電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法以及電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，包括以下工序：通過(guò)使四邊形的玻璃基板浸漬于將化學(xué)強(qiáng)化鹽加熱熔融而成的化學(xué)強(qiáng)化處理液，對(duì)該玻璃基板進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理的化學(xué)強(qiáng)化工序，以及在上述化學(xué)強(qiáng)化工序后，將上述玻璃基板從化學(xué)強(qiáng)化處理液中取出后，降低該玻璃基板的溫度的冷卻工序，在上述冷卻工序中，以該化學(xué)強(qiáng)化處理液不在該玻璃基板表面固化的方式使其從玻璃基板表面排出。
【專(zhuān)利說(shuō)明】電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法以及電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于保護(hù)手機(jī)、智能手機(jī)、PDA (Personal Digital Assistant)等移動(dòng)終端裝置的顯示畫(huà)面的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃、包含定點(diǎn)設(shè)備等的傳感器用保護(hù)玻璃的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法以及電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器。
【背景技術(shù)】
[0002]在手機(jī)、智能手機(jī)、PDA等移動(dòng)終端裝置中，為了保護(hù)液晶等顯示裝置，在顯示裝置的外側(cè)配置有透明的保護(hù)板。作為保護(hù)板，大多使用丙烯酸等樹(shù)脂，但樹(shù)脂的保護(hù)板容易彎曲，因此需要加厚板厚，或加大與顯示裝置的間隙。
[0003]所以，為了保護(hù)移動(dòng)終端裝置的顯示裝置，優(yōu)選使用由玻璃原料形成的保護(hù)玻璃。玻璃由于硬度高，因此彎曲少，可以有助于薄型化。但是，玻璃具有破裂這類(lèi)特性，因此需要使強(qiáng)度提聞。
[0004]在專(zhuān)利文獻(xiàn)I中，提出有如下方案:切下保護(hù)玻璃的外形后，將切下的玻璃基板通過(guò)離子交換處理進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。根據(jù)專(zhuān)利文獻(xiàn)1，通過(guò)進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化而形成對(duì)表面作用壓縮應(yīng)力的離子交換層，可以制造難以破損的移動(dòng)終端用的保護(hù)玻璃。此外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)I中記載有為了化學(xué)強(qiáng)化，使用例如硝酸鉀、硝酸鈉等化學(xué)強(qiáng)化處理液，在溫度400°c~550°C進(jìn)行處理。
[0005]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2007 - 99557號(hào)公報(bào)
【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]近來(lái)，保護(hù)玻璃的薄型化、大面積化正在發(fā)展，保護(hù)玻璃被要求比以往嚴(yán)格得多的平坦度。此外，伴隨著薄型化、大面積化也要求強(qiáng)度的提高。其中，大量地制造了為了使強(qiáng)度提高而進(jìn)行了化學(xué)強(qiáng)化的保護(hù)玻璃，其結(jié)果，產(chǎn)生了平坦度的偏差變大這樣的問(wèn)題。
[0007]鑒于上述課題，本發(fā)明的目的是提供一種可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度偏差的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法以及電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器。
[0008]然而，一般而言，化學(xué)強(qiáng)化處理是通過(guò)在高溫的化學(xué)強(qiáng)化處理液中浸潰玻璃基板來(lái)進(jìn)行的。然后，化學(xué)強(qiáng)化結(jié)束后就將玻璃基板從蓄有化學(xué)強(qiáng)化處理液的化學(xué)強(qiáng)化槽中提升。本發(fā)明的發(fā)明人等為了解決上述課題進(jìn)行了深入的研究，其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，平坦度良好的玻璃基板和并非如此的玻璃基板之間，將上述玻璃基板從化學(xué)強(qiáng)化槽提升后，附著于玻璃基板表面的化學(xué)強(qiáng)化處理液在玻璃基板表面上固化的狀態(tài)不同。進(jìn)一步研究的結(jié)果發(fā)現(xiàn)，化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化在玻璃基板上不均勻地殘留時(shí)，尤其是在搭載于化學(xué)強(qiáng)化機(jī)架的玻璃基板表面的下緣部的正面和背面不均勻地殘留時(shí)，產(chǎn)生玻璃基板的平坦度偏差。該原因是，若化學(xué)強(qiáng)化處理液以不均勻地不均衡地附著于玻璃基板的正面和背面的狀態(tài)通過(guò)其凝固點(diǎn)，則化學(xué)強(qiáng)化處理液在玻璃基板的正面和背面不均勻地固化、殘留，在實(shí)質(zhì)的化學(xué)強(qiáng)化時(shí)間上產(chǎn)生差異，因而化學(xué)強(qiáng)化的程度在玻璃基板的面內(nèi)有偏差，其結(jié)果，推定玻璃基板的平坦度有偏差。因此發(fā)現(xiàn)在該化學(xué)強(qiáng)化處理液在該玻璃基板表面固化之前，通過(guò)排出(或除去)化學(xué)強(qiáng)化處理后的附著于玻璃基板表面的化學(xué)強(qiáng)化處理液，可以解決上述課題，完成了本發(fā)明。
[0009]為了解決上述課題，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法的代表性構(gòu)成是包括以下工序的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法:
[0010]化學(xué)強(qiáng)化工序，通過(guò)使四邊形的玻璃基板浸潰于將化學(xué)強(qiáng)化鹽加熱熔融而成的化學(xué)強(qiáng)化處理液，對(duì)該玻璃基板進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理；以及
[0011]冷卻工序，在上述化學(xué)強(qiáng)化工序后，將上述玻璃基板從化學(xué)強(qiáng)化處理液中取出后，降低該玻璃基板的溫度；
[0012]該制造方法的特征在于，在上述冷卻工序中，以該化學(xué)強(qiáng)化處理液在該玻璃基板表面不固化的方式使其從玻璃基板表面排出。
[0013]此外，本方法也可以是如下的方法:在化學(xué)強(qiáng)化工序后的冷卻工序中，將附著于玻璃基板表面的化學(xué)強(qiáng)化處理液在該化學(xué)強(qiáng)化處理液凝固之前從上述玻璃基板排出。因此，玻璃基板上的化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)被抑制，可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度的偏差。
[0014]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法可以設(shè)為如下構(gòu)成，即，在上述冷卻工序中，以在玻璃基板上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液從四邊形的玻璃基板的一個(gè)角流下的方式保持玻璃基板。通過(guò)設(shè)為上述構(gòu)成，在冷卻工序中，將附著于矩形玻璃基板的化學(xué)強(qiáng)化處理液聚集于玻璃基板的矩形角部并從該角部流出，因此可以將附著于玻璃基板的化學(xué)強(qiáng)化處理液快速地從玻璃基板上排出。
[0015]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法還可以設(shè)為如下構(gòu)成，即，在上述冷卻工序中，以上述玻璃基板的`下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持該玻璃基板。通過(guò)設(shè)為上述構(gòu)成，在玻璃基板上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液變得容易流下，玻璃基板上的化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)被抑制。因此，可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度的偏差。
[0016]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法更優(yōu)選于玻璃基板的板厚小于1.3mm的構(gòu)成的情況。在冷卻工序中化學(xué)強(qiáng)化溶液在玻璃基板上不均衡地殘留于正面和背面時(shí)，化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)在正面和背面產(chǎn)生不均衡，因此在板厚薄的玻璃基板的情況下，尤其是在板厚小于1.3mm的玻璃基板的情況下，變得容易發(fā)生形狀變化(翹曲)，平坦度的偏差變大。然而，通過(guò)設(shè)為本發(fā)明的構(gòu)成，即使是板厚小于1.3_的玻璃基板，也變得難以產(chǎn)生翹曲，可以抑制平坦度的偏差。
[0017]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法更優(yōu)選于玻璃基板的主表面的面積大于30.5cm2的構(gòu)成的情況。在冷卻工序中化學(xué)強(qiáng)化處理液在玻璃基板上不均衡地殘留時(shí)，主表面的面積大的情況下，尤其是主表面的面積大于30.5cm2的玻璃基板的情況下，附著于玻璃基板的化學(xué)強(qiáng)化液為大量，難以從玻璃基板流下，平坦度的偏差變大。然而，通過(guò)設(shè)為本發(fā)明的構(gòu)成，即使是主表面的面積大于30.5cm2的玻璃基板，也變得難以產(chǎn)生翹曲，可以抑制平坦度的偏差。
[0018]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法更優(yōu)選于化學(xué)強(qiáng)化處理工序后的上述玻璃基板的主表面的壓縮應(yīng)力值為400MPa以上的情況。[0019]進(jìn)而，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法更優(yōu)選于化學(xué)強(qiáng)化處理工序后的四邊形的玻璃基板的壓縮應(yīng)力層的厚度為玻璃基板的板厚的7%~20%的情況。
[0020]如上所述，即使是形成與以往相比強(qiáng)的壓縮應(yīng)力值、深的壓縮應(yīng)力層的情況下，通過(guò)應(yīng)用本發(fā)明，也可以抑制平坦度的偏差，因此，例如，即使在使玻璃基板薄板化、大面積化的情況下也可以實(shí)現(xiàn)強(qiáng)度與平坦度的共存。
[0021]此外，本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法更優(yōu)選如下情況，即，使用玻璃基板保持器進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理工序后，在被玻璃基板保持器保持的狀態(tài)下，進(jìn)行冷卻工序，所述玻璃基板保持器具有以上述四邊形的玻璃基板的下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持玻璃基板的保持構(gòu)件。通過(guò)設(shè)為上述構(gòu)成，實(shí)施使用了玻璃基板保持器的化學(xué)強(qiáng)化處理工序以及冷卻工序，從而可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度的偏差。
[0022]本發(fā)明所涉及的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器的代表性構(gòu)成是:在降低從由加熱熔融的化學(xué)強(qiáng)化鹽形成的化學(xué)強(qiáng)化處理液中取出的四邊形玻璃基板的溫度時(shí)使用的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器，其特征在于，具有以四邊形的玻璃基板的下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持玻璃基板的保持構(gòu)件。通過(guò)設(shè)為上述構(gòu)成，玻璃基板上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液變得容易流下，抑制了玻璃基板上的化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)。因此，可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度的偏差。
[0023]根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種可以抑制化學(xué)強(qiáng)化后的玻璃基板的平坦度偏差的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法以及電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器。
【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0024]圖1是說(shuō)明在本實(shí)施方式的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃中使用的玻璃基板的圖。
[0025]圖2是圖1的玻璃基板的A — A截面圖。
`[0026]圖3是表示將圖1的玻璃基板排列于機(jī)架內(nèi)的狀態(tài)的圖。
[0027]圖4是示意性地表示化學(xué)強(qiáng)化后冷卻玻璃基板的狀態(tài)的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]以下參照附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。該實(shí)施方式中所示的尺寸、材料、其它具體的數(shù)值等不過(guò)是為了使發(fā)明容易理解的例示，除非特別說(shuō)明，否則本發(fā)明不限于此。應(yīng)予說(shuō)明，在本說(shuō)明書(shū)和附圖中，對(duì)實(shí)質(zhì)上具有相同的機(jī)能、構(gòu)成的元件賦予相同的符號(hào)從而省略重復(fù)說(shuō)明，此外，與本發(fā)明沒(méi)有直接關(guān)系的元件省略圖示。
[0029]圖1是說(shuō)明在本實(shí)施方式的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃中使用的玻璃基板的圖。玻璃基板100作為保護(hù)移動(dòng)終端的顯示畫(huà)面的保護(hù)玻璃使用。另外，玻璃基板100經(jīng)過(guò)下述的制造工序后，根據(jù)需要，例如，通過(guò)實(shí)施印刷等修飾來(lái)成為保護(hù)玻璃。玻璃基板100是具有矩形(四邊形)的外形部分102的板狀，在基板面內(nèi)具有在上部附近形成的揚(yáng)聲器用孔部104和在下部附近形成的多個(gè)小徑孔部106。
[0030]接著，對(duì)本實(shí)施方式所涉及的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。玻璃基板100是在板狀玻璃的主表面形成抗蝕圖案，用蝕刻劑進(jìn)行蝕刻，從而切成所需形狀而得的板狀玻璃。通過(guò)蝕刻形成外形，因此端面為鏡面，具有非常高的平滑性，沒(méi)有產(chǎn)生機(jī)械加工中必定產(chǎn)生的微裂紋，因此可以得到移動(dòng)終端用保護(hù)玻璃所要求的高強(qiáng)度。此外，即使是機(jī)械加工中困難、復(fù)雜的形狀也可以容易地加工。
[0031]應(yīng)予說(shuō)明，作為本發(fā)明所涉及的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，除上述的利用蝕刻進(jìn)行外形加工以外，也可以利用機(jī)械加工進(jìn)行外形加工，對(duì)形狀加工沒(méi)有特別的限定。
[0032]板狀玻璃可以使用從熔融玻璃直接成型為片狀的玻璃，或者可以使用將成型為某厚度的玻璃體成型為規(guī)定的厚度、研磨主表面而加工成規(guī)定厚度的玻璃。尤其在從熔融玻璃直接成型為片狀的情況下，板狀玻璃的主表面具有沒(méi)有微裂紋的表面狀態(tài)，因此為優(yōu)選。作為從熔融玻璃直接成型為片狀的方法，可以舉出下拉法、上浮法等。
[0033]此外，除上述成型法以外，也可以利用加壓法形成板狀玻璃。
[0034]作為板狀玻璃，可以舉出鋁硅酸鹽玻璃、鈉鈣玻璃、硼硅酸鹽玻璃等，從可以形成強(qiáng)壓縮應(yīng)力的觀(guān)點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選為鋁硅酸鹽玻璃。其中，優(yōu)選含有Si02、A1203、Li2O和/或Na2O的鋁硅酸鹽玻璃。Al2O3在下述化學(xué)強(qiáng)化中用于使離子交換性能提高。Li2O是在化學(xué)強(qiáng)化中用于與Na+離子進(jìn)行離子交換的成分。Na2O是在化學(xué)強(qiáng)化中用于與K+離子進(jìn)行離子交換的成分。ZrO2用于提高機(jī)械強(qiáng)度。應(yīng)予說(shuō)明，Li2O和Na2O之中，只要是包含Na2O的玻璃組成就可以，能夠省略L(fǎng)i20。在這種情況下，后述的化學(xué)強(qiáng)化處理液中可以使用硝酸鉀的熔融鹽(能夠省略硝酸鈉)。[0035]這里，形成抗蝕圖案時(shí)，首先，在板狀玻璃的兩個(gè)主表面上涂敷抗蝕材料。作為抗蝕材料，只要是對(duì)蝕刻時(shí)使用的蝕刻劑具有耐受性的材料就可以。玻璃在大多數(shù)情況下都是通過(guò)包含氫氟酸的水溶液的濕式蝕刻、氟系氣體的干式蝕刻而被蝕刻的，因此，例如，可以使用耐氫氟酸性?xún)?yōu)異的抗蝕材料等。
[0036]接著，將具有所需掩模圖案的光掩模與板狀玻璃的兩個(gè)主表面平行地配置，從抗蝕材料的兩面照射光而進(jìn)行曝光。若將曝光后的抗蝕材料進(jìn)行顯影，則在蝕刻的區(qū)域以外的區(qū)域(剩余區(qū)域)形成抗蝕圖案(負(fù)型)。
[0037]蝕刻方法可以是濕式蝕刻(Wet Etching)、干式蝕刻(Dry Etching)中的任一者。濕式蝕刻所使用的蝕刻劑只要是可以蝕刻板狀玻璃的蝕刻劑就可以。例如，可以使用以氫氟酸為主要成分的酸性溶液，在氫氟酸中包含硫酸、硝酸、鹽酸、氟硅酸中的至少一種酸的混合酸等。干式蝕刻所使用的蝕刻劑只要是可以蝕刻板狀玻璃的蝕刻劑就可以，例如可以使用氟系氣體。
[0038]蝕刻板狀玻璃時(shí)，切下所需形狀的玻璃基板100。在濕式蝕刻中，玻璃被等方性地蝕刻。因此沒(méi)有被抗蝕圖案遮蔽的區(qū)域以從兩面挖溝的方式溶解，在將近板厚的大約中央部，溝連接，從而分離。
[0039]圖2是圖1的玻璃基板100的A — A截面圖。這里表示板狀玻璃通過(guò)濕式蝕刻被等方性地蝕刻時(shí)的玻璃基板100的端面的截面形狀。玻璃基板100的端面如圖2所示，具有中央部向外最突出的邊界部102a，形成從該邊界部102a向兩邊的主表面?zhèn)染徛龔澢膬A斜面 102b、102c。
[0040]另外，傾斜面102b、102c與主表面的邊界，以及傾斜面102b、102c彼此的邊界部102a優(yōu)選設(shè)為帶有半徑為數(shù)十μ m的圓形的形狀。通過(guò)設(shè)成這樣的端面形狀，將該保護(hù)玻璃安裝于移動(dòng)終端裝置的框架等時(shí)，可以在不產(chǎn)生咬合、破損的情況下容易地安裝。
[0041]此外，蝕刻后進(jìn)行抗蝕劑剝離。作為用于將抗蝕材料從玻璃基板100剝離的剝離液，優(yōu)選使用KOH、NaOH等堿溶液。應(yīng)予說(shuō)明，抗蝕材料、蝕刻劑、剝離液的種類(lèi)可以根據(jù)被蝕刻材料即板狀玻璃的材料進(jìn)行適當(dāng)?shù)剡x擇。[0042]接著，在利用蝕刻的形狀加工工序后，對(duì)從板狀玻璃切下的玻璃基板100進(jìn)行利用離子交換處理的化學(xué)強(qiáng)化。化學(xué)強(qiáng)化是通過(guò)將玻璃的表層面的離子與離子半徑較大的其它離子進(jìn)行交換，在玻璃表面形成壓縮應(yīng)力層，進(jìn)一步提高機(jī)械強(qiáng)度的處理?；瘜W(xué)強(qiáng)化是通過(guò)使用例如硝酸鉀、硝酸鈉等熔融鹽，進(jìn)行溫度300°C~450°C、1小時(shí)~30小時(shí)的處理，將玻璃中的Li+離子與熔融鹽中的Na+離子進(jìn)行交換，以及將玻璃中的Na+離子與熔融鹽中的K+離子進(jìn)行交換。通過(guò)化學(xué)強(qiáng)化形成的壓縮應(yīng)力層只要是5μπι以上就可以。希望壓縮應(yīng)力層的厚度優(yōu)選為35 μ m以上，更優(yōu)選為50 μ m以上，進(jìn)一步優(yōu)選為IOOym以上。另外，化學(xué)強(qiáng)化可以在通過(guò)蝕刻切下玻璃基板100之前，即板狀玻璃的狀態(tài)，也可以在通過(guò)蝕刻切下后。尤其，從也可以在端面部分形成壓縮應(yīng)力層的觀(guān)點(diǎn)考慮，優(yōu)選在切下玻璃基板100后進(jìn)行。由此，玻璃基板100的端面也被化學(xué)強(qiáng)化，因此將玻璃基板100安裝于移動(dòng)終端裝置時(shí)，可以防止產(chǎn)生玻璃基板100的破損、裂紋。
[0043]以下，參照?qǐng)D3，載置圖1所示的板狀的玻璃基板100，對(duì)將該玻璃基板100進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的工序進(jìn)行說(shuō)明。圖3是表示將圖1的玻璃基板100在機(jī)架內(nèi)排列的狀態(tài)的圖。
[0044]首先，將板狀的玻璃基板100排列于化學(xué)強(qiáng)化用機(jī)架(以下，稱(chēng)為機(jī)架)110內(nèi)。機(jī)架110是玻璃基板保持器，如圖3所示，具備2個(gè)側(cè)板112、114，以及在2個(gè)側(cè)板112、114之間配置的支撐構(gòu)件(保持構(gòu)件)116a、116b、116c、118。支撐構(gòu)件116a、116b、116c、118是在長(zhǎng)邊方向以規(guī)定間隔形成溝的鋸齒狀的構(gòu)件。
[0045]玻璃基板100的長(zhǎng)邊(下邊)108a被支撐構(gòu)件116a、116b、116c的溝以抵接的方式3點(diǎn)支撐(實(shí)際上只要是2點(diǎn)以上就可以)。此外，玻璃基板100的短邊(側(cè)邊)108b被支撐構(gòu)件118的溝以抵接的方式I點(diǎn)支撐。由此，利用支撐構(gòu)件116a、116b、116c、118在機(jī)架110內(nèi)隔開(kāi)規(guī)定間隔并可靠地支撐玻璃基板100。
[0046]機(jī)架110所支撐的玻璃基板100如圖3所示，以玻璃基板100的下邊108a相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持。這里，優(yōu)選以玻璃基板100的下邊108a相對(duì)于水平方向成10~50度的角度傾斜地保持。另外，在機(jī)架110中，配置有2組支撐構(gòu)件116a、116b、116c、118，因此可以將玻璃基板100排列成2列。
[0047]因此，機(jī)架110能夠以玻璃基板100的下邊108a相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持玻璃基板100。因此，即使是比較大面積的玻璃基板，也可以在化學(xué)強(qiáng)化處理液中穩(wěn)定地保持，可以進(jìn)行與移動(dòng)設(shè)備的設(shè)計(jì)相對(duì)應(yīng)的多種多樣的尺寸的玻璃基板的化學(xué)強(qiáng)化。因此，無(wú)需制作每個(gè)玻璃基板尺寸的機(jī)架，可以使玻璃基板的制造效率提高。
[0048]接著，在未圖示的籠中容納多層機(jī)架110后，準(zhǔn)備化學(xué)強(qiáng)化用的未圖示的槽。槽的內(nèi)部積存有化學(xué)強(qiáng)化用的化學(xué)強(qiáng)化處理液。此外，槽的側(cè)面配置有加熱化學(xué)強(qiáng)化處理液的加熱器。
[0049]接下來(lái)，將該籠用起重機(jī)吊起，配置于槽內(nèi)。通過(guò)將籠配置于槽內(nèi)，在機(jī)架110內(nèi)隔開(kāi)規(guī)定間隔而載置的玻璃基板100被浸潰于對(duì)流的化學(xué)強(qiáng)化處理液。
[0050]以下，參照?qǐng)D4，對(duì)化學(xué)強(qiáng)化后將玻璃基板100進(jìn)行冷卻的工序進(jìn)行說(shuō)明。圖4是示意性地表示化學(xué)強(qiáng)化后冷卻玻璃基板100的狀態(tài)的圖。結(jié)束化學(xué)強(qiáng)化時(shí)，再次將籠用起重機(jī)吊起，從積存有化學(xué)強(qiáng)化處理鹽的槽中提升機(jī)架110。另外，本發(fā)明中的冷卻工序可以是使用例如制冷劑等強(qiáng)制性地降低玻璃基板的溫度的構(gòu)成，可以是通過(guò)自然地放熱而降低玻璃基板的溫度的構(gòu)成，也可以將兩者進(jìn)行組合。
[0051]提升的機(jī)架110內(nèi)載置的玻璃基板100在空中被冷卻。這里，提升速度約為10~IOOcm/分鐘，在空中的保持時(shí)間約為I~100分鐘。此時(shí)，玻璃基板100的下邊108a如上述那樣利用機(jī)架110的支撐構(gòu)件116a、116b、116c、118以相對(duì)于水平方向傾斜的方式被保持。因此，對(duì)于玻璃基板100，如圖4所示，基板上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液容易如箭頭所示地流下，化學(xué)強(qiáng)化處理液從下邊108a與側(cè)邊108b交叉的角部在高于到達(dá)其凝固點(diǎn)的溫度下從玻璃基板快速地落下。因此，化學(xué)強(qiáng)化后將玻璃基板100在空中冷卻時(shí)，玻璃基板表面上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液在達(dá)到該化學(xué)強(qiáng)化處理液的凝固點(diǎn)以下之前的期間內(nèi)從上述玻璃基板表面排出。即，能夠以化學(xué)強(qiáng)化處理液在玻璃基板表面不固化的方式使化學(xué)強(qiáng)化處理液從玻璃基板表面排出。其結(jié)果，可以在玻璃基板100上抑制玻璃基板上的化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)。
[0052]如此，化學(xué)強(qiáng)化工序后，將玻璃基板100從化學(xué)強(qiáng)化處理液取出而冷卻的冷卻工序中，在不使玻璃基板100的表面上附著的化學(xué)強(qiáng)化處理液中的化學(xué)強(qiáng)化處理液固化(結(jié)晶)的情況下就降低了玻璃基板100的溫度。應(yīng)予說(shuō)明，空冷冷卻工序后的玻璃基板100的溫度為化學(xué)強(qiáng)化處理液的凝固點(diǎn)以下。
[0053]其后，將機(jī)架110浸潰于水中，驟冷。
[0054]通過(guò)上述工序，將玻璃基板100化學(xué)強(qiáng)化，進(jìn)一步在空中和水中冷卻后，為了清除玻璃基板100的附著物，洗滌玻璃基板100。作為洗滌方法，可以利用以水等洗滌液沖洗的方法、浸潰于洗滌液的浸潰法、一邊沖洗滌液一邊使旋轉(zhuǎn)的輥體與玻璃基板100接觸的擦洗洗滌法等。采用浸潰法時(shí)，可以在對(duì)洗滌液施加超聲波的狀態(tài)下實(shí)施。其后，根據(jù)需要對(duì)玻璃基板100實(shí)施修飾來(lái)制造保護(hù)玻璃。
[0055]對(duì)在本發(fā)明中使用的玻璃基板的玻璃組成沒(méi)有特別的限定，優(yōu)選Li含量為8%重量以下，更優(yōu)選4%重量以下,進(jìn)一步優(yōu)選2%重量以下,最優(yōu)選小于2重量重量，以使得可適用作移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃。`然后，使用上述范圍的玻璃組成，應(yīng)用本實(shí)施方式優(yōu)選的制造方法，從而可以達(dá)成作為移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃優(yōu)選的強(qiáng)度和平坦度。
[0056][實(shí)施例]
[0057]以下，舉出本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明，但本發(fā)明不僅限定于以下實(shí)施例。作為玻璃組成，使用包含64.5重量％的SiO2、8.0重量％的A1203、0.4重量％的LiO2、16.0重量％的Na2O和1.0重量％的ZrO2的玻璃材料。
[0058]試驗(yàn)中使用的矩形的玻璃基板為長(zhǎng)邊10.1cm短邊5.0cm主表面的面積約50.5cm2,或長(zhǎng)邊6.1cm短邊5.0cm主表面的面積約為30.5cm2,或長(zhǎng)邊10.1cm短邊8.0cm主表面的面積約為80.8cm2。此外玻璃基板的板厚為0.5mm或1.3mm。以玻璃基板的長(zhǎng)邊成為下邊的方式，接著在改變上述下邊相對(duì)于水平方向形成的角度而保持于機(jī)架110的狀態(tài)下，實(shí)施化學(xué)強(qiáng)化工序和冷卻工序。結(jié)果如表1所不。表1表不對(duì)于玻璃基板有無(wú)化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)和平坦度。
[0059]這里，對(duì)于化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化(結(jié)晶)的有無(wú)，通過(guò)目視觀(guān)察確認(rèn)在冷卻工序中的玻璃基板的下邊的緣部分。評(píng)價(jià)基準(zhǔn)如下所述。
[0060]O:無(wú)化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化
[0061]X:有化學(xué)強(qiáng)化處理液的固化[0062]此外，測(cè)定得到的玻璃基板的平坦度。平坦度由JIS B0602規(guī)定，這里，使用NIDEK公司制平坦度測(cè)試儀FT - 900進(jìn)行測(cè)定。平坦度差時(shí)，發(fā)生反射像的變形，搭載保護(hù)玻璃的移動(dòng)設(shè)備的外觀(guān)品質(zhì)變差。尤其在觸摸面板方式的移動(dòng)設(shè)備的情況下，由于保護(hù)玻璃的面積大，要求高平坦度。因此，制造觸摸面板方式的移動(dòng)設(shè)備用保護(hù)玻璃時(shí)，平坦度的偏差(標(biāo)準(zhǔn)偏差值)優(yōu)選6μπ?以下，更優(yōu)選為4 μ以下，進(jìn)一步優(yōu)選為2μπ?以下。應(yīng)予說(shuō)明，以下的試驗(yàn)中的評(píng)價(jià)數(shù)各為30。平坦度的評(píng)價(jià)等級(jí)如下。
[0063]OOO:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值為2um以下
[0064]OO:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值大于2um且4um以下
[0065]O:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值大于4um且6um以下
[0066]X:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值大于6um且8um以下
[0067]X X:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值大于8um且IOum以下
[0068]XXX:平坦度(最大截面高度)標(biāo)準(zhǔn)偏差值大于IOum
[0069][表 I]
【權(quán)利要求】
1.一種電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，包括以下工序: 化學(xué)強(qiáng)化工序，通過(guò)使四邊形的玻璃基板浸潰于將化學(xué)強(qiáng)化鹽加熱熔融而成的化學(xué)強(qiáng)化處理液，對(duì)該玻璃基板進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理；以及 冷卻工序，在所述化學(xué)強(qiáng)化工序后，將所述玻璃基板從化學(xué)強(qiáng)化處理液中取出后，降低該玻璃基板的溫度； 在所述冷卻工序中，以該化學(xué)強(qiáng)化處理液在該玻璃基板表面不固化的方式，使該化學(xué)強(qiáng)化處理液從玻璃基板表面排出。
2.如權(quán)利要求1所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，在所述冷卻工序中，以附著于玻璃基板上的化學(xué)強(qiáng)化處理液從四邊形的玻璃基板的一個(gè)角流下的方式保持玻璃基板。
3.如權(quán)利要求1或2所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，在所述冷卻工序中，以所述玻璃基板的下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持該玻璃基板。
4.如權(quán)利要求1~3中的任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板的板厚小于1.3_。
5.如權(quán)利要求1~4中的任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，所述玻璃基板的主表面的面積大于30.5cm2。
6.如權(quán)利要求1~5中的任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化處理工序后的所述玻璃基板的主表面的壓縮應(yīng)力值為400MPa以上。
7.如權(quán)利要求1~6中的任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，所述化學(xué)強(qiáng)化處理工序后的四邊形的所述玻璃基板的壓縮應(yīng)力層的厚度為所述玻璃基板的板厚的7%~20%。
8.如權(quán)利要求1~7中的任一項(xiàng)所述的電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的制造方法，其特征在于，使用玻璃基板保持器進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化處理工序后，在被該玻璃基板保持器保持的狀態(tài)下，進(jìn)行所述冷卻工序，所述玻璃基板保持器具有以所述四邊形的玻璃基板的下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持該玻璃基板的保持構(gòu)件。
9.一種電子設(shè)備用保護(hù)玻璃的玻璃基板保持器，在降低從由加熱熔融的化學(xué)強(qiáng)化鹽形成的化學(xué)強(qiáng)化處理液中取出的四邊形的玻璃基板的溫度時(shí)使用，其特征在于，具有以所述四邊形的玻璃基板的下邊相對(duì)于水平方向傾斜的方式保持該玻璃基板的保持構(gòu)件。
【文檔編號(hào)】C03C21/00GK103502172SQ201280022090
【公開(kāi)日】2014年1月8日 申請(qǐng)日期:2012年5月10日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月11日
【發(fā)明者】千綿剛, 后藤伴幸, 澀井正智, 橋本和明, 高野徹朗 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社, Hoev 有限公司