專利名稱：一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜。
背景技術(shù)：
目前，作為建筑用節(jié)能玻璃，低福射中空玻璃已被廣泛使用。同時(shí)大多數(shù)的建筑幕墻都會(huì)使用單片陽(yáng)光膜作為窗間墻部分的外圍護(hù)結(jié)構(gòu)。在不同的觀察角度條件下，窗間墻部分的鍍膜玻璃顏色需要與中空低輻射鍍膜玻璃顏色接近以保證建筑總體外觀效果一致。

實(shí)用新型內(nèi)容發(fā)明目的本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種與低輻射鍍膜玻璃顏色接近，同時(shí)具有耐磨性好、透光率適中、透過(guò)顏色柔和、隔熱、節(jié)能良好的陽(yáng)光控·制膜。技術(shù)方案為了實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型所述的一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜，在玻璃原片的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I、金屬膜層和電介質(zhì)層II ;其中，所述的電介質(zhì)層I為氧化鈦層或氮化硅，所述的金屬膜層為鉻層，電介質(zhì)層II為氧化鈦層或氮化硅；電介質(zhì)層I的厚度為40 60nm ;金屬膜層的厚度為20 30nm ；電介質(zhì)層II的厚度為72 80nm。所述玻璃原片厚度為4mm、5mm、6mm、8mm、IOmm 或 12mm。有益效果本實(shí)用新型提供的雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜采用三層膜排列，與中空低輻射鍍膜玻璃的顏色接近，具有透過(guò)率適中、透過(guò)顏色柔和、隔熱、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。

圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本實(shí)用新型。如圖I所示的雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜，在玻璃原片I的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I 2、金屬膜層3和電介質(zhì)層II 4;其中，所述的電介質(zhì)層I 2為氧化鈦層(還可以為氮化硅層)，所述的金屬膜層3為鉻層，電介質(zhì)層II 4為氧化鈦層(還可以為氮化硅層)。上述玻璃原片I的厚度為5mm ；電介質(zhì)層I 2的厚度為50nm (在40 60nm范圍內(nèi)均可)；金屬膜層3的厚度為25nm (在20 30nm范圍內(nèi)均可)；電介質(zhì)層II 4的厚度為75nm (在72 80nm范圍內(nèi)均可)。制作上述雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜的參數(shù)如下
權(quán)利要求1.一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜，其特征在于在玻璃原片(I)的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層I (2)、金屬膜層(3)和電介質(zhì)層II (4);其中，所述的電介質(zhì)層I (2)為氧化鈦層或氮化硅層，所述的金屬膜層(3)為鉻層；電介質(zhì)層II (4)為氧化鈦層或氮化硅層；電介質(zhì)層I (2)的厚度為40 60nm ;金屬膜層(3)的厚度為20 30nm ；電介質(zhì)層II (4)的厚度為72 80nm。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜，其特征在于所述玻璃原片(I)厚度為 4mm、5mm、6mm、8mm、IOmm 或 12mm。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜，在玻璃原片的表面從下至上依次設(shè)置電介質(zhì)層Ⅰ、金屬膜層和電介質(zhì)層Ⅱ；其中，所述的電介質(zhì)層Ⅰ為氧化鈦層或氮化硅，所述的金屬膜層為鉻層，電介質(zhì)層Ⅱ?yàn)檠趸亴踊虻?。本?shí)用新型提供的雙電介質(zhì)層陽(yáng)光控制膜采用三層膜排列，與中空低輻射鍍膜玻璃的顏色接近，具有透過(guò)率適中、透過(guò)顏色柔和、隔熱、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C03C17/36GK202782022SQ20122044816
公開日2013年3月13日 申請(qǐng)日期2012年9月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月5日
發(fā)明者徐峰, 顧黎明, 蔣菊香 申請(qǐng)人:太倉(cāng)耀華玻璃有限公司