專利名稱：節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及瓷磚生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線。
背景技術(shù)：
見


圖1所示，傳統(tǒng)的瓷磚上釉生產(chǎn)線包括機(jī)架和淋釉器20。其中，機(jī)架上設(shè)有輸送瓷磚100的傳送帶10，傳送帶10連接有動(dòng)力裝置11。這樣，動(dòng)力裝置11帶動(dòng)傳送帶10運(yùn)轉(zhuǎn)，瓷磚100在傳送帶10上移動(dòng)。同時(shí)，淋釉器20持續(xù)向下的對(duì)瓷磚100進(jìn)行淋釉。其缺陷在于1、瓷磚是間隔式的在傳送帶上排列傳送并淋釉，所以大多數(shù)的釉料直接淋到傳送帶上被粘走，從而造成釉料浪費(fèi)，并且粘在傳送帶上的釉料無法再回收。2、粘在傳送帶上的釉料又粘結(jié)到瓷磚的底面(底面不可有釉料)造成瓷磚質(zhì)量檔次降級(jí)。3、生產(chǎn)線無減震裝置，造成淋到瓷磚面上的釉料呈波紋狀，形成釉料不水平的質(zhì)量缺陷。因此有必要予以改進(jìn)。
發(fā)明內(nèi)容針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的是提供一種節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，它具有能夠節(jié)約釉料，且產(chǎn)品質(zhì)量等級(jí)較高的特點(diǎn)。為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，包括機(jī)架和淋釉器，其中，機(jī)架上設(shè)有輸送瓷磚的傳送帶，傳送帶連接有動(dòng)力裝置，所述傳送帶至少為2根，且相鄰傳送帶之間設(shè)有間隙，同時(shí)，淋釉器的淋釉口的向下投影位于該間隙內(nèi)。所述相鄰傳送帶之間的間隙下方設(shè)有釉料回收器。所述傳送帶通過主 動(dòng)輥連接至動(dòng)力裝置，且該主動(dòng)輥的外表面設(shè)有軟膠層。所述主動(dòng)輥通過彈性聯(lián)軸器連接至動(dòng)力裝置。采用上述結(jié)構(gòu)后，本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)約釉料，且瓷磚質(zhì)量較好。本發(fā)明的節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線的傳送帶至少為2根，傳動(dòng)帶之間具有間隙，淋釉器位于該間隙正上方。這樣，瓷磚間隔排列時(shí)，淋釉至瓷磚之間的間隔時(shí)，淋出的釉料直接穿過傳送帶之間的間隙，不會(huì)淋到傳送帶上。這樣，釉料具備再次回收的條件，且避免了釉料粘附于傳送帶上的情況。優(yōu)化后，對(duì)傳送帶進(jìn)行了減震處理，避免了瓷磚傳動(dòng)過程中產(chǎn)生的震動(dòng)，使瓷磚表面的釉料處于水平，質(zhì)量較好。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明
圖1是原有技術(shù)的瓷磚上釉生產(chǎn)線的主視圖；圖2是本發(fā)明的實(shí)施例的使用狀態(tài)的主視圖；圖3是本發(fā)明的傳送帶和主動(dòng)輥連接的主視圖；圖4是本發(fā)明的主動(dòng)輥的左視剖視圖；圖5是本發(fā)明的彈性聯(lián)軸器的立體分解結(jié)構(gòu)示意圖。[0015]圖中10、傳送帶，11、動(dòng)力裝置，12、主動(dòng)輥，121、軟膠層，131、主動(dòng)接頭，132、被動(dòng)接頭，133、撥塊，134、彈性緩沖墊20、淋釉器，21、釉料回收器；100、瓷磚。
具體實(shí)施方式
以下所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并不因此而限定本發(fā)明的保護(hù)范圍。實(shí)施例，見圖2至圖5所示節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，包括機(jī)架和用于向下淋出釉料的淋釉器20。其中，機(jī)架上設(shè)有輸送瓷磚100的傳送帶10，傳送帶10連接有動(dòng)力裝置11。當(dāng)然，傳送帶10可以通過減速器連接至動(dòng)力裝置11，且動(dòng)力裝置11可以是電機(jī)。該傳送帶10至少為2根，且相鄰傳送帶10之間設(shè)有間隙。同時(shí)，淋釉器20的淋釉口的向下投影位于該間隙內(nèi)。即，淋釉器20的淋釉口位于該間隙的正上方。當(dāng)然，并非所有的間隙上方均必需有淋釉器20。這樣，若干瓷磚100具有間隔的排列在傳送帶10上，當(dāng)淋釉器20所淋出的釉料到達(dá)瓷磚100之間的間隔時(shí)，淋出的釉料不會(huì)淋到傳送帶10上，而是從傳送帶10之間的間隙穿過而淋下。優(yōu)化的，相鄰傳送帶10之間的間隙下方設(shè)有釉料回收器21。這樣，穿過相鄰傳送帶10之間的間隙的釉料被釉料回收器21所回收，從而能夠再次利用。顯然，釉料回收器21可以是敝口容器。
進(jìn)一步，傳送帶10通過主動(dòng)輥12連接至動(dòng)力裝置11，且該主動(dòng)輥12的外表面設(shè)有軟膠層121。這樣，對(duì)傳送帶10進(jìn)行了減震處理。繼續(xù)優(yōu)化，主動(dòng)輥12通過彈性聯(lián)軸器連接至動(dòng)力裝置11。具體的，該彈性聯(lián)軸器包括連接動(dòng)力裝置11 (或動(dòng)力裝置11連接的減速器)的主動(dòng)接頭131、連接主動(dòng)輥12的被動(dòng)接頭132，該主動(dòng)接頭131和被動(dòng)接頭132立而部均設(shè)有撥塊133，且王動(dòng)接頭131上的撥塊133和被動(dòng)接頭132上的撥塊133相互阻擋，從而能夠進(jìn)行扭矩的傳遞。同時(shí)，主動(dòng)接頭131上的撥塊133和被動(dòng)接頭132上的撥塊133之間設(shè)有彈性緩沖墊134。這樣，進(jìn)一步降低了傳送帶10受到的震動(dòng)影響。顯然，傳送帶10進(jìn)行減震處理后，其上的瓷磚100運(yùn)行平穩(wěn)，從而瓷磚100上的釉料能夠保持水平，進(jìn)而質(zhì)量較好。瓷磚上釉生產(chǎn)線目前已廣泛使用，其它結(jié)構(gòu)和原理與現(xiàn)有技術(shù)相同，這里不再贅述。
權(quán)利要求1.節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，包括機(jī)架和淋釉器(20)，其中，機(jī)架上設(shè)有輸送瓷磚(100)的傳送帶(10)，傳送帶(10)連接有動(dòng)力裝置(11)，其特征在于所述傳送帶(10)至少為2根，且相鄰傳送帶(10)之間設(shè)有間隙，同時(shí)，淋釉器(20)的淋釉口的向下投影位于該間隙內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，其特征在于所述相鄰傳送帶(10)之間的間隙下方設(shè)有釉料回收器(21)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，其特征在于所述傳送帶(10)通過主動(dòng)輥(12)連接至動(dòng)力裝置(11)，且該主動(dòng)輥(12)的外表面設(shè)有軟膠層(121)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，其特征在于所述主動(dòng)輥(12)通過彈性聯(lián)軸器連接至動(dòng)力裝置(11)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種節(jié)釉瓷磚上釉生產(chǎn)線，包括機(jī)架和淋釉器，其中，機(jī)架上設(shè)有輸送瓷磚的傳送帶，傳送帶連接有動(dòng)力裝置，所述傳送帶至少為2根，且相鄰傳送帶之間設(shè)有間隙，同時(shí)，淋釉器的淋釉口的向下投影位于該間隙內(nèi)。優(yōu)化后，相鄰傳送帶之間的間隙下方設(shè)有釉料回收器；傳送帶通過主動(dòng)輥連接至動(dòng)力裝置，且該主動(dòng)輥的外表面設(shè)有軟膠層；主動(dòng)輥通過彈性聯(lián)軸器連接至動(dòng)力裝置。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是節(jié)約釉料，且瓷磚質(zhì)量較好。
文檔編號(hào)C04B41/86GK202898240SQ201220463910
公開日2013年4月24日 申請(qǐng)日期2012年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月11日
發(fā)明者黎偉甫 申請(qǐng)人:黎偉甫