專利名稱：自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平面基材鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)是在電源(包括射頻電源、直流電源或交流電源等)接通的條件下通入相關(guān)氣體，生成的薄膜沉積在基底上，可應(yīng)用于半導(dǎo)體、太陽能、 顯示器及電子應(yīng)用的設(shè)備中。由于該工藝沒有環(huán)境污染產(chǎn)生，沒有化學(xué)污水排放，同時消耗功率低，效率較高，因此逐步被應(yīng)用。但目前的等離子氣相沉積技術(shù)一般只能應(yīng)用于表面積較小的工件，不能適用于太陽能發(fā)電用玻璃等表面積較大的工件處理。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種適用于大面積工件處理的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)。本發(fā)明的技術(shù)方案為一種自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，包括預(yù)熱室、至少一個等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室，預(yù)熱室、等離子氣相沉積室和冷卻室通過第一導(dǎo)軌依次連接，清洗室與冷卻室平行設(shè)置，清洗室底部設(shè)置第二導(dǎo)軌，第一導(dǎo)軌的兩端分別設(shè)置入室導(dǎo)軌和出室導(dǎo)軌，入室導(dǎo)軌與第一輸送帶連接并相互垂直設(shè)置，出室導(dǎo)軌與第二輸送帶連接并相互垂直設(shè)置，第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、第一輸送帶和第二輸送帶形成長方形結(jié)構(gòu)；預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室分別外接有抽真空機(jī)構(gòu)；預(yù)熱室與等離子氣相沉積室的相接處和等離子氣相沉積室與冷卻室的相接處分別設(shè)有真空鎖；玻璃工件設(shè)于工件架上，工件架通過其底部的滾輪運(yùn)動于第一導(dǎo)軌或第二導(dǎo)軌上；工件架通過入室車運(yùn)動于第一輸送帶及入室導(dǎo)軌上，工件架通過出室車運(yùn)動于第二輸送帶及出室導(dǎo)軌上。所述等離子氣相沉積室有6個，6個等離子氣相沉積室串聯(lián)設(shè)于預(yù)熱室和冷卻室之間，各等離子氣相沉積室分別與抽真空機(jī)構(gòu)連接，相鄰兩個等離子氣相沉積室之間設(shè)有真空鎖。對于需要進(jìn)行多層沉積的玻璃工件來說，設(shè)置多個等離子氣相沉積室，各個等離子氣相沉積室可根據(jù)工藝需要充入不同的氣體，相比起在同一等離子氣相沉積室內(nèi)交替充入不同氣體的情況，可避免不同氣體的交叉污染。所述真空鎖為插板式真空鎖，包括氣缸、閥體和閥芯組件，閥體為中空的長方體箱式結(jié)構(gòu)，閥體的左右兩側(cè)壁分別與位于其兩側(cè)的真空室固定連接，閥體的左右兩側(cè)壁上分別開有閥體通孔，閥體通孔與位于閥體兩側(cè)的真空室內(nèi)的工件通孔相通，閥芯組件設(shè)于閥體的中部空間內(nèi)，氣缸末端穿過閥體頂部并與閥芯組件連接；閥芯組件包括對稱設(shè)置的兩個活動板，兩個活動板之間設(shè)置活動鉸并通過活動鉸與氣缸末端連接，兩個活動板的底部分別設(shè)有導(dǎo)輪。該結(jié)構(gòu)的真空鎖使用時，當(dāng)需要關(guān)閉真空鎖，氣缸運(yùn)行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內(nèi)向下運(yùn)動，當(dāng)閥芯組件下降至導(dǎo)輪與閥體內(nèi)底面相接觸時，氣缸末端繼續(xù)下降，通過各活動鉸將兩個活動板向兩側(cè)撐開，兩個活動板在導(dǎo)輪的引導(dǎo)下滑向閥體中部空間的兩側(cè)壁，當(dāng)兩個活動板的外側(cè)分別貼緊于閥體中部空間的兩側(cè)壁時，兩個活動板分別封住相應(yīng)的閥體通孔，從而隔開閥體左右兩側(cè)真空室上的工件通孔，達(dá)到密封的目的；當(dāng)需要打開真空鎖，驅(qū)動元件運(yùn)行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內(nèi)反向運(yùn)動， 通過活動鉸先將兩個活動板向中間收攏后，再使其上升至導(dǎo)輪高于閥體通孔所處的位置即可。所述兩個活動板之間設(shè)有至少一個拉簧，各拉簧兩端分別固定于兩個活動板的側(cè)壁上。在兩個活動板之間設(shè)置拉簧，可防止活動板運(yùn)動過快而產(chǎn)生碰撞，確保設(shè)備的正常運(yùn)行。所述抽真空機(jī)構(gòu)包括相連接的干泵和高真空機(jī)組，高真空機(jī)組的入口端通過管道分別與預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室連接。所述清洗室為真空高頻離子清洗室，清洗室的室壁上設(shè)有多個真空測量規(guī)，清洗室還通過管道外接吸塵機(jī)。所述等離子氣相沉積室底部設(shè)有多個輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)；等離子氣相沉積室包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設(shè)于沉積室腔外周；輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)包括固定電極、動電極、射頻輸入件和氣動件，固定電極與沉積室腔底部固定連接，動電極設(shè)于固定電極下方，動電極與真空室壁的相接處設(shè)有密封件，密封件外周依次設(shè)置水冷套和絕緣套， 動電極下端設(shè)置射頻輸入件，動電機(jī)下端通過絕緣隔離件與氣動件連接，固定電極和動電極外周還分別設(shè)有屏蔽件。各個輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)使用時，其原理是當(dāng)工件架進(jìn)入真空室進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積時，系統(tǒng)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動氣動件動作，氣動件末端驅(qū)使動電極滑動并與固定電極相接，射頻機(jī)構(gòu)通過射頻接入件即可進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。所述預(yù)熱室的室壁和冷卻室的室壁上也分別設(shè)有多個真空測量規(guī)。所述工件架包括機(jī)架體和多個隔板，多個隔板分布于機(jī)架體中部，相鄰兩個隔板之間設(shè)置玻璃工件。本等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)使用時，其原理是玻璃工件預(yù)先裝于相應(yīng)的工件架上，由入室車通過入室導(dǎo)軌送至預(yù)熱室，預(yù)熱室內(nèi)的溫度保持150 a200°C即可，預(yù)熱室內(nèi)為低真空狀態(tài)，充入保護(hù)氣體，通過氣體循環(huán)使室內(nèi)溫度保持穩(wěn)定；對玻璃工件預(yù)熱完成后，打開預(yù)熱室與等離子氣相沉積室之間的真空鎖，工件架帶著玻璃工件由第一導(dǎo)軌送入等離子氣相沉積室，在室內(nèi)進(jìn)行等離子氣相沉積后，生成P、I、N膜，該過程要求室內(nèi)真空度較高、室內(nèi)各處溫度均勻、絕緣性良好、送入反應(yīng)氣體穩(wěn)定，所以等離子氣相沉積室底部專設(shè)有射頻輸入電極自動結(jié)合機(jī)構(gòu)(當(dāng)系統(tǒng)中設(shè)有多個等離子氣相沉積室時，則玻璃工件依次送入各等離子氣相沉積室進(jìn)行鍍膜)；鍍膜完成后，打開等離子氣相沉積室與冷卻室之間的真空鎖，工件架帶著玻璃工件送入冷卻室進(jìn)行冷卻；冷卻完成后工件架及玻璃工件由出室車通過出室導(dǎo)軌送至第二輸送帶上；玻璃工件卸片后，工件架由第二輸送帶送至第二導(dǎo)軌處，通過第二導(dǎo)軌，工件架被送入清洗室進(jìn)行膜層清除，該過程采用高頻高壓電力法的物理清除方式，可避免環(huán)境污染，清除過程由吸塵機(jī)自動收集粉塵及污染物；工件架清洗完成后，送至第一輸送帶上循環(huán)使用。本發(fā)明相對于現(xiàn)有技術(shù)，具有以下有益效果本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)是針對大面積工件的表面處理而提出的，克服了傳統(tǒng)工藝只能應(yīng)用于表面積較小的工件的缺陷，其應(yīng)用范圍廣，也為等離子氣相沉積技術(shù)提供一種新的設(shè)備。根據(jù)實(shí)際工藝的需要，其中等離子氣相沉積室的個數(shù)可靈活設(shè)置，使用方便。本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)相比傳統(tǒng)工藝，增加了清洗室并實(shí)現(xiàn)循環(huán)工作， 有效提高了生產(chǎn)效率，降低勞動強(qiáng)度，產(chǎn)品的質(zhì)量也得到提高，同時該系統(tǒng)占地面積小，成本消耗也低。實(shí)際應(yīng)用中，該系統(tǒng)可適用于面積為1400X1100 (mm)左右的玻璃工件。本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)中采用的真空鎖也是針對大面積平面基體工件 (如玻璃等)而設(shè)的，采用氣缸帶動閥芯組件上下運(yùn)動實(shí)現(xiàn)其啟閉，可有效克服傳統(tǒng)真空插板閥占用空間大的缺陷，也可較好地應(yīng)用于大型玻璃鍍膜工藝用的真空鍍膜室，同時，本真空鎖關(guān)閉后，由于氣缸及活動鉸的作用，兩個活動板可相應(yīng)貼緊于閥體中部空間的內(nèi)側(cè)壁， 其密封效果好，閥芯結(jié)構(gòu)也較為穩(wěn)固，不易變形。


圖1為本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1的A向視圖。
圖3為本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)中真空鎖的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖4為圖3的B向視圖。
圖5為本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)中清洗室的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖6為圖5的C向視圖。
圖7為本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)中輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖8為本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖9為圖8的D向視圖。
圖10為圖3的E放大圖。
圖11為本等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)中工件架的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合實(shí)施例及附圖，對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，但本發(fā)明的實(shí)施方式不限于此。實(shí)施例1本實(shí)施例一種自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其結(jié)構(gòu)如圖1或圖2所示，包括預(yù)熱室1、等離子氣相沉積室2、冷卻室3和清洗室4，預(yù)熱室、等離子氣相沉積室和冷卻室通過第一導(dǎo)軌5依次連接，清洗室與冷卻室平行設(shè)置，清洗室底部設(shè)置第二導(dǎo)軌6，第一導(dǎo)軌的兩端分別設(shè)置入室導(dǎo)軌7和出室導(dǎo)軌8，入室導(dǎo)軌7與第一輸送帶9連接并相互垂直設(shè)置， 出室導(dǎo)軌8與第二輸送帶10連接并相互垂直設(shè)置，第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、第一輸送帶和第二輸送帶形成長方形結(jié)構(gòu)；預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室分別外接有抽真空機(jī)構(gòu)；預(yù)熱室與等離子氣相沉積室的相接處和等離子氣相沉積室與冷卻室的相接處分別設(shè)有真空鎖11 ；玻璃工件設(shè)于工件架12上，工件架通過其底部的滾輪運(yùn)動于第一導(dǎo)軌或第二導(dǎo)軌上；工件架通過入室車13運(yùn)動于第一輸送帶及入室導(dǎo)軌上，工件架通過出室車14運(yùn)動于第二輸送帶及出室導(dǎo)軌上。
真空鎖為插板式真空鎖，其結(jié)構(gòu)如圖3、圖4或圖10所示，包括氣缸15、閥體16和閥芯組件，閥體16為中空的長方體箱式結(jié)構(gòu)，閥體的左右兩側(cè)壁分別與位于其兩側(cè)的真空室固定連接，閥體的左右兩側(cè)壁上分別開有閥體通孔17，閥體通孔與位于閥體兩側(cè)的真空室內(nèi)的工件通孔相通，閥芯組件設(shè)于閥體的中部空間內(nèi)，氣缸末端穿過閥體頂部并與閥芯組件連接；閥芯組件包括對稱設(shè)置的兩個活動板18，兩個活動板之間設(shè)置活動鉸19并通過活動鉸與氣缸末端連接，兩個活動板的底部分別設(shè)有導(dǎo)輪20。該結(jié)構(gòu)的真空鎖使用時，當(dāng)需要關(guān)閉真空鎖，氣缸運(yùn)行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內(nèi)向下運(yùn)動，當(dāng)閥芯組件下降至導(dǎo)輪與閥體內(nèi)底面相接觸時，氣缸末端繼續(xù)下降，通過各活動鉸將兩個活動板向兩側(cè)撐開，兩個活動板在導(dǎo)輪的引導(dǎo)下滑向閥體中部空間的兩側(cè)壁，當(dāng)兩個活動板的外側(cè)分別貼緊于閥體中部空間的兩側(cè)壁時，兩個活動板分別封住相應(yīng)的閥體通孔，從而隔開閥體左右兩側(cè)真空室上的工件通孔，達(dá)到密封的目的；當(dāng)需要打開真空鎖，驅(qū)動元件運(yùn)行，其末端帶動閥芯組件在閥體中部空間內(nèi)反向運(yùn)動，通過活動鉸先將兩個活動板向中間收攏后，再使其上升至導(dǎo)輪高于閥體通孔所處的位置即可。為了防止活動板運(yùn)動過快而產(chǎn)生碰撞，確保設(shè)備的運(yùn)行更為可靠，兩個活動板之間設(shè)有至少一個拉簧21，各拉簧兩端分別固定于兩個活動板的側(cè)壁上。如圖2所示，抽真空機(jī)構(gòu)包括相連接的干泵22和高真空機(jī)組23，高真空機(jī)組的入口端通過管道分別與預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室連接。清洗室為真空高頻離子清洗室，其結(jié)構(gòu)如圖5或圖6所示，清洗室的室壁上設(shè)有多個真空測量規(guī)對，如圖2所示，清洗室4還通過管道外接吸塵機(jī)25。等離子氣相沉積室底部設(shè)有多個輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)；如圖7所示，等離子氣相沉積室包括沉積室腔沈和真空室壁27，真空室壁設(shè)于沉積室腔外周；輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)包括固定電極觀、動電極四、射頻輸入件30和氣動件31，固定電極與沉積室腔底部固定連接，動電極設(shè)于固定電極下方，動電極與真空室壁的相接處設(shè)有密封件32，密封件外周依次設(shè)置水冷套33和絕緣套34，動電極下端設(shè)置射頻輸入件，動電機(jī)下端通過絕緣隔離件 35與氣動件連接，固定電極和動電極外周還分別設(shè)有屏蔽件。各個輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)使用時，其原理是當(dāng)工件架進(jìn)入真空室進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積時，系統(tǒng)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動氣動件動作，氣動件末端驅(qū)使動電極滑動并與固定電極相接，射頻機(jī)構(gòu)通過射頻接入件即可進(jìn)行等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積。如圖1所示，預(yù)熱室1的室壁和冷卻室3的室壁上也分別設(shè)有多個真空測量規(guī)24。如圖11所示，工件架包括機(jī)架體36和多個隔板37，多個隔板分布于機(jī)架體中部， 相鄰兩個隔板37之間設(shè)置玻璃工件。本等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)使用時，其原理是玻璃工件預(yù)先裝于相應(yīng)的工件架上，由入室車通過入室導(dǎo)軌送至預(yù)熱室，預(yù)熱室內(nèi)的溫度保持150—200 °C即可，預(yù)熱室內(nèi)為低真空狀態(tài)，充入保護(hù)氣體，通過氣體循環(huán)使室內(nèi)溫度保持穩(wěn)定；對玻璃工件預(yù)熱完成后，打開預(yù)熱室與等離子氣相沉積室之間的真空鎖，工件架帶著玻璃工件由第一導(dǎo)軌送入等離子氣相沉積室，在室內(nèi)進(jìn)行等離子氣相沉積后，生成P、I、N膜，該過程要求室內(nèi)真空度較高、室內(nèi)各處溫度均勻、絕緣性良好、送入反應(yīng)氣體穩(wěn)定，所以等離子氣相沉積室底部專設(shè)有射頻輸入電極自動結(jié)合機(jī)構(gòu)(當(dāng)系統(tǒng)中設(shè)有多個等離子氣相沉積室時，則玻璃工件依次送入各等離子氣相沉積室進(jìn)行鍍膜)；鍍膜完成后，打開等離子氣相沉積室與冷卻室
6之間的真空鎖，工件架帶著玻璃工件送入冷卻室進(jìn)行冷卻；冷卻完成后工件架及玻璃工件由出室車通過出室導(dǎo)軌送至第二輸送帶上；玻璃工件卸片后，工件架由第二輸送帶送至第二導(dǎo)軌處，通過第二導(dǎo)軌，工件架被送入清洗室進(jìn)行膜層清除，該過程采用高頻高壓電力法的物理清除方式，可避免環(huán)境污染，清除過程由吸塵機(jī)自動收集粉塵及污染物；工件架清洗完成后，送至第一輸送帶上循環(huán)使用。實(shí)施例2本實(shí)施例一種自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其具體結(jié)構(gòu)如圖8或圖9所示，與實(shí)施例1相比較，其不同之處在于，等離子氣相沉積室2有6個，6個等離子氣相沉積室串聯(lián)設(shè)于預(yù)熱室和冷卻室之間，各等離子氣相沉積室分別與抽真空機(jī)構(gòu)連接，相鄰兩個等離子氣相沉積室之間設(shè)有真空鎖。對于需要進(jìn)行多層沉積的玻璃工件來說，設(shè)置多個等離子氣相沉積室，各個等離子氣相沉積室可根據(jù)工藝需要充入不同的氣體，相比起在同一等離子氣相沉積室內(nèi)交替充入不同氣體的情況，可避免不同氣體的交叉污染。如上所述，便可較好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明，上述實(shí)施例僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非用來限定本發(fā)明的實(shí)施范圍；即凡依本發(fā)明內(nèi)容所作的均等變化與修飾，都為本發(fā)明權(quán)利要求所要求保護(hù)的范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，包括預(yù)熱室、至少一個等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室，預(yù)熱室、等離子氣相沉積室和冷卻室通過第一導(dǎo)軌依次連接，清洗室與冷卻室平行設(shè)置，清洗室底部設(shè)置第二導(dǎo)軌，第一導(dǎo)軌的兩端分別設(shè)置入室導(dǎo)軌和出室導(dǎo)軌，入室導(dǎo)軌與第一輸送帶連接并相互垂直設(shè)置，出室導(dǎo)軌與第二輸送帶連接并相互垂直設(shè)置，第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、第一輸送帶和第二輸送帶形成長方形結(jié)構(gòu)；預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室分別外接有抽真空機(jī)構(gòu)；預(yù)熱室與等離子氣相沉積室的相接處和等離子氣相沉積室與冷卻室的相接處分別設(shè)有真空鎖；玻璃工件設(shè)于工件架上，工件架通過其底部的滾輪運(yùn)動于第一導(dǎo)軌或第二導(dǎo)軌上；工件架通過入室車運(yùn)動于第一輸送帶及入室導(dǎo)軌上，工件架通過出室車運(yùn)動于第二輸送帶及出室導(dǎo)軌上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述等離子氣相沉積室有6個，6個等離子氣相沉積室串聯(lián)設(shè)于預(yù)熱室和冷卻室之間，各等離子氣相沉積室分別與抽真空機(jī)構(gòu)連接，相鄰兩個等離子氣相沉積室之間設(shè)有真空鎖。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述真空鎖為插板式真空鎖，包括氣缸、閥體和閥芯組件，閥體為中空的長方體箱式結(jié)構(gòu)，閥體的左右兩側(cè)壁分別與位于其兩側(cè)的真空室固定連接，閥體的左右兩側(cè)壁上分別開有閥體通孔，閥體通孔與位于閥體兩側(cè)的真空室內(nèi)的工件通孔相通，閥芯組件設(shè)于閥體的中部空間內(nèi)，氣缸末端穿過閥體頂部并與閥芯組件連接；閥芯組件包括對稱設(shè)置的兩個活動板，兩個活動板之間設(shè)置活動鉸并通過活動鉸與氣缸末端連接，兩個活動板的底部分別設(shè)有導(dǎo)輪。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述兩個活動板之間設(shè)有至少一個拉簧，各拉簧兩端分別固定于兩個活動板的側(cè)壁上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述抽真空機(jī)構(gòu)包括相連接的干泵和高真空機(jī)組，高真空機(jī)組的入口端通過管道分別與預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗室為真空高頻離子清洗室，清洗室的室壁上設(shè)有多個真空測量規(guī)，清洗室還通過管道外接吸塵機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述等離子氣相沉積室底部設(shè)有多個輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)；等離子氣相沉積室包括沉積室腔和真空室壁，真空室壁設(shè)于沉積室腔外周；輸入電極自動接合機(jī)構(gòu)包括固定電極、動電極、射頻輸入件和氣動件，固定電極與沉積室腔底部固定連接，動電極設(shè)于固定電極下方，動電極與真空室壁的相接處設(shè)有密封件，密封件外周依次設(shè)置水冷套和絕緣套，動電極下端設(shè)置射頻輸入件，動電機(jī)下端通過絕緣隔離件與氣動件連接，固定電極和動電極外周還分別設(shè)有屏蔽件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)熱室的室壁和冷卻室的室壁上也分別設(shè)有多個真空測量規(guī)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動循環(huán)等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，所述工件架包括機(jī)架體和多個隔板，多個隔板分布于機(jī)架體中部，相鄰兩個隔板之間設(shè)置玻璃工件。
全文摘要
本發(fā)明公開一種自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)，包括預(yù)熱室、至少一個等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室，預(yù)熱室、等離子氣相沉積室和冷卻室通過第一導(dǎo)軌依次連接，清洗室與冷卻室平行設(shè)置且底部設(shè)置第二導(dǎo)軌，第一導(dǎo)軌的兩端分別通過入室導(dǎo)軌和出室導(dǎo)軌與第一輸送帶和第二輸送帶連接，第一導(dǎo)軌、第二導(dǎo)軌、第一輸送帶和第二輸送帶形成長方形結(jié)構(gòu)；預(yù)熱室、等離子氣相沉積室、冷卻室和清洗室分別外接有抽真空機(jī)構(gòu)；相鄰兩個真空室之間設(shè)有真空鎖。本自動循環(huán)等離子氣相沉積系統(tǒng)是針對大面積工件的表面處理而提出的，克服了傳統(tǒng)工藝只能應(yīng)用于表面積較小的工件的缺陷，其應(yīng)用范圍廣，使用也方便。
文檔編號C03C17/00GK102560426SQ20121003596
公開日2012年7月11日 申請日期2012年2月16日 優(yōu)先權(quán)日2012年2月16日
發(fā)明者朱剛勁, 朱剛毅, 朱文廓 申請人:肇慶市騰勝真空技術(shù)工程有限公司