專利名稱：琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料及其釉漿制備方法和應(yīng)用的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料及其釉漿制備方法和應(yīng)用，屬于陶瓷材料技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前，有著悠久歷史，被稱為“彩瓷皇后”、“官窯中的官窯”的琺瑯彩瓷，源于時(shí)尚浪漫王國(guó)法蘭西，源于藝術(shù)世家羅丹家族，是康熙朝皇宮中一種獨(dú)特的彩瓷工藝。它是受歐洲進(jìn)口的銅胎畫琺瑯影響而新創(chuàng)的一種瓷器釉上彩裝飾技法，是由景泰藍(lán)演變而來，景泰藍(lán)是在銅胎上琺瑯釉而成，而琺瑯彩瓷是在瓷胎上琺瑯釉然后燒制而成，所以琺瑯彩瓷又稱“瓷胎畫琺瑯”，雖然琺瑯彩有著瓷質(zhì)細(xì)膩、彩料凝重、色澤鮮艷靚麗、畫工精致等特點(diǎn)，是藝術(shù)陶瓷中最高制作水平的精品，但目前技術(shù)制作發(fā)光琺瑯彩瓷工藝品，具有一定的難度；發(fā)光材料在高溫時(shí)具有的不穩(wěn)定性也即發(fā)光材料在陶瓷釉料使用中的氧化、分解及與釉料成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)等而使其失去發(fā)光性能。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，它既能保證發(fā)光材料的熱穩(wěn)定性和發(fā)光特性從而提高制成的彩瓷經(jīng)光照后的發(fā)光亮度和發(fā)光時(shí)間，又能保持傳統(tǒng)的琺瑯彩瓷的各種特征。本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得，其特征 在于，所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英20% 40%，鋰云母10% 20%，長(zhǎng)石5% 10%，滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸鍶3% 10%，氧化鋅1% 3%，硅酸鋯0 3%，氧化鈰O. 1% 3%，三氧化二鋁O. 5% 3%，螢石(Γ5%;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下=SiO2 :42% 48%，SrO 3% 7% ,B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1. 2%, Li2O :3% 7%，Na20 :2% 7%，K20 :1% 3%，金屬氟化物
0.6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%, Nb2O5 0 1%，ZrO2 :0 O. 5%, CeO2 0 3%,La2O3 0 O. 5%，Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，MgO :0 0. 5% ;所述的發(fā)光材料為堿土金屬鋁酸鹽或堿土金屬硫化物。進(jìn)一步，所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英28% 35%，鋰云母15% 18%，長(zhǎng)石6% 8%，滑石2. 2% 2. 5%,硼砂15% 21%，硼酸8% 10%，碳酸鍶5% 8%，氧化鋅
1.8% 2. 2%,硅酸鋯O. 5 1. 5%,氧化鈰O. 8% 2. 6%,三氧化二鋁1. 5% 2%，螢石2. 5 4% ;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下=SiO2 :43% 46%，SrO 3. 6 6. 2%,B2O3 :16% 20%，Al2O3 0. 4% O. 8%, Li2O :4% 6%，Na20 :3% 5%，K20 :2% 3%，金屬氟化物0. 9%~ 2. 8%,P2O5 2%~ 3%,Ta2O3 0. 2% 0· 5%,Nb2O5 0. 6% 1%,ZrO2 O. 2% 0· 5%,CeO2 1. 2% 2. 2%, La2O3 0. 2% 0· 5%, Y2O3 0. 6% 1. 5%, ZnO 6%"9% ,MgO 0. 3% O. 5%。進(jìn)一步，所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料的重量份比為1:1 4 ;發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料按照重量比為2I 5的比例混合后高溫復(fù)燒制得，其中，復(fù)燒溫度為700° (Γ900。C，高溫保溫時(shí)間30 150分鐘。進(jìn)一步，所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料的重量份比例為1: 2
3;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料的重量比例為2 2 3。進(jìn)一步，所述的金屬氟化物為L(zhǎng)iF、SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF中的一種或多種。進(jìn)一步，所述的發(fā)光材料為SrAl206、CaAl206、BaAl206、ZnS、CaS、CdS中的一種或多種。進(jìn)一步，在100%的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料中還加入O. 5°/Γ4%的添加劑，所述的添加劑為氣相二氧化硅或超細(xì)沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶膠。添加劑的作用是對(duì)琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料釉漿進(jìn)行改性，起到釉漿分散劑、穩(wěn)定劑和觸變劑的作用。本發(fā)明還提供了一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝，該工藝的步驟如下A :琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的制備(I)取325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩過篩的石英20% 40%，鋰云母10% 20%，長(zhǎng)石5% 10%，滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸鍶3% 10%，氧化鋅1% 3%，硅酸鋯0 3%，氧化鈰O. 1% 3%，三氧化二鋁O. 5% 3%，螢石0 5% ；(2)將上述原料按配方配料混合均勻后，在1250° (Tl380° C熔化，放入冷水中水淬制成琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊；(3)將琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加水和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(Tl00° C烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料；其中，水、高鋁球、琺瑯彩瓷基 礎(chǔ)釉料熔塊的重量比為O. 35 I 1，細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;B :發(fā)光材料保護(hù)釉料的制備(I)發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的制備取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的各物料使其釉料的成分組成為=SiO2 :42% 48%，SrO :3% 7%，B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1· 2%, Li2O 3% 7%，Na2O :2% 7%，K2O :1% 3%，金屬氟化物0. 6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%,Nb2O5 0 1%，ZrO2 0 O. 5%, CeO2 0 3%, La2O3 0 O. 5%, Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，Mg0 (TO. 5% ;將上述原料混合均勻后，再在1220°C 1360°C高溫熔化，經(jīng)冷水水淬，烘干后制成發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊；將發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑；其中，酒精、高鋁球和發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊的重量比為O. 30 I I;細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03% ；(2)將發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑粉末和發(fā)光材料粉末按照重量比為2 2 3比例混合均勻后，裝入小匣缽里送入推板窯或輥道窯中，在700° (Γ900。C溫度下高溫復(fù)燒30 150分鐘，將復(fù)燒的物料粗碎后裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(T100° C烘干，并制成粉末，過160目 200目的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料；球磨過程中，酒精、高鋁球和復(fù)燒過的物料的重量比為O. 30 I I ；C :琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料粉末按照重量比為1: 2 3的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物，將干粉混合物與水按照重量比為1: 2. 2 2. 6的比例混合，再添加比例為干粉混合物重量O. 59Γ4%的添加劑一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合攪勻，得到琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿。進(jìn)一步，所述的金屬氟化物為L(zhǎng)iF、SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF中的一種或多種。進(jìn)一步，所述的發(fā)光材料為SrAl206、CaAl206、BaAl206、ZnS、CaS、CdS中的一種或多種。更進(jìn)一步，所述的添加劑為氣相二氧化硅或超細(xì)沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶膠。本發(fā)明還提供了一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的應(yīng)用，該琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料應(yīng)用于陶瓷的琺瑯彩繪。進(jìn)一步，所述的陶瓷為硬質(zhì)瓷或軟質(zhì)瓷或炻瓷或精陶，例如各種白云瓷或白云土瓷或各種骨瓷或新骨瓷或仿骨瓷或各種炻瓷或精陶；所述的琺瑯彩繪為760° 850° C的釉上彩繪或者900° 1050° C的釉中彩繪。采用了上述技術(shù)方案后，本發(fā)明的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料中引入了磷化合物和鈰、鑭、釔、鋯等氧化物替代螢石以及添加p205、ZnO、Ta2O3和Nb2O3等組分化合物部分代替PbO、Na2O和K2O等組分，從而降低高溫 彩瓷過程中CaF、PbO、Na2O和K2O等組分對(duì)發(fā)光材料性能的侵害，解決發(fā)光材料在陶瓷釉料中的熱穩(wěn)定性難題，既保護(hù)了發(fā)光材料的高溫烤燒后的發(fā)光性能又保證了傳統(tǒng)的琺瑯彩瓷釉料的乳濁性能、熔融性能、耐酸堿性能、彩瓷烤燒附著
力和釉表面光亮度；通過雙熔塊法即分別制備出兩種釉料-琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光
材料保護(hù)釉料來防止琺瑯彩瓷高溫?zé)茣r(shí)發(fā)光材料分解、氧化或與釉料中其他成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，提高琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的高溫下的黏度，保證琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料中的發(fā)光材料不會(huì)失去發(fā)光性能，從而提高琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的使用范圍、應(yīng)用溫度和發(fā)光效率，最終有效解決發(fā)光材料在琺瑯彩瓷應(yīng)用時(shí)的高溫穩(wěn)定性難題；在各種釉燒后的陶瓷上繪制琺瑯彩瓷發(fā)光釉料，然后經(jīng)760°C 1050°C高溫烤燒燒成，經(jīng)過高溫烤燒琺瑯彩瓷發(fā)光釉料的圖案被牢固的固定在高溫瓷釉的表面上，其發(fā)光效果和琺瑯彩瓷的各種特性理想的呈現(xiàn)出來，既有理想的發(fā)光明亮度和穩(wěn)定而持續(xù)的發(fā)光又保持了傳統(tǒng)琺瑯彩瓷的各種特征，經(jīng)光照后可持續(xù)發(fā)光十小時(shí)以上；通過本發(fā)明所述的工藝制造的釉漿燒制的琺瑯彩瓷產(chǎn)品，具有發(fā)光明亮，穩(wěn)定，持續(xù)時(shí)間長(zhǎng)，發(fā)光特性可長(zhǎng)久保留等特點(diǎn)，同時(shí)琺瑯彩瓷發(fā)光釉料具有合適的釉料高溫粘度、熱膨脹系數(shù)、折光指數(shù)、釉乳濁特性，能夠與高溫?zé)珊蟮奶沾捎粤媳砻胬喂痰慕Y(jié)合在一起，不開裂、不桔釉、不脫落、光澤明亮。既有理想的發(fā)光明亮度和穩(wěn)定而持續(xù)的發(fā)光又保持了傳統(tǒng)琺瑯彩瓷的各種特征，經(jīng)光照后可持續(xù)發(fā)光十小時(shí)以上；采用本發(fā)明制作的琺瑯彩瓷發(fā)光釉料生產(chǎn)的琺瑯彩瓷的浮雕感強(qiáng)，釉面結(jié)合牢固，耐磨性良好，發(fā)光性能可以保留十年甚至百年以上。
具體實(shí)施例方式為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，實(shí)施例一一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得；琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英28%，鋰云母18%，長(zhǎng)石7. 5%，滑石2. 5%，硼砂19%，硼酸8. 5%，碳酸鍶7%，氧化鋅2%，硅酸鋯1. 5%，氧化鈰2. 2%，三氧化二鋁O. 8%，螢石3% ;發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑各成分組成(重量百分比Wt%)為=SiO2 :46%，SrO 3. 8%, B2O3 :20%，Al2O3 0. 5%, Li2O 6. 2%, Na2O 3. 9%, K2O 2. 5%,金屬氟化物2. 2%, P2O5 2. 5%, Nb2O5 0. 4%, ZrO2 0. 3%, CeO2 2. 2%, Y2O3 0. 8%, ZnO 8. 5%, MgO 0. 2% ；發(fā)光材料為50%ZnS 和 50%CdS ；金屬氟化物可以為L(zhǎng)iF、SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF中的一種或多種混合物?，m瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備A :琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的制備(I)取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的上述各組份；(2)將上述原料混合均勻后，再1300° (Γ1350。C熔化，放入冷水中水淬制成琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊；(3)將琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加水和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(Tl00° C烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料；其中，水、高鋁球、琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊的重量比為O. 35 I 1，細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;B :發(fā)光材料保護(hù)釉料的制備(I)發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的制備取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩過篩的上述發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的各組份的原料；將上述原料混合均勻后，在1280°C 1320°C高溫熔化，經(jīng)冷水水淬，烘干后制成發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊；將發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑；其中，酒精、高鋁球和發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊的重量比為O. 30 I I ;細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03% ；(2)將發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料(硫化鋅以及硫化鎘)按照重量比為2 2比例混合均勻后，裝入小匣缽里在760° (Γ790。C溫度下送入推板窯或輥道窯中復(fù)燒I小時(shí)左右，將復(fù)燒的物料粗碎后裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(T100° C烘干，并制成粉末，過200目網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料；其中，酒精、高鋁球和復(fù)燒過的物料的重量比為O. 30 I I ；C :琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的制備將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料粉末按照重量比為1: 2的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物，將干粉混合物與水按照重量比為1: 2. 4的比例混合，再添加比例為干粉混合物2%的超細(xì)沉淀二氧化硅一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合攪勻制得分散良好而穩(wěn)定的釉衆(zhòng)。經(jīng)過Α、B、C三個(gè)工藝過程所制得的釉漿即可應(yīng)用于陶瓷表面琺瑯彩繪裝飾中，可以應(yīng)用于760° 850° C的琺瑯彩瓷釉上彩繪。實(shí)施例二一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得，琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英29%，鋰云母17%，長(zhǎng)石8. 5%，滑石2. 0%，硼砂18%，硼酸9. 4%，碳酸鍶7. 5%，氧化鋅2%，硅酸鋯1. 3%，氧化鈰2. 5%，三氧化二鋁O. 6%，螢石2. 2% ;發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下=SiO2 :43%，SrO 6. 3%, B2O3 18. 8%, Al2O3 1. 2%, Li2O 5. 7%, Na2O 4. 3%, K2O 1. 2%, SrF2 1. 5%, P2O5 3. 5%,Ta2O3 0. 5%, Nb2O5 1%, ZrO2 0. 5%, CeO2 2%, La2O3 0. 5%, Y2O3 :1%，ZnO 8. 5%, MgO 0. 5% ；發(fā)光材料可以為SrAl2O6?，m瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝如下A :琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的制備(I)取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的上述各組份；(2)將上述原料混合均勻后，再1280° (Γ1350。C熔化，放入冷水中水淬制成琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊；(3)將琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加水和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(Tl00° C烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料；其中，水、高鋁球、琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊的重量比為O. 35 I 1，細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;B :發(fā)光材料保護(hù)釉料的制備(I)發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的制備取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的上述發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的各組份；將上述原料混合均勻后，在1260°C 1300°C高溫熔化，經(jīng)冷水水淬，烘干后制成發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊；將發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑；其中，酒精、高鋁球和發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊的重量比為0.30 I I ；

(2)將發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料按照重量比為2 2或2:3比例混合均勻后，裝入小匣缽里分別在780° (Γ820。C或850° (Γ900。C溫度下送入推板窯或輥道窯中復(fù)燒2小時(shí)，分別得到A復(fù)燒料或B復(fù)燒料，將A復(fù)燒料或B復(fù)燒料粗碎后裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后8(T100° C烘干，并制成粉末，過180目網(wǎng)篩分別得到發(fā)光材料保護(hù)釉料A或發(fā)光材料保護(hù)釉料B ;其中，酒精、高鋁球和復(fù)燒過的物料的重量比為O. 30 :1 :1 ;C :法瑯彩瓷用發(fā)光釉料的制備將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料A按照重量比為1: 2的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物Α，將干粉混合物A與水按照重量比為1: 2. 4的比例混合，再添加比例為干粉混合物A的O. 5%的氣相二氧化硅作為添加劑一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合，攪勻制得分散好而且穩(wěn)定的琺瑯彩瓷用釉漿Α。同樣的方法將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料B按照重量比為1: 3的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物B，將干粉混合物B與水按照重量比為1: 2. 5的比例混合，再添加比例為干粉混合物B的1. 5%的氣相二氧化硅作為添加劑一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合攪勻制得分散好而且穩(wěn)定的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉漿B。經(jīng)過Α、B、C三個(gè)工藝過程所制得的釉漿即可應(yīng)用于陶瓷表面琺瑯彩繪裝飾中，陶瓷為硬質(zhì)瓷或軟質(zhì)瓷或炻瓷或精陶，例如各種白云瓷或白云土瓷或各種骨瓷或新骨瓷或仿骨瓷或各種炻瓷或精陶；琺瑯彩瓷發(fā)光釉料A可用于琺瑯彩瓷760° 850° C的釉上彩繪；琺瑯彩瓷發(fā)光釉料B可用于琺瑯彩瓷900° 1050° C的釉中彩繪。實(shí)施例三
一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得，琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英25%，鋰云母19%，長(zhǎng)石8. 5%，滑石3. 0%，硼砂18%，硼酸9. 4%，碳酸鍶5. 5%，氧化鋅3%，硅酸鋯1. 3%，氧化鈰2. 5%，三氧化二鋁O. 6%，螢石3. 2% ；發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下=SiO2 44. 9%，SrO -.4.1%,B2O3 17. 7%, Al2O3 0. 5%, Li2O 4. 1%，Na2O 5. 7%, K2O 2. 6%, SrF2 1. 1%，LiF 2. 7%, P2O5
2.6%, Ta2O3 0. 5%, Nb2O5 0. 5%, ZrO2 0. 5%, CeO2 2. 0%, La2O3 0. 5%, Y2O3 0. 5%, ZnO 9. 0%,MgO 0. 5% ；發(fā)光材料為SrAl2O6 70% 和 CdS :30%?，m瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝如下A :琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的制備(I)取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的上述各組份；(2)將上述原料混合均勻后，再1280° (Tl350° C熔化，放入冷水中水淬制成琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊；(3)將琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加水和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(Tl00° C烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料；其中，水、高鋁球、琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊的重量比為O. 35 I 1，細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;
B :發(fā)光材料保護(hù)釉料的制備(I)發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的制備取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的上述發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的各組份；將上述原料混合均勻后，再1250°C 1300°C高溫熔化，經(jīng)冷水水淬，烘干后制成發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊；將發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑；其中，酒精、高鋁球和發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊的重量比為0.30 I I ；(2)將發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料按照重量比為2 3比例混合均勻后，裝入小匣缽里在800° (Γ850。C溫度下送入推板窯或輥道窯中復(fù)燒1. 5小時(shí)左右，將復(fù)燒的物料粗碎后裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(T100° C烘干，并制成粉末，過200目網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料；其中，酒精、高鋁球和復(fù)燒過的物料的重量比為 O. 30 :1 :1 ;C :琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的制備將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料粉末按照重量比為2 5的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物，將干粉混合物與水按照重量比為1: 2. 5的比例混合，再添加比例為干粉混合物的1. 2%的添加劑一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合攪勻制得使得釉漿。添加劑可以為氣相二氧化硅或超細(xì)沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶膠。經(jīng)過Α、B、C三個(gè)工藝過程所制得的釉漿即可應(yīng)用于陶瓷表面琺瑯彩繪裝飾中，陶瓷為硬質(zhì)瓷或軟質(zhì)瓷或炻瓷或精陶，例如各種白云瓷或白云土瓷或各種骨瓷或新骨瓷或仿骨瓷或各種炻瓷或精陶；本實(shí)施例制得的琺瑯彩瓷發(fā)光釉料可用于琺瑯彩瓷900° 1050° C的釉中彩繪。
經(jīng)過檢測(cè)，上述三個(gè)實(shí)施例制備的琺瑯彩繪陶瓷經(jīng)過一次光照后，不但其發(fā)光明亮而且其發(fā)光時(shí)間可以達(dá)到十幾小時(shí)以上。以上所述的具體實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍 之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得，其特征在于，所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英20% 40%，鋰云母10% 20%，長(zhǎng)石5% 10%， 滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸鍶3% 10%，氧化鋅1% 3%，硅酸鋯0 3%，氧化鈰O. 1% 3%，三氧化二鋁O. 5% 3%，螢石(Γ5% ;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下Si02 :42% 48%，SrO :3% 7%，B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1. 2%, Li2O :3% 7%， Na2O :2% 7%，K20 :1% 3%，金屬氟化物0. 6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%, Nb2O5 0 1%，ZrO2 0 O. 5%, CeO2 0 3%, La2O3 0 O. 5%, Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，MgO :0 0· 5% ； 所述的發(fā)光材料為堿土金屬鋁酸鹽或堿土金屬硫化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的組份和重量百分比如下石英28% 35%，鋰云母15% 18%，長(zhǎng)石6% 8%，滑石2. 2% 2. 5%， 硼砂15% 21%，硼酸8% 10%，碳酸鍶5% 8%，氧化鋅1. 8% 2. 2%，硅酸鋯O. 5% 1· 5%，氧化鈰 O. 89Γ2. 6%，三氧化二鋁1. 5°/Γ2%，螢石2. 5 4% ;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下=SiO2 :43% 46%, SrO 3. 6% 6. 2%，B2O3 :16% 20%, Al2O3 0. 4%~ O. 8%, Li2O :4% 6%，Na20 3%~ 5%, K2O 2%~ 3%，金屬氟化物:0· 9% 2. 8%, P2O5 2%~ 3%, Ta2O3 0. 2% 0. 5%, Nb2O5 0. 6% 1%，ZrO2 O. 2% 0. 5%, CeO2 1. 2% 2. 2%, La2O3 O. 2% 0. 5%, Y2O3 0. 6% 1. 5%, ZnO 6% 9%，MgO 0. 3% O. 5%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料的重量份比為1:1 4;發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料按照重量比為2 I 5的比例混合后高溫復(fù)燒制得，其中，復(fù)燒溫度為700° C 900° C，高溫保溫時(shí)間30 150分鐘。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于所述的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料的重量比例為1: 2 3 ;所述的發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料的重量比例為2 2^3ο
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于所述的金屬氟化物為 LiF, SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF 中的一種或多種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于所述的發(fā)光材料為 SrAl2O6, CaAl2O6' BaAl2O6' ZnS, CaS, CdS 中的一種或多種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料，其特征在于在100%的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料中還加入O. 59Γ4%的添加劑，所述的添加劑為氣相二氧化硅或超細(xì)沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶膠。
8.—種如權(quán)利要求1所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝，其特征在于該工藝的步驟如下A :琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料的制備(1)取325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩過篩的石英20% 40%，鋰云母10% 20%，長(zhǎng)石5% 10%，滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸鍶3% 10%，氧化鋅1% 3%，硅酸鋯0 3%，氧化鈰O.1% 3%，三氧化二鋁O. 5% 3%，螢石0 5% ；(2)將上述原料按配方配料混合均勻后，在1250°(Γ1380。C熔化，放入冷水中水淬制成琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊；(3)將琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加水和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng) 8(Tl00° C烘干，并制成粉末，過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料；其中，水、高鋁球、琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料熔塊的重量比為O. 35 I 1，細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;B :發(fā)光材料保護(hù)軸料的制備(O發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的制備取過325目或者更細(xì)的網(wǎng)篩的SiO2 :42°/Γ48%， SrO 3%"7%, B2O3 :15% 21%，Al2O3 :0. 2% 1. 2%, Li2O :3% 7%，Na2O :2% 7%，K2O :1% 3%，金屬氟化物0. 6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%, Nb2O5 0 1%，ZrO2 :0 O. 5%, CeO2 O 3%, La2O3 0 O. 5%, Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，MgO :0 0· 5% ;將上述原料混合均勻后，再在1220°C 1360°C高溫熔化，經(jīng)冷水水淬，烘干后制成發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊；將發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)烘干，并制成粉末， 過250目或更細(xì)的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑；其中，酒精、高鋁球和發(fā)光材料保護(hù)釉料熔塊的重量比為O. 30 I I ;細(xì)度控制在萬(wàn)孔篩余小于O. 03%;(2)將發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料按照重量比為2 2 3比例混合均勻后，裝入小匣缽里送入推板窯或輥道窯中，在700° (Γ900。C溫度下高溫復(fù)燒30 150分鐘，將復(fù)燒的物料粗碎后裝入球磨機(jī)中，加酒精和高鋁球石研磨成釉漿，然后經(jīng)8(T100° C烘干， 并制成粉末，過160目 200目的網(wǎng)篩得到發(fā)光材料保護(hù)釉料；球磨過程中，酒精、高鋁球和復(fù)燒過的物料的重量比為O. 30 :1:1;C :琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備將A過程制作的琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料粉末與B過程制作的發(fā)光材料保護(hù)釉料粉末按照重量比為1: 2 3的比例混合后制得琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料干粉混合物，將干粉混合物與水按照重量比為1: 2. 2 2. 6的比例混合，再添加比例為干粉混合物重量O. 59Γ4%的添加劑一起放入高速攪拌機(jī)的料桶內(nèi)充分混合攪勻，得到琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝，其特征在于所述的金屬氟化物為L(zhǎng)iF、SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF中的一種或多種。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝，其特征在于所述的發(fā)光材料為 SrAl206、CaAl2O6, BaAl2O6, ZnS、CaS, CdS 中的一種或多種。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的釉漿制備工藝，其特征在于所述的添加劑為氣相二氧化硅或超細(xì)沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶膠。
12.—種如權(quán)利要求4所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的應(yīng)用，其特征在于該琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料應(yīng)用于陶瓷的琺瑯彩繪。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料的應(yīng)用，其特征在于所述的陶瓷為硬質(zhì)瓷或軟質(zhì)瓷或炻瓷或精陶，所述的琺瑯彩繪為760° 850° C的釉上彩繪或者 900° 1050。C的釉中彩繪。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種琺瑯彩 瓷用發(fā)光釉料及其釉漿制備方法和應(yīng)用，琺瑯彩瓷用發(fā)光釉料包括琺瑯彩瓷基礎(chǔ)釉料和發(fā)光材料保護(hù)釉料，發(fā)光材料保護(hù)釉料由發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑和發(fā)光材料混合后復(fù)燒制得，發(fā)光材料保護(hù)釉料用熔劑的組份和重量百分比如下SiO242%~48%，SrO3~7％，B2O315%~21%，Al2O30.2%~1.2%，Li2O3%~7%，Na2O2%~7%，K2O1%~3%，金屬氟化物0.6%～3.8%，P2O52%~3.5%，Ta2O30~0.5%，Nb2O50～1%，ZrO20～0.5%，CeO20～3%，La2O30～0.5%，Y2O30~2%，ZnO5%~10%，MgO0~0.5%。本發(fā)明既能保證發(fā)光材料的熱穩(wěn)定性和發(fā)光特性從而提高制成的彩瓷經(jīng)光照后的發(fā)光亮度和發(fā)光時(shí)間，又能保持傳統(tǒng)的琺瑯彩瓷的各種特征。
文檔編號(hào)C04B41/86GK103044082SQ20121056633
公開日2013年4月17日 申請(qǐng)日期2012年12月24日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月24日
發(fā)明者易查理, 董保生 申請(qǐng)人:醴陵市紅玉紅瓷陶瓷研究中心