專利名稱：一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，尤其是指用于高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)場
口 O
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體廠房是專門用來制備半導(dǎo)體器件的地方，目前已經(jīng)得到了廣泛應(yīng)用。由于半導(dǎo)體器件的特殊性，要求半導(dǎo)體廠房必須設(shè)計成潔凈室，以滿足恒溫恒濕以及潔凈度等要求。對于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房，如32/28nm，甚至以下的高端制程，不但對潔凈度的要求較高，且對漂浮于空氣中的懸浮化學(xué)分子氣體污染更為嚴(yán)格。現(xiàn)有的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室參見附圖廣3所示，主要包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，該大型潔凈空間內(nèi)設(shè)有各種加工設(shè)備，在各個加工設(shè)備15之間形成有一條中央走道I (central area)和多條生產(chǎn)走道2 (bay (production area)),所述生產(chǎn)走道和中央走道都是空白通道，其間通過儲存?zhèn)}3 (Stocker)的傳遞來實現(xiàn)物料的輸送(在生產(chǎn)走道和儲存?zhèn)}之間有時候還設(shè)有擺放區(qū)21 (F0UP)，用來暫時擺放待處理的半導(dǎo)體器件)；所述生產(chǎn)走道和中央走道之間是連通的；大型潔凈空間的其他區(qū)域稱之為服務(wù)區(qū)(service area),用來擺放各種加工設(shè)備?，F(xiàn)有技術(shù)中，在生產(chǎn)走道(bay)和服務(wù)區(qū)(service area)之間是直接連通的,而由于服務(wù)區(qū)內(nèi)具有很多加工設(shè)備，這些加工設(shè)備在生產(chǎn)過程中會產(chǎn)生各種廢氣或腐蝕性氣體(如氯氣、氯化氫等)，一旦這些腐蝕性氣體溢出后，這些氣體會跑到生產(chǎn)走道和中央走道的潔凈空間內(nèi)，從而直接和儲存?zhèn)}(Stocker)、擺放區(qū)(F0UP)，以及儲放于其內(nèi)的半導(dǎo)體產(chǎn)品發(fā)生接觸，從而影響了產(chǎn)品的質(zhì)量。針對上述問題，現(xiàn)有技術(shù)采用的方法是在潔凈室內(nèi)設(shè)置化學(xué)過濾器，但由于潔凈室內(nèi)的空間較大，很難做到完全清除，且該法的成本極高；這對于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房(如32/28nm高端制程)是非常致命的，原因是高端半導(dǎo)體產(chǎn)品對腐蝕性氣體的含量要求更高。因此，開發(fā)一種能避免腐蝕性氣體影響的潔凈室，對于一些高端半導(dǎo)體的生產(chǎn)廠房具有積極的現(xiàn)實意義。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室。為達到上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內(nèi)具有中央走道和至少一條生產(chǎn)走道；
所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間、潔凈空間和循環(huán)空間，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板和混凝土板；
所述中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板，使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)； 所述潔凈微環(huán)境的底部設(shè)有下密封板，其頂部設(shè)有上密封板；
所述中央走道的內(nèi)圍設(shè)有第二隔板，第二隔板設(shè)于所述隔板的內(nèi)側(cè)，隔板和第二隔板之間的天花板鏤空，使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道；
所述各個生產(chǎn)走道的天花板下設(shè)有至少一個通風(fēng)管，構(gòu)成潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的回風(fēng)通道；連接管的頂端設(shè)于天花板上并與所述架構(gòu)空間連通，其尾端位于潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的潔凈空間內(nèi)；所述隔板的底部設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門；
所述潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有化學(xué)過濾器；
所述潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)有第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)，使所述獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。上述技術(shù)方案中，所述下密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。上述技術(shù)方案中，所述化學(xué)過濾器設(shè)于天花板上的風(fēng)機濾器單元的入風(fēng)口處。所述風(fēng)機濾器單元(FFU, Fan Filter Units)為現(xiàn)有技術(shù)。上述技術(shù)方案中，所述生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板，隔板與其正下方的擺放區(qū)之間具有空隙，構(gòu)成所述氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門。上述技術(shù)方案中，所述中央走道所在的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的下密封板上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門。由于上述技術(shù)方案運用，本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點1、本發(fā)明設(shè)計得到了一種新的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，其在中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板，構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)，并使該潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓，因而，即使當(dāng)加工設(shè)備中有腐蝕性氣體溢出時，也不會進入上述潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中，從而避免了上述腐蝕性氣體對中央走道和生產(chǎn)走道內(nèi)的儲存?zhèn)}及產(chǎn)品的影響。2、本發(fā)明在中央走道的內(nèi)圍設(shè)置第二隔板，并使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道，充分利用了其內(nèi)的空間；且形成的回風(fēng)通道可以在潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中形成微循環(huán)，不僅充分利用了其內(nèi)的潔凈空氣，降低了消耗。3、本發(fā)明在各個生產(chǎn)走道的天花板下設(shè)有至少一個通風(fēng)管，構(gòu)成潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的回風(fēng)通道，從而充分利用了其內(nèi)的空間；且形成的回風(fēng)通道可以在潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中形成微循環(huán)，不僅充分利用了其內(nèi)的潔凈空氣，而且降低了消耗。4、本發(fā)明在潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)置了第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)，并使所述獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓，這不僅進一步防止了腐蝕性氣體進入潔凈微環(huán)境之中，還可以利用新風(fēng)和由回風(fēng)通道出來的潔凈空氣進行預(yù)混，實現(xiàn)溫度的預(yù)調(diào)整。5、本發(fā)明在潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)置了第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)，該第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)是獨立于原有的新風(fēng)輸送系統(tǒng)之外的，因而可以強化該第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)的進風(fēng)質(zhì)量，進一步保障潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的潔凈度。6、本發(fā)明的結(jié)構(gòu)簡單，易于制備，適于推廣應(yīng)用。


圖1是背景技術(shù)中的潔凈室的俯視圖； 圖2為圖1的A-A放大剖視 圖3為圖1的C-C局部放大剖視 圖4是本發(fā)明實施例一的俯視 圖5是圖4的B-B放大剖視 圖6是圖5的氣流不意 圖7為圖4的局部D-D局部放大剖視 圖8是圖7的氣流不意圖。其中1、中央走道；2、生產(chǎn)走道；3、儲存?zhèn)}；4、架構(gòu)空間；5、潔凈空間；6、循環(huán)空間；7、天花板；8、隔板；9、風(fēng)機濾器單元；10、高架地板；11、混凝土板；12、下密封板；13、上密封板；14、氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門；15、加工設(shè)備；16、化學(xué)過濾器；17、第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)；18、回風(fēng)通道；19、第二隔板；20、通風(fēng)管；21、擺放區(qū)。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖及實施例對本發(fā)明作進一步描述
實施例一
參見圖31所示，一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內(nèi)具有中央走道I和5條生產(chǎn)走道2 ；
所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間4、潔凈空間5和循環(huán)空間6，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板7，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板10和混凝土板11 ；所述中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板8，使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)；
所述潔凈微環(huán)境的底部設(shè)有下密封板12，其頂部設(shè)有上密封板13 ；
所述中央走道的內(nèi)圍設(shè)有第二隔板19，第二隔板設(shè)于所述隔板的內(nèi)側(cè)，隔板和第二隔板之間的天花板鏤空，使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道18 ；
所述各個生產(chǎn)走道的天花板下都設(shè)有2個通風(fēng)管20，構(gòu)成潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的回風(fēng)通道；連接管的頂端設(shè)于天花板上并與所述架構(gòu)空間連通，其尾端位于潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的潔凈空間內(nèi)；所述隔板的底部設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門14 ；
所述潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有化學(xué)過濾器16 ；
所述潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)有第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)17，使所述獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。 所述下密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。所述化學(xué)過濾器設(shè)于天花板上的風(fēng)機濾器單元9的入風(fēng)口處。所述生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板8，隔板與其正下方的擺放區(qū)之間具有空隙，構(gòu)成所述氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門14。參見圖7所示。所述中央走道所在的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的下密封板上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門。
權(quán)利要求
1.一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內(nèi)具有中央走道(I)和至少一條生產(chǎn)走道(2); 所述大型潔凈空間從上到下包括架構(gòu)空間(4)、潔凈空間(5)和循環(huán)空間(6)，架構(gòu)空間和潔凈空間之間設(shè)有天花板(7)，潔凈空間和循環(huán)空間之間設(shè)有高架地板(10)和混凝土板(11);其特征在于 所述中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板(8)，使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)； 所述潔凈微環(huán)境的底部設(shè)有下密封板(12)，其頂部設(shè)有上密封板(13)； 所述中央走道的內(nèi)圍設(shè)有第二隔板(19)，第二隔板設(shè)于所述隔板的內(nèi)側(cè)，隔板和第二隔板之間的天花板鏤空，使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道(18)； 所述各個生產(chǎn)走道的天花板下設(shè)有至少一個通風(fēng)管(20)，構(gòu)成潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的回風(fēng)通道；連接管的頂端設(shè)于天花板上并與所述架構(gòu)空間連通，其尾端位于潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的潔凈空間內(nèi)；所述隔板的底部設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門(14)； 所述潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)內(nèi)設(shè)有化學(xué)過濾器(16)； 所述潔凈微環(huán)境的頂部設(shè)有第二新風(fēng)輸送系統(tǒng)(17)，使所述獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)中的氣壓大于其外部的大型潔凈空間中的氣壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，其特征在于所述下密封板設(shè)于高架地板和混凝土板之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，其特征在于所述化學(xué)過濾器設(shè)于天花板上的風(fēng)機濾器單元(9)的入風(fēng)口處。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，其特征在于所述生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板(8)，隔板與其正下方的擺放區(qū)之間具有空隙，構(gòu)成所述氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門(14)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，其特征在于所述中央走道所在的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)的下密封板上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)風(fēng)門。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體廠房的潔凈室，包括新風(fēng)輸送系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)和一大型潔凈空間，所述大型潔凈空間內(nèi)具有中央走道和至少一條生產(chǎn)走道；所述中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板，使其所在的至少一部分架構(gòu)空間、潔凈空間，以及高架地板所在的空間構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)；所述中央走道的內(nèi)圍設(shè)有第二隔板，第二隔板設(shè)于所述隔板的內(nèi)側(cè)，隔板和第二隔板之間的天花板鏤空，使隔板和第二隔板之間的架構(gòu)空間和潔凈空間構(gòu)成回風(fēng)通道。本發(fā)明在中央走道和所有生產(chǎn)走道的四周圍設(shè)有隔板，構(gòu)成獨立的潔凈微環(huán)境結(jié)構(gòu)，從而避免了上述腐蝕性氣體對中央走道和生產(chǎn)走道內(nèi)的儲存?zhèn)}及產(chǎn)品的影響。
文檔編號E04H1/12GK103046776SQ201310009150
公開日2013年4月17日 申請日期2013年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月10日
發(fā)明者楊政諭 申請人:亞翔系統(tǒng)集成科技(蘇州)股份有限公司