在一定的溫度下與液相或固相處于平衡的蒸氣相的壓力，具體來說，在Handbook of Chemical CompoundData for Process Safety (著:CarlL.Yaws、出版:Gulf Publishing Company)、或者 CRCHandbook ofChemistry and Physics88th Edition (著:Lide, D.R, (ed))中記載。對于研磨液組合物中的、多元胺化合物的含量，從維持研磨速度及提高基板的清潔性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為5重量％以下、更優(yōu)選為4重量％以下、進一步優(yōu)選為3重量％以下、進一步更優(yōu)選為I重量％以下、進一步更優(yōu)選為0.5重量％以下、進一步更優(yōu)選為0.1重量％以下，從抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化的觀點、提高基板的清潔性的觀點及提高循環(huán)研磨中的研磨液的耐久性的觀點出發(fā)，研磨液組合物中的、多元胺化合物的含量優(yōu)選為0.001重量％以上、更優(yōu)選為0.005重量％以上、進一步優(yōu)選為0.01重量％以上。因此，從維持研磨速度、抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化的觀點、提高基板的清潔性的觀點及提高循環(huán)研磨中的研磨液的耐久性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.001 5重量％、更優(yōu)選為
0.005 4重量％、進一步優(yōu)選為0.01 3重量％、進一步更優(yōu)選為0.01 I重量％、進一步更優(yōu)選為0.01 0.5重量％、進一步更優(yōu)選為0.01 0.1重量％。另外，前述含量在研磨液組合物中的多元胺化合物為多種的情況下表示全部多元胺化合物的總含量。[研磨磨粒]從提高研磨速度的觀點出發(fā)，前述研磨液組合物優(yōu)選含有研磨磨粒。作為本發(fā)明中使用的研磨磨粒，可列舉出膠態(tài)二氧化硅、熱解法二氧化硅、表面修飾后的二氧化硅等的二氧化硅、或氧化鋁、氧化鈰等，從降低基板的表面粗糙度和提高基板的清潔性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為膠態(tài)二氧化硅。另外，作為研磨磨粒的使用形態(tài)，優(yōu)選為漿料狀。前述膠態(tài)二氧化硅可以通過以硅酸鈉等的硅酸堿金屬鹽作為原料、在水溶液中縮合反應而使粒子生長的水玻璃法獲得?；蛘?，前述膠態(tài)二氧化硅可以通過以四乙氧基硅烷等的烷氧基硅烷作為原料、在含有醇等的水溶性有機溶劑的水中進行縮合反應而使其生長的烷氧基硅烷法獲得。另外，前述熱解法二氧化硅可以通過以四氯化硅等的揮發(fā)性硅化合物作為原料、在利用氧氫燃燒器的1000°C以上的高溫下使其水解而生長的氣相法獲得。對于前述研磨磨粒的一次粒子的平均粒徑，從提高研磨速度、清潔性、及降低表面粗糙度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為5 200nm、更優(yōu)選為7 lOOnm、進一步優(yōu)選為9 80nm、進一步更優(yōu)選為10 50nm。這里，研磨磨粒的一次粒子的平均粒徑可以通過實施例記載的方法而測定。對于研磨液組合物中的前述研磨磨粒的含量，從提高研磨速度及降低表面粗糙度的觀點出發(fā)，優(yōu)選I 20重量％、更優(yōu)選2 19重量％、進一步優(yōu)選3 18重量％、進一步更優(yōu)選5 16重量％。[酸]從提高研磨速度的觀點出發(fā)，前述研磨液組合物優(yōu)選含有酸。作為所使用的酸，可列舉出硝酸、硫酸、亞硫酸、過硫酸、鹽酸、高氯酸、磷酸、膦酸、次膦酸、焦磷酸、三聚磷酸、酰胺硫酸等的無機酸、甲烷二磺酸、乙烷二磺酸、苯酚二磺酸、萘二磺酸等的含硫有機酸、2-氨基乙基膦酸、1-羥基亞乙基-1，1-二膦酸、氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四(亞甲基膦酸)、二乙二胺五(亞甲基勝酸)、乙燒_1，I，_ 二勝酸、乙燒_1，I，2-二勝酸、乙燒-1-輕基-1,
1-二勝酸、乙燒_1_輕基-1，I，2- 二勝酸、乙燒-1，2- 二羧基-1, 2- 二勝酸、甲燒輕基勝酸、
2-膦?；⊥?1，2-二羧酸、1-膦?；⊥?2，3，4_三羧酸、α-甲基膦?；晁岬鹊暮子袡C酸、草酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、馬來酸、富馬酸、衣康酸、鄰苯二甲酸、硝基三乙酸、硝基乙酸、乙二胺四乙酸、草酰乙酸等的羧酸、蘋果酸、酒石酸、檸檬酸、異檸檬酸、乙醇酸等的分子內(nèi)具有羥基的有機羧酸、谷氨酸、皮考林酸、天冬氨酸等的氨基羧酸等。另一方面，從降低由基板制造中的排水而導致的作為水質(zhì)污染基準的COD值的觀點出發(fā)，優(yōu)選使用無機酸、更優(yōu)選為磷酸、硫酸。另外，從提高循環(huán)研磨中的研磨液的耐久性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為選自多元羧酸、分子內(nèi)具有羥基的有機羧酸、含磷無機酸以及含磷有機酸中的一種以上，更優(yōu)選為選自多元羧酸、分子內(nèi)具有羥基的有機羧酸、以及含磷有機酸中的一種以上，進一步優(yōu)選為多元羧酸、分子內(nèi)具有羥基的有機羧酸。具體來說，優(yōu)選為選自1-羥基亞乙基-1，1-二膦酸、乙醇酸、琥珀酸、蘋果酸、酒石酸、以及檸檬酸中的一種以上，更優(yōu)選為選自1-羥基亞乙基-1，1-二膦酸、乙醇酸、蘋果酸、以及檸檬酸中的一種以上，若還考慮獲得容易性，則進一步優(yōu)選為乙醇酸、蘋果酸、以及檸檬酸中的一種以上。這些化合物可以單獨使用，也可以混合使用。前述酸可以為鹽的形態(tài)。在使用這些酸的鹽的情況下，沒有特別限定，具體來說，可列舉出與堿金屬、堿土金屬、銨、烷基銨等的鹽。這些當中，從提高研磨速度、降低粗糙度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為與堿金屬或銨的鹽。對于研磨液組合物中的酸的含量，從提高研磨速度的觀點以及提高循環(huán)研磨中的耐久性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.05重量％以上、更優(yōu)選為0.1重量％以上、進一步優(yōu)選為0.15重量％以上。另外，對于前述酸的含量，為了能夠進一步抑制研磨裝置的腐蝕，優(yōu)選為10重量％以下、更優(yōu)選為7.5重量％以下，進一步優(yōu)選為5.5重量％以下，進一步更優(yōu)選為2重量％以下。因此，前述酸的含量優(yōu)選為0.05 10重量％、更優(yōu)選為0.1 7.5重量％、進一步優(yōu)選為0.15 5.5重量％、進一步更優(yōu)選為0.15 2重量％。另外，上述的酸的含量在研磨液組合物中的酸為多種的情況下表示全部酸的總含量。對于研磨液組合物中的多元胺化合物與酸的重量比(多元胺化合物的重量/酸的重量)，從維持研磨速度、抑制洗滌工序中的表面粗糙度的惡化的觀點、提高清潔性的觀點、以及提高循環(huán)研磨中的耐久性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.001 1.0、更優(yōu)選為0.005 0.5、進一步優(yōu)選為0.01 0.3。[水]前述研磨液組合物優(yōu)選含有水作為介質(zhì)，能夠使用蒸餾水、離子交換水、純水以及超純水等。對于本發(fā)明的基板制造方法中的研磨液組合物中的水的含量，為了研磨液組合物的處理變得更容易，優(yōu)選為55重量％以上、更優(yōu)選為70重量％以上、進一步優(yōu)選為80重量％以上、特別優(yōu)選為85重量％以上。另外，對于前述水的含量，從提高研磨速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為99重量％以下、更優(yōu)選為98重量％以下，進一步優(yōu)選為97重量％以下。因此，前述介質(zhì)的含量優(yōu)選為55 99重量％、更優(yōu)選為70 98重量％、進一步優(yōu)選為80 97重量％、進一步更優(yōu)選為85 97重量％。[研磨液組合物的pH]對于前述研磨液組合物的pH，從提高研磨速度以及降低堿洗滌工序中的表面粗糙度的觀點、提高循環(huán)研磨中的耐久性的觀點、防止研磨機的腐蝕以及提高操作者的安全性的觀點出發(fā)，其為1.0 4.2、優(yōu)選為I以上且不足4.2、更優(yōu)選為1.5 4.0、進一步優(yōu)選為
1.5 3.5、進一步更優(yōu)選為2.0 3.5、進一步更優(yōu)選為2.5 3.5。另外，上述pH是25°C下的研磨液組合物的PH，能夠使用pH計(東亞電波工業(yè)株式會社、HM-30G)測定，是電極浸潰于研磨液組合物中3分鐘后的數(shù)值。[其他成分]前述研磨液組合物還可以包含殺菌劑、抗菌劑、增稠劑、分散劑、防銹劑等。對于這些成分在研磨液組合物中的含量，從研磨特性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為5重量％以下、更優(yōu)選為3重量％以下，進一步優(yōu)選為I重量％以下。[研磨液組合物的制備方法]研磨液組合物可以通過公知方法混合各成分，從而進行制備。對于研磨液組合物，從經(jīng)濟性的觀點出發(fā)，通常制作為濃縮液，在使用時大多將其稀釋。研磨液組合物可以直接使用，若是濃縮液，則進行稀釋后使用即可。在稀釋濃縮液的情況下，其稀釋倍率沒有特別限定，可以根據(jù)前述濃縮液中的各成分的濃度(研磨材料的含量等)或研磨條件等適當確定。研磨液組合物的pH可以在前述成分混合后調(diào)節(jié)為規(guī)定的pH，也可以在混合前分別進行調(diào)節(jié)。PH的調(diào)節(jié)可以通過前述多元胺化合物、前述酸、以及它們以外的pH調(diào)節(jié)劑來進行。[洗滌劑組合物]本發(fā)明的基板制造方法包括如下工序:將實施了使用前述研磨液組合物的研磨的玻璃基板，用PH8.0 13.0的洗滌劑組合物進行洗滌。洗滌劑組合物可以使用含有堿試劑、水、以及根據(jù)需要的各種添加劑的物質(zhì)。另外，若洗滌劑組合物為滿足前述PH范圍的物質(zhì)，則可以使用在玻璃基板的制造工序中通常使用的堿洗滌用組合物。[堿試劑]
前述洗滌劑組合物中使用的堿試劑可以是無機堿試劑以及有機堿試劑中的任一者。作為無機堿試劑，可列舉出例如，氨、氫氧化鉀、以及氫氧化鈉等。作為有機堿試劑，可列舉出例如，選自羥基烷基胺、四甲基氫氧化銨、以及膽堿所組成的組中的一種以上。這些堿試劑可以單獨使用、也可以混合二種以上使用。作為羥基烷基胺，可列舉出例如，單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、甲基乙醇胺、甲基二乙醇胺、單丙醇胺、二丙醇胺、三丙醇胺、甲基丙醇胺、甲基二丙醇胺、氨基乙基乙醇胺等。其中，從提高產(chǎn)品穩(wěn)定性及環(huán)境保護性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為單乙醇胺及甲基二乙醇胺、更優(yōu)選為單乙醇胺。這些羥基烷基胺可以單獨使用、也可以混合二種以上使用。前述堿試劑中，從洗滌劑組合物的在基板上的殘留物的分散性的提高、保存穩(wěn)定性的提高、以及特別是對玻璃的蝕刻控制的容易化的觀點出發(fā)，優(yōu)選為選自氫氧化鉀、氫氧化鈉、單乙醇胺、甲基二乙醇胺、以及氨基乙基乙醇胺所組成的組中的至少I種，更優(yōu)選為選自氫氧化鉀以及氫氧化鈉所組成的組中的至少I種。對于洗滌劑組合物中的堿試劑的含量，從表現(xiàn)洗滌劑組合物針對在基板上的殘留物的洗滌性、并且提高處理時的安全性的觀點出發(fā)，優(yōu)選為0.1 10重量％、更優(yōu)選為
0.3 3重量％。對于洗滌劑組合物的pH，從提高基板上的殘留物的分散性的觀點出發(fā)，其為8.0 13.0、優(yōu)選為9.0 13.0、更優(yōu)選為10.0 13.0、進一步優(yōu)選為11.0 13.0。另外，上述pH是25°C下的洗滌劑組合物的pH，可以使用pH計(東亞電波工業(yè)株式會社、HM-30G)測定，是電極浸潰于洗滌劑組合物中40分鐘后的數(shù)值。[各種添加劑]前述洗滌劑組合物除了包含堿試劑以外，還可以包含非離子表面活性劑、螯合劑、醚羧酸酯、脂肪酸、陰離子性表面活性劑、水溶性高分子、消泡劑(相當于成分的表面活性劑除外。)、醇類、防腐劑、抗氧化劑等。對于前述洗滌劑組合物中所含的水以外的成分的含量，從成本降低或兼顧成為能夠表現(xiàn)各種添加劑的充分效果的濃縮度與提高保存穩(wěn)定性的觀點出發(fā)，若將水的含量與水以外的成分的含量的總計設為100重量％，則優(yōu)選為10 60重量％、更優(yōu)選為15 50重
量％、進一步優(yōu)選為15 40重量％。前述洗滌劑組合物稀釋后使用。若考慮洗滌效率，稀釋倍率優(yōu)選為10 500倍、更優(yōu)選為20 200倍、進一步優(yōu)選為50 100倍。稀釋用的水可以是與下述相同的水。[水]前述洗滌劑組合物中所含的水只要是起到溶劑的作用則沒有特別限定，可列舉出例如，超純水、純水、離子交換水、或蒸餾水等，優(yōu)選為超純水、純水、或離子交換水，更優(yōu)選為超純水。另外，純水以及超純水可以通過例如將自來水通過活性炭，進行離子交換處理，進一步進行蒸餾，將蒸餾后的水，根據(jù)需要照射規(guī)定的紫外線殺菌燈、或通過過濾器，從而獲得。另外，洗滌劑組合物除了包含上述水以外還可以包含水系溶劑(例如，乙醇等的醇)作為溶劑，優(yōu)選洗滌劑組合物中所含的溶劑僅包含水。[玻璃基板的研磨工序]本發(fā)明的基板制造方法包括使用上述研磨液組合物對被研磨玻璃基板進行研磨的工序(以下，有時稱為“工序(I)”)。工序(I)中的被研磨基板通常為經(jīng)過前述精研削工序后的玻璃基板，優(yōu)選為粗研磨工序后的玻璃基板。對于玻璃基板，如上所述。工序(I)如下所述地進行:通過向玻璃基板的研磨對象面供給研磨液組合物，使研磨墊與前述研磨象面接觸，施加規(guī)定的壓力(負荷)，同時移動研磨墊和被研磨基板等，由此進行工序(I)。從提高最終的基板的品質(zhì)的觀點出發(fā)，該工序(I)優(yōu)選為終加工研磨工序。另外，在終加工研磨工序中，優(yōu)選使用研磨液組合物進行循環(huán)研磨。[循環(huán)研磨]本說明書中，循環(huán)研磨是指如下方法:在玻璃基板的研磨工序中，將所使用的研磨液再次投入研磨機中，使研磨液在研磨機內(nèi)循環(huán)從而進行再利用?？梢詫⒀心ズ蟮膹U液一次全部回收后再投入研磨機中，也可以使廢液返一邊回到回收罐一邊連續(xù)地再投入研磨機中。在將玻璃基板用酸性的研磨液組合物進行研磨時，存在玻璃基板中所含有的堿金屬離子溶出的情況。本發(fā)明人等發(fā)現(xiàn):若堿離子溶出，則研磨液的PH上升，因而若長時間進行研磨，則研磨速度降低。此時，被認為:若并用前述酸與多元胺化合物，則緩沖能增大，抑制研磨速度的降低，更長時間的循環(huán)研磨成為可能。在使研磨液組合物在研磨機內(nèi)循環(huán)而再利用時，其再利用次數(shù)沒有特別限定，使用前述研磨液組合物，適合對玻璃硬盤基板進行優(yōu)選10 30次、更優(yōu)選15 30次研磨時的使用。另外，本說明書中，對于循環(huán)研磨，作為一個實施方式，還可以包括在使研磨液組合物在研磨機內(nèi)循環(huán)而再利用時，階段性或連續(xù)地向研磨機內(nèi)的研磨液組合物中追加新研磨液組合物的工序。本實施方式中，新研磨液組合物優(yōu)選按照將研磨機內(nèi)的研磨液組合物的pH調(diào)節(jié)為1.0 4.2的范圍、優(yōu)選為上述的pH的范圍的方式添加。具體來說，新添加的研磨液組合物的添加量只要是將PH調(diào)節(jié)為1.0 4.2的范圍的量即可，但考慮到生產(chǎn)率、連續(xù)性，相對于循環(huán)添加的研磨液組合物，以(新添加的研磨液組合物/循環(huán)添加的研磨液組合物)計，優(yōu)選為0.005 1、更優(yōu)選為0.01 0.8。[研磨裝置] 作為用于玻璃基板的研磨的研磨裝置，沒有特別限定，可以使用具有保持被研磨基板的夾具(載體:芳綸制等)和研磨布(研磨墊)的研磨裝置。其中適合使用兩面研磨
>J-U ρ α裝直。作為研磨墊的材質(zhì)，可列舉出有機高分子等，作為前述有機高分子，可列舉出聚氨酯等。前述研磨墊的形狀優(yōu)選為無紡布狀。例如，在粗研磨工序中適合使用絨面感的氨基甲酸酯制硬質(zhì)墊、終加工研磨工序中適合使用絨面感的氨基甲酸酯制軟質(zhì)墊。作為使用該研磨裝置的研磨的具體例子，可列舉出如下所述的方法:將被研磨基板用載體保持，并用貼合了研磨墊的I對研磨平臺夾持，將研磨液組合物供給到研磨墊與被研磨基板之間，在規(guī)定的壓力下移動研磨平臺和/或被研磨基板，由此一邊使研磨液組合物與被研磨基板接觸、一邊對被研磨基板進行研磨。對于工序(I)中的研磨負荷，從提高研磨速度的觀點出發(fā)，優(yōu)選為3kPa以上、更優(yōu)選為4kPa以上、進一步優(yōu)選為5kPa以上、進一步更優(yōu)選為6kPa以上。從能夠以在研磨中研磨機不產(chǎn)生振動的方式穩(wěn)定地進行研磨這樣的觀點出發(fā)，優(yōu)選為40kPa以下，更優(yōu)選為30kPa以下、進一步優(yōu)選為20kPa以下、進一步更優(yōu)選為15kPa以下。因此，從維持研磨速度、能夠穩(wěn)定地進行研磨這樣的觀點出發(fā)，優(yōu)選為3 40kPa、更優(yōu)選為4 30kPa、進一步優(yōu)選為5 20kPa、進一步更優(yōu)選為6 15kPa。這里，“研磨負荷”是指，在研磨時由夾持被研磨基板的平臺對被研磨基板的研磨對象面施加的壓力。工序(I)中的研磨液組合物的供給方法可以使用如下所述的方法:在予先充分混合研磨液組合物的構(gòu)成成分的狀態(tài)下用泵等供給到研磨墊與玻璃基板之間的方法；在即將研磨之前的供給管線內(nèi)等混合構(gòu)成成分進行供給的方法；將研磨磨粒漿料和含有多元胺化合物的水溶液分別供給到研磨裝置的方法等。對于工序⑴中的研磨液組合物的供給速度，從降低成本的觀點出發(fā)，相對于Icm2被研磨基板優(yōu)選為1.0mL/分鐘以下、更優(yōu)選為0.6mL/分鐘以下、進一步優(yōu)選為0.4mL/分鐘以下。另外，對于前述供給速度，從能夠進一步提高研磨速度的方面出發(fā)，相對于Icm2被研磨基板優(yōu)選為0.0lmL/分鐘以上、更優(yōu)選為0.025mL/分鐘以上、進一步優(yōu)選為0.05mL/分鐘以上、進一步更優(yōu)選為0.1mL/分鐘以上。因此，前述供給速度相對于Icm2被研磨基板優(yōu)選為0.01 1.0mL/分鐘、更優(yōu)選為0.025 0.6mL/分鐘、進一步優(yōu)選為0.05 0.4mL/分鐘、進一步更優(yōu)選為0.1 0.4mL/分鐘。另外，若是進行循環(huán)研磨的情況下，則由于能夠再利用研磨液組合物，因而供給流量可以比上述記載的流量更多。對于循環(huán)研磨中的研磨液組合物的供給速度，從能夠進一步提高研磨速度的方面出發(fā)，相對于Icm2被研磨基板優(yōu)選為0.1mL/分鐘以上、更優(yōu)選為0.2mL/分鐘以上、進一步優(yōu)選為0.3mL/分鐘以上。另外，對于前述供給速度的上限，從降低成本的觀點出發(fā)，相對于Icm2被研磨基板優(yōu)選為3.0mL/分鐘以下、更優(yōu)選為2.5mL/分鐘以下，進一步優(yōu)選為2.2mL/分鐘以下。因此，循環(huán)研磨中的供給速度相對于被研磨基板Icm2優(yōu)選為0.1 3.0mL/分鐘、更優(yōu)選為0.2 2.5mL/分鐘、進一步優(yōu)選為0.3 2.2mL/分鐘。[玻璃基板的洗滌工序]本發(fā)明的基板制造方法包括如下工序(以下，有時也稱為工序(2)。):將實施了使用上述研磨液組合物的研磨的玻璃基板(被洗滌基板)，使用上述洗滌劑組合物進行洗滌。工序(2)中的洗滌對象基板包括:在工序(I)中剛剛研磨后的玻璃基板；以及工序(I)后經(jīng)過了用于防止干燥的向水等中的浸潰工序、作為預備洗滌的水洗滌工序和酸洗滌工序等的玻璃基板。在該工序(2)中，例如，將(a)被洗滌基板浸潰于洗滌劑組合物中，和/或注射(b)洗滌劑組合物，將洗滌劑組合物供給到被洗滌基板的表面上。前述方法(a)中，作為被洗滌基板向洗滌劑組合物中的浸潰條件沒有特別限定，例如，從安全性以及作業(yè)性的觀點出發(fā)，洗滌劑組合物的溫度優(yōu)選為20 100°C，從利用洗滌劑組合物的洗滌性和生產(chǎn)效率的觀點出發(fā)，浸潰時間優(yōu)選為10秒 30分鐘。另外，從提高殘留物的除去性及殘留物的分散性的觀點出發(fā)，優(yōu)選對洗滌劑組合物施加超聲波振動。作為超聲波的頻率，優(yōu)選為20 2000kHz、更優(yōu)選為40 2000kHz、進一步優(yōu)選為40 1500kHz ο前述方法(b)中，從促進殘留物的洗滌性和油分的溶解性的觀點出發(fā)，優(yōu)選:注射施加有超聲波振動的洗滌劑組合物，使洗滌劑組合物與被洗滌基板的表面接觸而對該表面進行洗滌；或者通過將洗滌劑組合物注射到被洗滌基板的表面上進行供給，并用洗滌用刷對供給了洗滌劑組合物的該表面進行摩擦從而進行洗滌。進而優(yōu)選:通過注射施加了超聲波振動的洗滌劑組合物而將其供給到洗滌對象的表面，并且用洗滌用刷對供給了洗滌劑組合物的該表面進行摩擦，從而進行洗滌。作為將洗滌劑組合物供給到被洗滌基板的表面上的手段，可以使用噴射嘴等公知的手段。另外，作為洗滌用刷，沒有特別限定，可以使用例如尼龍刷、PVA(聚乙烯醇)海綿刷等的公知洗滌用刷。作為超聲波的頻率，與前述方法(a)中優(yōu)選采用的值相同即可。工序⑵中，除了包括前述方法(a)和/或前述方法(b)以外，還包括I個以上的使用公知洗滌的工序，所述公知洗滌為搖動洗滌、利用了旋轉(zhuǎn)器等的旋轉(zhuǎn)的洗滌、槳式洗滌
坐寸ο實施例[實施例1 18以及比較例I 16]1.被研磨玻璃基板的制備準備用含有二氧化鈰磨粒的研磨液組合物預先進行了粗研磨的硅鋁酸鹽玻璃基板作為被研磨玻璃基板?；逯兴臉?gòu)成元素如下所述:Si的含量為27重量％、A1的含量為9重量％、Na的含量為6重量％。構(gòu)成元素使用ESCA法并在以下測定條件下測定?！?ESCA測定條件〕.試樣制作將娃招酸鹽玻璃基板切割為IcmX Icm,放置于碳制兩面膠帶上并固定。為了除去表面的垃圾等而在加速電壓2kV下施加6分鐘Ar濺射，實施了 ESCA測定。.測定機器:Ulvac_phi制 PHI Quantera SXMX 線源:單色化 AlKa 射線、I486.6eV、25W、15kV光束直徑:100 μ mX線入射角:45。測定范圍:500X 500 (μ m2)通能(Passenergy):280.0 (survey) > 140.0eV (narrow)步長(Stepsize): 1.00 (survey) >0.250eV (narrow)測定元素:C,N，0，Na，Mg，Al，Si，S，K，Ti，Zr, Nb帶電修正:Neutralizer以及Ar+照射2.研磨液組合物的制備在離子交換水中添加規(guī)定的酸后，對于實施例1 9、11 13、17，18、比較例2
8、13 16，按照研磨液組合物中成為0.1重量％的方式添加下述添加劑(多元胺化合物)，對于實施例10，按照研磨液組合物中成為0.5重量％的方式添加下述添加劑，對于實施例14，按照研磨液組合物中成為0.005重量％的方式添加下述添加劑，對于實施例15，按照研磨液組合物中成為0.01重量％的方式添加下述添加劑，對于實施例16，按照研磨液組合物中成為I重量％的方式添加下述添加劑。進一步按照研磨液組合物中成為8重量％的方式添加膠態(tài)二氧化硅(平均粒徑:25nm)，將pH調(diào)節(jié)為規(guī)定值，獲得實施例1 18及比較例I 16的研磨液組合物。所使用的酸、及所設定的pH如下所述?！菜帷硨嵤├? 9、14 18:檸檬酸實施例10:梓檬酸+硫酸實施例11:蘋果酸實施例12:乙醇酸
實施例13:1-羥基亞乙基-1，1-二膦酸(HEDP)比較例I 16:梓檬酸(pH)實施例1 8、11 18:ρΗ3.0實施例9:ρΗ4.2實施例10:ρΗ1.5比較例I 7、9 16:ρΗ3.0比較例8:ρΗ4.5〔添加劑〕實施例1、比較例13:乙二胺(和光純藥工業(yè)社制)實施例2、比較例8、14:2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇(日本乳化劑社制)實施例3: 二乙三胺(東曹社制)實施例4:三乙四胺(東曹社制)實施例5:哌嗪(和光純藥工業(yè)社制)實施例6、9 18、比較例15:1-(2-羥基乙基)哌嗪(日本乳化劑社制)實施例7:1-(2-氨基乙基)哌嗪(東曹社制)實施例8、比較例16:四乙五胺(東曹社制)比較例1、9 12:無比較例2:乙基胺(和光純藥工業(yè)社制)比較例3:單乙醇胺(Sigma-Aldrich社制)比較例4:三乙醇胺(Sigma-Aldrich社制)比較例5:聚乙烯亞胺(SP-006 (分子量600)、日本觸媒社制)比較例6:聚二烯丙基二甲基氯化銨(MerquatlOO) (Nalco社制)比較例7:丙烯酸/丙烯酰胺-2-甲基丙烷磺酸共聚物鈉鹽(共聚摩爾比89/11、重均分子量2000、東亞合成社制)前述酸用于將配合后的pH調(diào)節(jié)到目標的pH。對于所使用的酸(酸的添加量)，在實施例1 8、17、18以及比較例2 6、13 16的情況下，在研磨液組合物中檸檬酸1.1
1.8重量％ ;在實施例9的情況下，檸檬酸0.41重量％ ;在實施例10的情況下，硫酸0.6重量％、檸檬酸1.0重量％ ;在實施例11的情況下，蘋果酸1.24重量％ ;在實施例12的情況下，乙醇酸1.25重量％ ;在實施例13的情況下，HEDP0.38重量％ ;實施例14的情況下，檸檬酸0.70重量％ ;在實施例15的情況下，檸檬酸0.74重量％ ;在實施例16的情況下，檸檬酸5.1重量％ ;在比較例1，9的情況下，檸檬酸0.65重量％ ;在比較例7的情況下，檸檬酸0.88重量％ ;在比較例8的情況下，檸檬酸0.40重量％ ;在比較例10的情況下，檸檬酸0.65重量％ ;在比較例11的情況下，檸檬酸0.65重量％ ;在比較例12的情況下，檸檬酸0.65重量％?！?二氧化硅粒子的一次粒子平均粒徑的測定方法〕對于包含膠態(tài)二氧化硅的試樣，本制造業(yè)人員按照所添附的說明書通過透射型電子顯微鏡“JEM-2000FX”(80kV、l 5萬倍、日本電子社制)觀察試樣，對TEM(TransmissionElectron Microscope)圖像拍攝照片。用掃描儀掃描該照片,作為圖像數(shù)據(jù)輸入個人電腦，使用解析軟件“WinROOFver.3.6”(銷售商:三谷商事)，計算測定各個二氧化娃粒子的圓當量直徑，求出粒徑。由此，求出1000個二氧化硅粒子的粒徑后，算出這些平均值，將該平均值作為一次粒子的平均粒徑。3.研磨方法使用了實施例1 16、比較例I 8、10 16的研磨液組合物的研磨在下述標準研磨試驗的條件下進行?！惭心l件〕研磨試驗機=SpeedFam社制“兩面9B研磨機”研磨墊:絨面型(厚度0.9mm、平均開孔徑30 μ m)研磨液組合物供給量:100mL/分鐘(相對于被研磨基板Icm2的供給速度:約0.3mL/ 分鐘)下平臺轉(zhuǎn)速:32.5rpm研磨負荷:8.4kPa載體:芳綸制、厚度0.45mm研磨時間:20分鐘被研磨基板:娃招酸鹽玻璃基板(外徑65mm、內(nèi)徑20mm、厚度0.635mm)投入基板張數(shù):10張沖洗條件:負荷=2.0kPa、時間=2分鐘、離子交換水供給量=約2L/分鐘在下述洗滌條件下對研磨后的基板進行洗滌，實施評價。使用了實施例17、18以及比較例9的研磨液組合物的循環(huán)研磨在下述研磨試驗條件下進行?！惭心l件〕研磨試驗機:SpeedFam社制“兩面9B研磨機”研磨墊:絨面型(厚度0.9mm、平均開孔徑30 μ m)研磨液組合物供給量:100mL/分鐘(相對于被研磨基板Icm2的供給速度:約0.3mL/ 分鐘)下平臺轉(zhuǎn)速:32.5rpm研磨負荷:8.4kPa載體:芳絕制、厚度0.45mm研磨時間:20分鐘被研磨基板:娃招酸鹽玻璃基板(外徑65mm、內(nèi)徑20mm、厚度0.635mm)投入基板張數(shù):10張沖洗條件:負荷=2.0kPa、時間=2分、離子交換水供給量=約2L/分鐘循環(huán)批數(shù):15批研磨液量:2L循環(huán)研磨方法:以IOOmL/分鐘的流量從研磨液的容器供給研磨液，將從排水管排出的研磨完畢的研磨液，再次返回到研磨液的容器中的同時，實施了研磨。在下述洗滌條件下對循環(huán)研磨第15批的基板進行洗滌，實施評價。對于實施例18，在研磨中每隔5分鐘將IOOml的新研磨液追加到研磨液的容器中。另外，pH在研磨中為3.0 3.5之間。4.洗滌方法在以下條件下用洗滌裝置對研磨后的硅鋁酸鹽玻璃基板進行了洗滌。(I)洗滌-1:將被洗滌基板浸潰于放入了下述洗滌液I 5中的任一種的樹脂槽(40 0C )中，照射超聲波的同時洗滌120秒鐘。洗滌劑I:(實施例1 18、比較例I 9)包含KOH水溶液的ρΗ12.0的堿性洗滌劑組合物洗滌劑2:(比較例10)在洗滌劑I中添加2-[(2-氨基乙基)氨基]乙醇(日本乳化劑社制)0.1 %，使用KOH水溶液調(diào)節(jié)為ΡΗ12.0的堿性洗滌劑組合物洗滌劑3:(比較例11)在洗滌劑I中添加1-(2-羥基乙基)哌嗪(日本乳化劑社制)0.1 %，使用KOH水溶液調(diào)節(jié)為PH12.0的堿性洗滌劑組合物洗滌劑4:(比較例12)在洗滌劑I中添加四乙五胺(東曹社制)0.1%，使用KOH水溶液調(diào)節(jié)為PH12.0的堿性洗滌劑組合物洗滌劑5:(比較例13 16)使用1_羥基亞乙基_1，1_ 二膦酸(HEDP)制備的PH2.5的酸性洗滌劑組合物(2)洗刷-1:將被洗滌基板移至添加了超純水的樹脂槽(40°C )中，照射超聲波的同時進行120秒鐘的洗刷。(3)再次反復進行(I)和(2)。(4)洗滌-2:將被洗滌基板從樹脂槽內(nèi)移至安裝有洗滌刷的摩擦洗滌單元中，將常溫的洗滌劑組合物注射到洗滌刷，在該洗滌劑組合物的存在下，使洗滌刷在該基板的兩面以400rpm旋轉(zhuǎn)的同時將洗滌刷按壓到所述基板的兩面，從而進行5秒鐘洗滌。洗滌劑組合物使用與“(I)洗滌-1”中使用的洗滌劑組合物相同組成的物質(zhì)。(5)洗刷-2:將被洗滌基板移至下一摩擦洗滌單元，注射常溫的超純水，使洗滌刷在該基板的兩面以400rpm旋轉(zhuǎn)的同時將洗滌刷按壓到所述基板的兩面，從而進行5秒鐘洗刷。(6)再次反復進行⑷和(5)。(7)洗刷-3:將被洗滌基板移至添加了超純水的樹脂槽中，進行10分鐘洗刷。(8)干燥:將被洗滌基板移至添加了熱純水(60°C )的樹脂槽中，浸潰60秒鐘后，以250mm/分鐘的速度拉起被洗滌基板，放置420秒鐘，使基板表面完全干燥。5.評價方法研磨速度、表面粗糙度、基板清潔性、以及胺臭的評價如下所述地進行。〔研磨速度的測定方法〕計算將研磨前后的基板的重量差(g)除以該基板的密度(2.46g/cm3)、基板的表面積(30.04cm2)、以及研磨時間(分鐘)而得到的每單位時間的研磨量，算出研磨速度(ym/分鐘)。其結(jié)果示于下述表I及2，以將比較例I設為100時的相對值來表示。〔表面粗糙度的測定方法〕在通過前述的研磨方法獲得的實施了同樣的研磨處理的基板10張中，任意選擇2組，每組4張，進行未使用各個洗滌劑組合物的水洗滌、以及使用洗滌劑組合物的堿洗滌，測定各自的表面粗糙度。對于表面粗糙度，在以下所示的條件下使用AFM(DigitalInstrument NanoScope IIIa MultiMode AFM)測定各個基板的兩面,算出平均值。另外,將堿洗滌后的基板的表面粗糙度除以水洗滌后的基板的表面粗糙度，算出利用堿洗滌的表面粗糙度的惡化率。這些結(jié)果示于下述表I 3。(AFM的測定條件)模式(Mode):Tappingmode面積(Area): I X I μ m掃面率(Scanrate): 1.0Hz支架(Cantilever):NCH-1OV線(Line):512X512〔基板清潔性的評價:殘留顆粒的測定方法〕將玻璃硬盤基板進行研磨.洗滌.干燥后，按照下述所示的方法測定在基板上殘留的顆粒數(shù)。測定機器:KLATencor 社制、0SA7100評價:在通過前述的研磨方法研磨后的基板10張中，任意選擇4張，以IOOOOrpm對各個基板照射激光，測定突起缺陷。將在所述4張基板的各個兩面存在的突起缺陷數(shù)(個)的總計除以8，算出每個基板面的顆粒數(shù)。其結(jié)果示于下述表I 3，以將比較例I設為100時的相對值來表示?！舶烦舻脑u價〕對于表I所示的各研磨液組合物，在室溫條件下，基于以下評價基準，通過3名參與者的官能評價，評價了胺臭。〔評價基準〕N:幾乎沒有胺臭D:有胺臭下述表I為將實施例1 18和比較例I 9的結(jié)果總匯的表。另外，實施例17、18、以及比較例9為循環(huán)研磨的結(jié)果。另外，實施例18如上所述，是在循環(huán)研磨中每隔5分鐘向研磨液的容器中追加IOOml的新研磨液的例子。[表 I]
權(quán)利要求
1.一種玻璃硬盤基板的制造方法，其包括以下工序⑴及⑵: (1)使用含有分子內(nèi)具有2 10個氮原子的多元胺化合物、并且pH為1.0 4.2的研磨液組合物，對被研磨玻璃基板進行研磨的工序，(2)將工序(I)中獲得的基板，用pH8.0 13.0的洗滌劑組合物進行洗滌的工序。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 所述多元胺化合物的分子量為500以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 所述被研磨玻璃基板為硅鋁酸鹽玻璃基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 所述研磨液組合物還含有選自多元羧酸、含磷無機酸、以及含磷有機酸中的一種以上的酸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 所述研磨液組合物含有二氧化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 工序(I)包括循環(huán)研磨工序。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃硬盤基板的制造方法，其中， 所述循環(huán)研磨工序包括如下工序:通過補充新研磨液組合物，將循環(huán)研磨中使用的研磨液組合物的pH調(diào)節(jié)到pHl.0 4.2。
全文摘要
本發(fā)明提供一種玻璃硬盤基板的制造方法，其具有將玻璃基板用酸性研磨液進行研磨后進行堿洗滌的工序，其能夠在研磨工序中維持研磨速度的狀態(tài)下、抑制堿洗滌工序中的玻璃基板的表面粗糙度的惡化、進而還能夠提高清潔性。一種玻璃硬盤基板的制造方法，其包括以下工序(1)及(2)(1)使用含有分子內(nèi)具有2～10個氮原子的多元胺化合物的pH1.0～4.2的研磨液組合物，對被研磨玻璃基板進行研磨的工序；(2)將工序(1)中獲得的基板，用pH8.0～13.0的洗滌劑組合物進行洗滌的工序。
文檔編號C03C19/00GK103180902SQ20118005124
公開日2013年6月26日 申請日期2011年10月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月27日
發(fā)明者土居陽彥, 青野信幸 申請人:花王株式會社