用于涂布易清潔涂層的基底元件的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種用于涂布易清潔涂層的基底元件，其中所述易清潔涂層在其疏水和疏油性質(zhì)方面并且特別是在其長期穩(wěn)定性方面通過所述基底元件有提高的效果。所述基底元件首要的是包括由玻璃或玻璃-陶瓷構(gòu)成的支撐材料和如下的粘結(jié)層，所述粘結(jié)層能夠與易清潔涂層相互作用并包含混合氧化物，特別是硅的混合氧化物。
【專利說明】用于涂布易清潔涂層的基底元件

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及用于涂布易清潔涂層的基底元件，其包括支撐板和設(shè)置在所述支撐板上的粘合促進劑層，所述粘合促進劑層適用于與易清潔涂層相互作用。本發(fā)明還涉及制造這種基底元件的方法和這種基底元件的用途。

【背景技術(shù)】
[0002]表面處理，更尤其是透明材料例如玻璃或玻璃-陶瓷的表面處理，取得了更顯著的意義，主要是由于接觸或傳感器圖像屏幕(觸控屏幕)市場的強勢增長造成的，和在例如具有交互式輸入的觸控面板應(yīng)用領(lǐng)域中的情況相同。此處，要求接觸表面滿足透明度和功能性的要求，其在例如多觸控應(yīng)用部分中變得嚴格得多。發(fā)現(xiàn)觸控屏幕可以用作例如操作智能電話、自動柜員機的手段，或用作信息監(jiān)視器例如用于例如火車站的列車時間信息。此外，在游戲機中也可以使用觸控屏幕，或者觸控屏幕還可以例如用于控制工業(yè)中的機械(工業(yè)PC)。透明玻璃或玻璃-陶瓷表面的處理正在成為所有覆蓋屏幕的焦點，但尤其是用于移動電子產(chǎn)品的覆蓋屏幕，例如用于筆記本電腦、便攜式電腦、手表或手機的顯示器。然而，對于例如冷藏裝置、顯示窗、電話亭或玻璃櫥柜等的玻璃或玻璃-陶瓷表面，表面處理越來越重要。在所有應(yīng)用中，目的是確保，結(jié)合具有高度美觀效果的有效透明度，在不需要費勁清潔的條件下，確保良好且衛(wèi)生的功能性，其中高度美觀效果的一部分因例如污垢和指紋殘留物而受到損害。
[0003]已知的一種表面處理是玻璃表面的刻蝕以例如用于防眩光屏幕。然而，此處的劣勢是透明度和圖像分辨率的急劇下降，因為結(jié)構(gòu)化表面是指從裝置到觀察者的成像光也因顯示屏幕而折射和散射 。為了實現(xiàn)高的圖像分辨率，在利用易清潔涂層對表面進行涂布的領(lǐng)域中需要另外的可行方案。
[0004]在需要的品質(zhì)中，尤其是關(guān)于觸控屏幕，最重要的是接觸表面的觸知和觸覺感知性，所述接觸表面應(yīng)是平滑的，尤其是對于多觸控應(yīng)用。對使用者而言，此處的關(guān)鍵因素是更少的任意可測的粗糙度和更高的觸知感知性。此外還重要的是具有低反射特性的高透明度；高水平的抗污垢性和清潔便利性，尤其是易清潔涂層在使用之后和在多次清潔循環(huán)之后的長期耐久性；抗刮擦性和抗磨蝕性，例如當使用輸入筆時，對因手指出汗造成的化學(xué)品接觸的抗性，汗含有鹽和脂肪；以及即使在氣候和UV照射下任何涂層仍還具有耐久性。所述易清潔效果確保，因環(huán)境而到達表面的污染物或因自然使用而造成的其它污染物能夠容易地再次除去，或還防止殘留物粘附到表面。在此情況中，易清潔表面具有如下性質(zhì):由例如指紋造成的污染物絕大部分不再可見，并因此即使在不清潔的條件下使用的表面仍呈現(xiàn)為清潔。于是，這種情況是易清潔表面的特殊情況:防指紋表面。接觸表面必須對水、鹽和脂肪的沉積具有抗性，所述水、鹽和脂肪是在使用中例如由使用者的指紋殘留物造成的。接觸表面的潤濕性質(zhì)必須使得表面既疏水又疏油。
[0005]大多數(shù)已知的易清潔涂層基本上是對水具有高接觸角的有機氟化合物。由此，關(guān)于這種保護層的制造，DE19848591描述了使用處于液體體系形式的式Rf-V有機氟化合物，所述液體體系包含在載液中的有機氟化合物，其中在式Rf-V中Rf表示可部分或完全氟化的脂族烴基團且可以為直鏈、支鏈或環(huán)狀的，該烴基團可被一個或多個氧、氮或硫原子間斷。V表示如下的極性基團或偶極基團，其選自-COOR、-COR、-COF、-CH2OR、-OCOR、-CONR2、-CN,-CONH-NR2、-CON=C (NH2) 2、-CH=N0R、-NRCONR2、-NR2COR^NRw, _S03R、-OSO2R, -OH、_SH、= Β,-ΟΡ (OH)2、-OPO(OH)2、-OP(ONH4)2、-OPO(ONH4)2、-CO-CH=CH2，其中基團 V 中的 R可以相同或不同且表示氫、苯基基團或者直鏈或支鏈的烷基或烷基醚基團，所述烷基或烷基醚基團具有最高達12個、優(yōu)選最高達8個碳原子且可以是部分或完全地氟化或氟氯化的，且w為2或3，或者表示-RvV-。在式-RvV-中，V表示上述極性基團或偶極基團，且Rv表示直鏈或支鏈的亞烷基基團，所述亞烷基基團具有I至12個、優(yōu)選最高達8個碳原子且可以部分或完全地氟化或氟氯化。
[0006]另外，EP0844265描述了如下的含硅的有機氟聚合物，其用于基底表面涂層例如金屬、玻璃和塑料材料表面的涂層，從而賦予表面足夠且持久的抗污垢品質(zhì)、足夠的耐候性、潤滑性、不粘品質(zhì)、疏水性和對油性污染物和指紋的抗性。還指定了用于表面處理方法的處理溶液，其包含含硅的有機氟聚合物、含氟的有機溶劑以及硅烷化合物。關(guān)于涂布這種有機氟聚合物的基底表面的適用性未進行描述。
[0007]US2010/0279068描述了用于防指紋涂層的氟聚合物或氟硅烷。在上下文中，US2010/0279068已經(jīng)指出，單獨具有這種涂層的表面涂層不足以提供防指紋涂層所需要的表面性質(zhì)。為了解決所述問題，US2010/0279068提出，玻璃制品的表面具有如下的結(jié)構(gòu)，在其中進行壓印或?qū)⒘Ｗ訅喝肫渲?。這種用于涂布防指紋涂層的表面的制備非常復(fù)雜且昂貴，并在玻璃制品中因所需要的熱操作而產(chǎn)生不期望的應(yīng)力。
[0008]US2010/0285272描述了用于防指紋涂層的具有低表面張力的聚合物或低聚物，例如氟聚合物或氟硅烷。為了制備用于涂布防指紋涂層的表面，提出了對玻璃表面進行噴砂，并利用物理或化學(xué)氣相沉積將金屬或金屬氧化物例如氧化錫、氧化鋅、氧化鈰、鋁或鋯施加到其上。為了制備用于防指紋涂層的表面，還提出對通過濺射施加的金屬氧化物膜進行蝕亥IJ，或?qū)νㄟ^氣相沉積施加的金屬膜進行陽極氧化(eloxieren)。目的是提供具有兩個拓撲面的級形面結(jié)構(gòu)。于是，防指紋涂層構(gòu)成另外的級形拓撲結(jié)構(gòu)。這些方法同樣復(fù)雜且成本密集，并通過結(jié)構(gòu)化表面僅導(dǎo)致具有聚合物機械錨固特征的疏水和疏油表面，而未充分考慮所需要的其它性質(zhì)。
[0009]US2009/0197048描述了在玻璃覆蓋層上的防指紋涂層或易清潔涂層，其處于具有氟端基例如全氟碳基團或含全氟碳基團的外部涂層的形式，所述基團為玻璃覆蓋層提供一定程度的疏水性和疏油性，由此最小化水和油對玻璃表面的潤濕。為了將這種涂層施加到玻璃表面，提出了利用離子交換、利用特別是鉀離子代替鈉離子和/或鋰離子的嵌入，對表面進行化學(xué)固化。此外，在防指紋或易清潔涂層下面的玻璃覆蓋層可以包括如下的抗反射層，其由二氧化硅、透明硅石、氟摻雜的二氧化硅、氟摻雜的透明硅石、MgF2、HfO2、T12、ZrO2、Y2O3或Gd2O3構(gòu)成。還提出，利用蝕刻、光刻或粒子涂布在防指紋涂層之前在玻璃表面上產(chǎn)生紋理或圖案。另一個提議是，在離子交換固化之后但在防指紋涂層之前，使玻璃表面經(jīng)歷酸處理。這些方法同樣復(fù)雜且不會導(dǎo)致滿足全部所需性質(zhì)的易清潔涂層。
[0010]根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的這種易清潔層的特別的缺點是，所述層的長期耐久性受限，意味著因化學(xué)和物理侵蝕而觀察到易清潔性質(zhì)急劇下降。這種缺點不僅取決于易清潔涂層的性質(zhì)，還取決于施加所述涂層的基底表面的性質(zhì)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]因此，本發(fā)明的目的是提供一種具有如下特定表面的基底元件，其適用于以如下的方式與多種易清潔涂層相互作用，該方式使得易清潔涂層的性質(zhì)得到改進，且接觸表面具有足夠程度的所需性質(zhì)，這種基底的生產(chǎn)廉價且簡單。
[0012]本發(fā)明利用權(quán)利要求1、權(quán)利要求15、權(quán)利要求20和權(quán)利要求22至24的特征以令人預(yù)料不到的簡單方式解決了該問題。在從屬權(quán)利要求2至14、16至19和21中描述了本發(fā)明進一步有利實施方案。
[0013]發(fā)明人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，關(guān)于滿足所有所需性質(zhì)的易清潔涂層，必須在待涂布的基底元件上設(shè)置特殊的粘合促進劑層，所述粘合促進劑層設(shè)置在支撐基底上、由混合氧化物組成并具有與待后來施加上的易清潔涂層相互作用的性質(zhì)。
[0014]所述相互作用是本發(fā)明基底的粘合促進劑層與待后來施加的易清潔涂層之間的化學(xué)鍵合，更特別地是共價鍵合，并具有提高易清潔涂層的長期穩(wěn)定性的效果。
[0015]易清潔(ETC)的涂層，更特別地例如防指紋(AFP)涂層，是具有高抗污垢性品質(zhì)、易于清潔并還可展示防指紋效果的涂層。這種易清潔涂層中的材料的表面對例如指紋的沉積物例如液體、鹽、脂肪、污垢和其它材料顯示出抗性。這既指對這種沉積物具有耐化學(xué)性，還指相對于這種沉積物具有低潤濕特性。而且，其是指抑制、避免或減少在使用者接觸時形成指紋。特別地，指紋含有鹽、氨基酸和脂肪；如下的物質(zhì)，例如滑石，汗水，死亡皮膚細胞、化妝品和洗劑的殘留物；以及在某些情況中非常寬泛類型中任意類型的液體或粒子形式的污垢。
[0016]因此，這種易清潔涂層必須不僅對具有鹽的水，而且對脂肪和油性沉積物具有抵抗性，且必須對兩者都具有低潤濕特性。特別地，必須對在鹽水噴霧試驗中的高抗性進行關(guān)注。具有易清潔涂層的表面的潤濕特征必須使得表面證明既疏水又疏油，所述疏水是表面與水之間的接觸角大于90°，且所述疏油是指表面與油之間的接觸角大于50°。
[0017]現(xiàn)有技術(shù)的方案特別地用于提高接觸角的目的，所述效應(yīng)稱作荷葉效應(yīng)。這是以表面的雙重結(jié)構(gòu)為基礎(chǔ)的，其結(jié)果是所述表面與位于其上的粒子和水滴之間的接觸面積以及因此的粘合力大幅下降。通過在約10至20微米范圍內(nèi)的特征性成形的表面結(jié)構(gòu)并通過施加到所述結(jié)構(gòu)的易清潔涂層形成這種雙重結(jié)構(gòu)。液體在固體粗糙表面上的潤濕特性，關(guān)于低接觸角可通過Wenzel模型描述,或關(guān)于高接觸角可通過Cassie-Baxter模型描述,如在例如US2010/0285272中所提出的。與這種結(jié)構(gòu)效應(yīng)相反，本發(fā)明通過基于化學(xué)的路線解決了所述問題。
[0018]在一個優(yōu)選實施方案中，所述粘合促進劑層是液相涂層，更特別地是熱凝固的溶膠-凝膠層?？蛇x地，所述粘合促進劑層可以為CVD涂層(通過等離子體輔助的化學(xué)氣相沉積施加的層)，其是例如利用PECVD、？100)、低壓CVD或在大氣壓下的化學(xué)氣相沉積制造的?？蛇x地，所述粘合促進劑層可以為PVD涂層(通過等離子體輔助的物理氣相沉積施加的層)，其是例如利用濺射、熱蒸發(fā)或激光束、電子束或光弧蒸發(fā)制造的?？蛇x地，所述粘合促進劑層可以為火焰熱解層。
[0019]在一個優(yōu)選實施方案中，所述粘合促進劑層是硅的混合氧化物層，所述共混物優(yōu)選為至少一種如下元素的氧化物和/或氟化鎂:鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，優(yōu)選包含元素鋁的至少一種氧化物。在硅-鋁混合氧化物層的情況中，在混合氧化物中鋁與硅的摩爾比為約3%至約30%，優(yōu)選約5%至約20%，更優(yōu)選約7%至約12%。
[0020]用于本發(fā)明目的的氧化硅為一氧化硅與二氧化硅之間的任何氧化硅。用于本發(fā)明目的的硅被理解為金屬并理解為半金屬。硅的混合氧化物為氧化硅與至少一種其它元素的氧化物的混合物，且可以為均勻或非均勻的、化學(xué)計量或非化學(xué)計量的。
[0021]這種粘合促進劑層具有大于lnm、優(yōu)選大于10nm、更優(yōu)選大于20nm的層厚度。此處關(guān)鍵因素是，考慮與易清潔涂層相互作用的深度，能夠完全利用該層的粘合促進劑功能。
[0022]這種粘合促進劑層的折射率在1.35至1.7的范圍、優(yōu)選在1.35至1.6的范圍、更優(yōu)選在1.35至1.56的范圍內(nèi)(對于588nm的基準波長)。
[0023]可優(yōu)選通過溶膠-凝膠方法或通過涉及化學(xué)或物理氣相沉積的方法，更特別地通過濺射，施加本發(fā)明的粘合促進劑層。
[0024]本發(fā)明的巨大優(yōu)勢是，如果基底由玻璃組成或包含玻璃，則這種玻璃同樣還可以熱預(yù)應(yīng)力化并因此在已涂布之后熱硬化，而因此使涂層不會受到明顯的損傷。取決于玻璃的厚度，優(yōu)選通過使至少待硬化玻璃的區(qū)域到達約600°C至約750°C的溫度、優(yōu)選約670°C的溫度并持續(xù)例如約2分鐘至6分鐘、優(yōu)選4分鐘的時間來完成熱硬化。
[0025]本發(fā)明另外的巨大優(yōu)勢在于如下事實:在通過液相涂布、更特別地通過溶膠-凝膠涂布制造粘合促進劑層的情況中，與支撐材料熱處理原位進行涂層的熱凝固。這意味著成本高效的生產(chǎn)。
[0026]如果在施加粘合促進劑層、更特別地作為溶劑-凝膠層之前將支撐材料的表面活化，則結(jié)果可提高施加的層的粘合。利用洗滌操作或者以通過電暈放電、火焰處理、UV處理、等離子體活化和/或機械方法例如粗糙化、噴砂和/或化學(xué)法例如蝕刻的活化形式，可以有利地實施該處理。
[0027]在一個實施方案中，存在至少一個設(shè)置在抗反射層與支撐材料之間的阻擋層，所述阻擋層更特別地采用堿金屬阻擋層、更特別地鈉阻擋層的形式。這種阻擋層的厚度為3至10nm,優(yōu)選5至50nm,更特別地為10至35nm。所述阻擋層優(yōu)選包含金屬氧化物和/或半金屬氧化物。更特別地，阻擋層基本由氧化硅和/或氧化鈦和/或氧化錫形成。利用火焰熱解、通過物理方法(PVD)或通過化學(xué)(CVD)氣相沉積方法，或利用溶膠-凝膠方法，施加這種阻擋層。這種阻擋層優(yōu)選處于基本上為玻璃層的形式。
[0028]本發(fā)明另外的部分是粘合促進劑層，所述粘合促進劑層被一個或多個非常薄的中間層再分成亞層。特別地，這用于防止粘合促進劑層內(nèi)的應(yīng)力。例如，其可通過一個或多個純氧化硅中間層而分層。這種中間層的厚度為0.3至10nm，優(yōu)選I至3nm，更優(yōu)選1.5至
2.5nm。
[0029]在一個實施方案中，所述粘合促進劑層可以設(shè)置有外層。必須以通過外層在粘合促進劑層與易清潔層之間存在足夠可能的相互作用的方式實施這種外層；換言之，粘合促進劑層與后來施加的易清潔涂層之間化學(xué)鍵合，更特別地是共價鍵合。這種層例如是多孔溶膠-凝膠層或通過火焰熱解施加的薄的、部分先前的氧化物層。所述層還可以是可后來施加的易清潔涂層的支撐結(jié)構(gòu)產(chǎn)生層。這種外層可構(gòu)造為微?；蚨嗫讓?。其特別有利的是由氧化硅產(chǎn)生這種外層，在所述情況中，所述氧化硅還可以為硅的混合氧化物，更特別地是如下的氧化硅，其混合有至少一種如下元素的氧化物或氟化鎂:鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼。例如，適用于制造這種外層的方法例如是通過火焰熱解的涂布、其它熱涂布方法、低溫氣體噴霧或濺射。
[0030]用于施加本發(fā)明粘合促進劑層的合適支撐材料原則上是所有合適的材料，例如金屬、塑料、晶體、陶瓷或復(fù)合材料。然而，優(yōu)選玻璃或玻璃-陶瓷。此處特別優(yōu)選的是，使用已預(yù)應(yīng)力化的玻璃以用于其用途。這種玻璃可能已經(jīng)通過離子交換以化學(xué)方式或以熱方式預(yù)應(yīng)力化。尤其優(yōu)選的是低鐵堿石灰玻璃、硼硅酸鹽玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、鋰鋁硅酸鹽玻璃和玻璃陶瓷，它們例如是通過拉伸法例如上拉伸或下拉伸法、溢流熔融、浮法技術(shù)或從鑄造或壓延的玻璃得到的。特別地，在鑄造或壓延工藝的情況中或在浮法玻璃的情況中，通過拋光技術(shù)可以獲得例如顯示器前屏幕所需要的表面所需要的光學(xué)品質(zhì)。
[0031]可有利地使用低鐵或不含鐵的玻璃，更特別地具有小于0.05重量％、優(yōu)選小于
0.03重量％的Fe2O3含量，因為這種玻璃具有下降的吸收，并因此特別是可提高透明度。
[0032]然而，對于其它應(yīng)用，灰色玻璃或著色玻璃也是優(yōu)選的。所述支撐材料、更特別地是玻璃，可以是透明的、半透明的或不透明的。對于白色書寫板的設(shè)計，例如，優(yōu)選使用具有乳白色外觀的玻璃，例如得自Mainz，Schott AG的Opalikak'玻璃。
[0033]如果所述支撐材料是透明硅石，則可以在紫外線光譜范圍內(nèi)實現(xiàn)突出的光學(xué)性質(zhì)。用作支撐材料的還可以是光學(xué)玻璃，例如重燧石玻璃、重鑭燧石玻璃、燧石玻璃、輕質(zhì)燧石玻璃、冕玻璃、硼硅酸鹽冕玻璃、鋇冕玻璃、重冕玻璃或氟冕玻璃。
[0034]優(yōu)選使用如下玻璃組成的鋰鋁硅酸鹽玻璃作為支撐材料，其由如下物質(zhì)組成(單位為重量％):
[0035]
S1255 ~69
Al2O319~25
Li2O3~5
Na20+K20的總量O~3
M gO+C: aO+S rO+B aO 的總 P:O ~5
ZnOO~4
T12O ~5
ZrO2O ~3
Ti02+Zr02+Sn02 的總 R2~6
P,O5O ~8
FO~I B2O3O~2，
[0036]另外，以O(shè)~I重量％的量任選地添加著色氧化物例如Nd203、Fe203、Co0、Ni0、V205、Nd2O3、Mn02、T12、CuO、CeO2、Cr2O3、稀土氧化物，以及 O ~2 重量 % 的精煉劑例如 As203、Sb203、SnO2, S03、Cl、F、Ce02。
[0037]還優(yōu)選使用如下玻璃組成的堿石灰硅酸鹽玻璃作為支撐材料，其由如下物質(zhì)組成(單位為重量％):
[0038]

【權(quán)利要求】
1.一種用于涂布易清潔涂層的基底元件(11、12)，包括支撐材料(2)和涂層(3)，其特征在于，所述涂層(3)由粘合促進劑層組成，所述粘合促進劑層以使得其能夠與易清潔涂層相互作用的方式實現(xiàn)，其特征還在于，所述粘合促進劑層包含混合氧化物。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)為液相涂層，更特別地為熱凝固的溶膠-凝膠層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)為CVD涂層或火焰熱解層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)為PVD涂層，更特別地為濺射層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)被一個或多個中間層再分成亞層，所述中間層優(yōu)選具有0.3至1nm的厚度、更優(yōu)選I至3nm的厚度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)的折射率為1.35至1.7，優(yōu)選1.35至1.6，更優(yōu)選1.35至1.56。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)為硅的混合氧化物層，更特別地是如下的氧化硅層，該氧化硅層混合有至少一種如下元素的氧化物和/或氟化鎂:鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，優(yōu)選包含元素鋁的至少一種氧化物。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項所述的基底元件，其中所述粘合促進劑層(3)的厚度大于Inm,優(yōu)選大于1nm,更優(yōu)選大于20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述的基底元件，其中在所述粘合促進劑層(3)上設(shè)置外層(4)，且該外層(4)為微粒層或多孔層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基底元件，其中所述外層(4)由氧化硅或硅的混合氧化物組成。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)為金屬、塑料、晶體、陶瓷、玻璃、玻璃-陶瓷或復(fù)合材料。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)為鋰鋁硅酸鹽玻璃、堿石灰硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃或者不含堿金屬或低堿金屬的鋁硅酸鹽玻璃。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中的任一項所述的基底元件，其中所述支撐材料(2)在表面(20)上是結(jié)構(gòu)化的，且更特別地具有刻蝕面。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中的任一項所述的基底元件，其中，在將易清潔涂層施加到所述粘合促進劑層(3)之后，在中性鹽噴霧試驗中暴露較長的時間之后，與所述易清潔涂層的水接觸角，比未施加粘合促進劑層的相同易清潔涂層在所述中性鹽噴霧試驗中在暴露相應(yīng)更短時間后的水接觸角更高，其中所述較長的時間與所述相應(yīng)更短時間相比大于1.5倍、優(yōu)選大于兩倍、更優(yōu)選大于三倍。
15.一種制造用于涂布易清潔涂層的基底元件(11、12)的方法，其包括如下步驟: -提供支撐材料(2)，更特別地，所述支撐材料(2)由具有至少一個表面(20)的玻璃或玻璃-陶瓷制成，-利用溶膠-凝膠施加技術(shù)在所述支撐材料的所述至少一個表面(20)上涂布粘合促進劑前體層， -使所述粘合促進劑前體層熱凝固并將所述粘合促進劑前體層轉(zhuǎn)化為所述粘合促進劑層(3)，所述粘合促進劑層包含混合氧化物，優(yōu)選硅的混合氧化物，更優(yōu)選如下的氧化硅，其混合有至少一種如下元素的氧化物或氟化鎂:鋁、錫、鎂、磷、鈰、鋯、鈦、銫、鋇、鍶、鈮、鋅、硼，從而能夠利用噴霧、浸潰、擦拭或印刷方法將易清潔涂層施加到制得的基底元件(11)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造基底元件(11、12)的方法，其中在低于所述支撐材料的軟化溫度，更特別地在低于550°C、優(yōu)選350至500°C的溫度下，更優(yōu)選在400至500°C的基底表面溫度下，在所述支撐材料(2)上實施所述粘合促進劑前體層的熱凝固和所述粘合促進劑前體層到所述粘合促進劑層(3)的轉(zhuǎn)化。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造基底元件的方法，其中與所述支撐材料熱處理原位實施所述粘合促進劑前體層的熱凝固和所述粘合促進劑前體層到所述粘合促進劑層的轉(zhuǎn)化。
18.根據(jù)權(quán)利要求15至17中的任一項所述的制造基底元件(11、12)的方法，其中通過優(yōu)選在低于300°C的溫度下、更優(yōu)選在低于200°C的溫度下對所述粘合促進劑前體層進行干燥，進行所述粘合促進劑前體層的熱凝固和所述粘合促進劑前體層到所述粘合促進劑層(3)的轉(zhuǎn)化。
19.根據(jù)權(quán)利要求15至18中的任一項所述的制造基底元件(12)的方法，其中在所述粘合促進劑前體層熱凝固且所述粘合促進劑前體層轉(zhuǎn)化為所述粘合促進劑層(3)之后，在所述粘合促進劑層(3)上施加外層(6)，更特別地利用火焰熱解來施加，所述外層(6)優(yōu)選由氧化硅或硅的混合氧 化物組成且這種外層為微粒層或多孔層，從而利用噴霧、浸潰、擦拭或印刷方法能夠?qū)⒁浊鍧嵧繉又苯邮┘拥街频玫幕自?br> 20.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的基底元件(11、12)的用途，其用于涂布易清潔涂層，更特別地涂布有機氟化合物或納米層體系，所述基底元件(11、12)包括:支撐板(2)，更特別地是玻璃或玻璃-陶瓷的支撐板(2);和粘合促進劑層(3)，所述粘合促進劑層(3)包含混合氧化物，優(yōu)選硅的混合氧化物，更優(yōu)選如下的氧化硅，其混合有至少一種如下元素的氧化物和/或氟化續(xù):招、錫、鎂、磷、鋪、錯、鈦、銫、鋇、銀、銀、鋅、硼。
21.根據(jù)權(quán)利要求21所述的基底元件(11、12)的用途，其用于涂布易清潔涂層，更特別地涂布有機氟化合物或納米層體系，其中在所述粘合促進劑層(3)上設(shè)置外層(6)，且該外層為微?；蚨嗫讓硬⒏貏e地由氧化硅或硅的混合氧化物組成。
22.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的涂布有易清潔涂層的基底元件(11、12)的用途，其用作覆蓋層；用作監(jiān)視器的顯示屏幕或補充顯示屏幕，優(yōu)選用作3D顯示器或柔性顯示器；用作內(nèi)部和外部建筑部分中的玻璃窗例如顯示窗；用作圖片、玻璃櫥柜、柜臺、冷凍裝置或難以接近以進行清潔的裝置的玻璃窗；用作烘箱前屏幕；用作裝飾玻璃元件，尤其在相對高污染風險的暴露區(qū)域中，例如廚房、浴室或?qū)嶒炇?；或用作太陽能模塊的覆蓋層。
23.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的涂布有易清潔涂層的基底元件(11、12)的用途，其用作交互式輸入元件的基底，所述交互式輸入元件更特別地構(gòu)造為具有觸控功能、更優(yōu)選具有如下的觸控技術(shù)，其通過電阻、電容、光學(xué)起作用或者利用紅外線或表面聲波；更特別地用作具有觸控屏幕功能的顯示屏幕，更優(yōu)選用作單觸控、雙觸控或多觸控的顯示器。
24.—種具有如下的顯示元件或操作元件的裝置，所述顯示元件或操作元件包括權(quán)利要求I至19中的任一項 所述的基底元件。
【文檔編號】C03C17/00GK104080754SQ201280026654
【公開日】2014年10月1日 申請日期:2012年5月30日 優(yōu)先權(quán)日:2011年5月31日
【發(fā)明者】馬藤·沃瑟爾 申請人:肖特公開股份有限公司