專利名稱：基板供給裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于將基板供給至加工基板的裝置及將其從中排出的基板供給
>J-U ρ α裝直。
背景技術(shù)：
在平板顯示面板的制造等中，具有使用金屬型涂料機對玻璃基板進行涂覆的工序。為了在基板上形成厚度均勻的涂膜，需要將基板準(zhǔn)確地定位保持并使模頭移動，以將基·板與模頭的間隙保持均勻。因此，如日本專利特開2002 - 200450號公報所公開的那樣，一般使用在對基板進行保持的平臺上固定有用于使模頭移動的導(dǎo)軌的裝置。此外，為了在這種平臺上配置及排出(更換)基板，例如，如日本專利特開平5 —45641號公報所公開的那樣，設(shè)置有利用從平臺突出的銷來將基板舉起，并將機器人的臂部伸入來將基板取出的結(jié)構(gòu)。但是，若為了縮短涂覆周期，而在涂布了涂料之后立即用銷將基板舉起，則由于基板撓曲，而使涂料在流動至凹陷部分的狀態(tài)下干燥，因此，會使膜厚變得不均勻。因此，由于縮短基板的涂覆周期會犧牲膜厚的均勻性，因此，無法提高制造能力。在日本專利特開2002 - 102771號公報中，公開了一種在很大的平臺上設(shè)置兩個載置基板的工位，并將金屬涂料機配置成能在兩個工位上移動的裝置。在這種裝置中，只要在一方的工位上涂覆基板時，更換另一方的工位的基板即可，因此，處理能力高。但是，需要有分別對兩個工位更換基板的機器人，因而存在裝置大型化而使造價變高這樣的問題。此夕卜，由于模頭的移動量很大，因此，也容易產(chǎn)生誤差。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問題，本發(fā)明的技術(shù)問題在于提供一種能在短時間內(nèi)更換基板的基板供
給裝置。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的基板供給裝置包括多個臂部，這些臂部設(shè)置成能一體地旋轉(zhuǎn)及升降，且繞轉(zhuǎn)軸對稱地設(shè)置；多個小平臺，這些小平臺分別被支承成與上述臂部之間存在游隙，且上述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺，該主平臺利用上述臂部的旋轉(zhuǎn)及升降來載置上述小平臺，且包括在上述游隙的范圍內(nèi)對上述小平臺進行定位并保持的平臺保持機構(gòu)。通過上述結(jié)構(gòu)，由于能在保持于小平臺的狀態(tài)下將基板供給至涂覆裝置或加工裝置及將基板從上述裝置中排出，因此，在涂覆(加工)之后，能在不撓曲的情況下將基板排出，并供給下一塊基板。因此，能在不縮短涂覆(加工)后至將基板舉起前的時間的情況下，縮短涂覆周期。此外，通過在小平臺與臂部之間設(shè)置游隙，從而能對小平臺在主平臺上的位置及姿勢進行微調(diào)，并能準(zhǔn)確地確定涂覆或加工時基板的位置及姿勢。此外，本發(fā)明的基板供給裝置只要一臺處理基板的機器人即可，也不需要增大涂覆裝置或加工裝置的可動范圍，因此，能廉價地提供。此外，在本發(fā)明的基板供給裝置中，上述小平臺內(nèi)置有在表面上突出以將上述基板舉起的支承銷，上述基板供給裝置還包括驅(qū)動機構(gòu)，在上述臂部中的一個將上述小平臺保持在上述主平臺上時，該驅(qū)動機構(gòu)配置在其它上述臂部所支承的上述小平臺的下側(cè)，上述驅(qū)動機構(gòu)具有將上述支承銷頂起的驅(qū)動銷，上述驅(qū)動銷與上述支承銷構(gòu)成為通過磁力相互吸引。通過上述結(jié)構(gòu)，由于能通過磁力與驅(qū)動銷的后退對應(yīng)地使支承銷可靠地后退，因此，在小平臺內(nèi)部不需要配置對支承銷施力的構(gòu)件，從而結(jié)構(gòu)簡單，小平臺的厚度也不會變大。此外，在本發(fā)明的基板供給裝置中，上述平臺保持機構(gòu)也可以具有通過空氣壓對上述小平臺進行支承的氣墊。通過上述結(jié)構(gòu)，由于對小平臺的重量進行支承的部分是非接觸的，因此，能防止因磨損而使對基板進行保持的高度發(fā)生變化。
此外，在本發(fā)明的基板供給裝置中，上述主平臺也可以對加工上述基板的裝置進行支承。通過上述結(jié)構(gòu)，由于主平臺與加工裝置間的位置關(guān)系不會變化，因此，通過將基板定位在小平臺上，并將小平臺定位在主平臺上，從而可保持基板與加工裝置間的位置關(guān)系。如上所述，通過臂部的旋轉(zhuǎn)(回旋)來將多個小平臺配置在主平臺上，因此，能同時進行基板朝小平臺的配置和對基板的加工。此外，通過在小平臺與臂部之間設(shè)置游隙，能在主平臺上對小平臺進行微調(diào)，因此，在加工時能高精度地對基板進行保持。


圖1是包括本發(fā)明一實施方式的基板供給裝置的基板涂覆裝置的立體圖。圖2是圖1的基板涂覆裝置的側(cè)視圖。圖3是圖1的基板涂覆裝置的局部放大剖視圖。(符號說明)I基板供給裝置2旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部3 轉(zhuǎn)臺4 臂5玻璃基板6小平臺7主平臺8銷驅(qū)動機構(gòu)9定位裝置10 氣缸11 槽12 氣墊13 模頭14行進框架15 導(dǎo)軌
16支承銷17導(dǎo)向筒18 滑塊19磁性金屬片20 汽缸 21 框架22驅(qū)動銷23永磁體24機械手
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進行說明。在圖1及圖2中，示出了包括本發(fā)明一實施方式的基板供給裝置I的基板涂覆裝置?；骞┙o裝置I包括:轉(zhuǎn)臺3，該轉(zhuǎn)臺3能通過旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部2而繞垂直的軸旋轉(zhuǎn)且被支承成能垂直升降；兩對臂部4，這些臂部4設(shè)置成兩根一對，并從轉(zhuǎn)臺3朝徑向外側(cè)延伸；兩個小平臺6，這兩個小平臺6分別被支承在各對臂部4上，并能通過吸附對玻璃基板5進行保持；主平臺7，該主平臺7能對一方的小平臺6進行保持；以及銷驅(qū)動機構(gòu)8，該銷驅(qū)動機構(gòu)8用于將玻璃基板5從另一方的小平臺6上舉起。臂部4的對以繞旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部2的轉(zhuǎn)軸彼此對稱的方式、也就是說以180°的角度配置。主平臺7和銷驅(qū)動機構(gòu)8配置在繞旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部的軸對稱的位置上，在一方的小平臺6保持在主平臺7上時，銷驅(qū)動機構(gòu)8便位于另一方的小平臺6的正下方。主平臺7及銷驅(qū)動機構(gòu)8分別具有多個定位裝置9，這些定位裝置9與小平臺6的側(cè)邊抵接，以對小平臺6的水平位置及方向進行確定。定位裝置9均是能對其與小平臺6抵接的抵接位置進行調(diào)節(jié)的致動器，其與設(shè)于主平臺7、銷驅(qū)動機構(gòu)8及轉(zhuǎn)臺3的氣缸10協(xié)動地，在其與臂部4的游隙范圍內(nèi)確定小平臺6的水平位置及方向(平臺保持機構(gòu))。小平臺6在底面具有可收納臂部4的槽11，但槽11的寬度比臂部4的寬度大，且以具有游隙的方式被支承。因此，小平臺6在臂部4上能在該游隙的范圍內(nèi)水平移動及水平旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)驅(qū)動部2在使轉(zhuǎn)臺3及臂部4上升到旋轉(zhuǎn)時沒有障礙物的高度(圖2的雙點劃線所示的位置)的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)180°，并在將小平臺6配置在主平臺7的上方之后，使轉(zhuǎn)臺3及臂部4下降，來將小平臺6載置在主平臺7上，臂部4進一步下降至與槽11之間產(chǎn)生間隙的位置處。主平臺7具有利用空氣壓以非接觸狀態(tài)來對小平臺6進行支承的氣墊12。氣墊12被保持成能分別通過調(diào)節(jié)空氣壓來調(diào)節(jié)高度，并被調(diào)節(jié)成小平臺6的上表面在規(guī)定高度上呈水平，小平臺6處于僅靠氣墊12的空氣壓就能得以保持的狀態(tài)。氣墊12及定位裝置9能根據(jù)小平臺6設(shè)定不同的保持位置。藉此，即便在各小平臺6上存在微小傾斜或形狀不同，也能將吸附于小平臺6的玻璃基板5相對于主平臺7保持在恒定的位置及方向上。此外，在本實施方式中，由于只是利用氣墊12通過空氣壓以非接觸的方式承接小平臺6的重量，因此，小平臺6及氣墊12不會受到磨損，只要根據(jù)小平臺6來設(shè)定一次氣墊12的高度，則能每次都將玻璃基板5準(zhǔn)確地保持在相同位置上。此外，也可以用非常小的力來瞬間通過定位裝置9及氣缸10進行定位。主平臺7具有對門型的行進框架14進行引導(dǎo)的導(dǎo)軌15，在該門型的行進框架14上保持有對玻璃基板5進行涂覆的模頭13。也就是說，主平臺7對通過使模頭13移動來涂覆玻璃基板5的加工裝置進行支承，并使模頭13相對于主平臺7嚴(yán)格地平行移動。因此，模頭13能對正確地定位保持在主平臺7上的玻璃基板5形成均勻膜厚的涂膜。
此外，圖3表示小平臺6的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。小平臺6被銷驅(qū)動機構(gòu)8驅(qū)動，其內(nèi)置有將玻璃基板5從小平臺6上舉起的支承銷16。支承銷16突出設(shè)置于可在埋入小平臺6的導(dǎo)向筒17內(nèi)滑動的滑塊18上?；瑝K18在下側(cè)安裝有磁性金屬片19。銷驅(qū)動機構(gòu)8具有突出設(shè)置在由汽缸20保持成能升降的框架21上的驅(qū)動銷22，在驅(qū)動銷22的前端安裝有對磁性金屬片19進行吸附的永磁體23。通過使銷驅(qū)動機構(gòu)8的框架21上升，來利用驅(qū)動銷22將對支承銷16進行支承的滑塊18頂起，從而將玻璃基板5從小平臺6上舉起。此外，如圖1所示，將機械手24插入玻璃基板5的下側(cè)，并從小平臺6上取下玻璃基板5。此外，機械手24將新的玻璃基板5載置在支承銷16上。在拔出機械手24之后，通過銷驅(qū)動機構(gòu)8使驅(qū)動銷22下降，將支承銷16收容在小平臺6的內(nèi)部，玻璃基板5被載置在小平臺6上。此時，通過利用圖像處理技術(shù)及內(nèi)置于小平臺6的定位機構(gòu)(未圖示)等來準(zhǔn)確地控制機械手24載置玻璃基板5的位置，從而能使玻璃基板5準(zhǔn)確地定位并吸附保持在小平臺6上。由于玻璃基板5與小平臺6的相對位置每次都相同，因此在主平臺7上，只要對小平臺6進行定位，就可使主平臺7與玻璃基板5的相對位置也每次相同。這樣，在本實施方式中，將對通過模頭13進行涂覆前的玻璃基板5進行保持的小平臺6供給至用于對玻璃基板5進行涂覆的主平臺7上，并將對涂覆后的玻璃基板5進行保持的小平臺6從主平臺7上搬出。形成有涂膜的玻璃基板5在被小平臺6保持的狀態(tài)下，因臂部4旋轉(zhuǎn)180°而移動至銷驅(qū)動機構(gòu)8上方，之后為了與新的玻璃基板5進行交換，通過支承銷16將其從小平臺6上舉起。也就是說，涂覆后的玻璃基板5在臂部4旋轉(zhuǎn)的過程中處于被小平臺6保持的狀態(tài)，在涂覆了涂料之后，就不會將玻璃基板5舉起。因此，涂料在玻璃基板5保持于小平臺6的平坦的狀態(tài)下干燥。然后，即便玻璃基板5被銷驅(qū)動機構(gòu)8舉起而出現(xiàn)撓曲，由于涂料已經(jīng)干燥，因此，不會出現(xiàn)涂料流動至凹陷部分而使膜厚不均勻的情況。因此，不僅可增長從形成玻璃基板5的涂膜至被支承銷16舉起為止的時間，而且能增加被涂覆的玻璃基板5的塊數(shù)。因此，在本發(fā)明中，由于是在與臂部4的游隙中將小平臺6定位，因此臂部4不會與小平臺6完全分開，因此，不需要用于將臂部4相對于小平臺6定位或是確保臂部4對小平臺6的保持的特別機構(gòu)。此外，在本實施方式中，由于構(gòu)成為利用驅(qū)動銷22將保持在小平臺6的厚度中的支承銷16頂起，因此，也可以使銷驅(qū)動機構(gòu)8的汽缸20的行程比小平臺6的厚度小，從而能縮短驅(qū)動銷22升降所需的時間，并能增加產(chǎn)量。
此外，由于驅(qū)動銷22的永磁體23吸附在與支承銷16 —體移動的磁性金屬片19上，因此，驅(qū)動銷22的下降除了重力之外，還作用有將支承銷16拉入小平臺6中的力。藉此，即便沒有設(shè)置將支承銷16朝收容方向施力的彈簧等，也能可靠地實現(xiàn)支承銷16的收容。因此，對支承銷16進行保持的結(jié)構(gòu)簡單，且可使小平臺6薄型化?！?br> 權(quán)利要求
1.一種基板供給裝置，其特征在于，包括多個臂部，這些臂部設(shè)置成能一體地旋轉(zhuǎn)及升降，且繞轉(zhuǎn)軸對稱地設(shè)置；多個小平臺，這些小平臺分別被支承成與所述臂部之間存在游隙，且所述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺，該主平臺利用所述臂部的旋轉(zhuǎn)及升降來載置所述小平臺，且包括在所述游隙的范圍內(nèi)對所述小平臺進行定位并保持的平臺保持機構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的基板供給裝置，其特征在于，所述小平臺內(nèi)置有在表面上突出以將所述基板舉起的支承銷，所述基板供給裝置還包括驅(qū)動機構(gòu)，在所述臂部中的一個將所述小平臺保持在所述主平臺上時，該驅(qū)動機構(gòu)配置在其它所述臂部所支承的所述小平臺的下側(cè)，所述驅(qū)動機構(gòu)具有將所述支承銷頂起的驅(qū)動銷，所述驅(qū)動銷與所述支承銷構(gòu)成為通過磁力相互吸引。
3.如權(quán)利要求1所述的基板供給裝置，其特征在于，所述平臺保持機構(gòu)具有通過空氣壓對所述小平臺進行支承的氣墊。
4.如權(quán)利要求1所述的基板供給裝置，其特征在于，所述主平臺對加工所述基板的裝置進行支承。
全文摘要
一種基板供給裝置(1)，能在短時間內(nèi)更換基板，其包括多個臂部(4)，這些臂部(4)設(shè)置成能一體地旋轉(zhuǎn)及升降，且繞轉(zhuǎn)軸對稱地設(shè)置；多個小平臺(6)，這些小平臺(6)分別被支承成與臂部(4)之間存在游隙，且所述小平臺能對基板進行保持；以及主平臺(7)，該主平臺(7)利用臂部(4)的旋轉(zhuǎn)及升降來載置小平臺(6)，且包括在游隙的范圍內(nèi)對小平臺(6)進行定位并保持的平臺保持機構(gòu)(9、10)。
文檔編號C03C17/00GK102992642SQ20121032783
公開日2013年3月27日 申請日期2012年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月9日
發(fā)明者西尾勤, 魏志丹, 橫山雅樹 申請人:中外爐工業(yè)株式會社