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一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模的制作方法

文檔序號:1809802閱讀:259來源:國知局
專利名稱:一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及永磁鐵氧體濕壓磁瓦模具,尤其是一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模。
背景技術(shù)
永磁鐵氧體濕壓磁瓦是用專用的模具壓制成型,經(jīng)高溫?zé)Y(jié),磨加工成所需的形狀尺寸。永磁鐵氧體磁瓦呈弧形,因此模具也根據(jù)磁瓦的形狀設(shè)計(jì),依據(jù)鐵氧體的收縮特性,磁瓦模具的下凸模依據(jù)磁瓦的內(nèi)弧形狀設(shè)定,上模及中模依據(jù)磁瓦的外弧形狀設(shè)定,上模與中模之間在壓制成型時(shí),中間放過濾紙布,上模與中模的弧度是吻合的。由于鐵氧體料漿顆粒很細(xì)(通常在0.8-1.2微米),模具用液壓機(jī)壓制成型時(shí),上模固定在上主缸滑塊上,下壓到中模上,中模連接在壓機(jī)下缸上,上模下壓時(shí),下缸有3-5MPa的支撐,防止模腔里的料漿從上模和中模的吻合處溢出。這樣浮動式壓制,上下模接觸面越大,吻合的平整度、配合度就越難控制,接觸點(diǎn)受到的壓強(qiáng)就越小,難以防止料漿從模腔里溢出。目前公知的磁瓦模具在設(shè)計(jì)中模及上模時(shí),上模的平面及弧面與對應(yīng)的中模的平面及弧面處處接觸吻合,這樣壓制時(shí)上模和中模的接觸面較大,壓制時(shí)料漿容易溢出,模面臟,造成對模具的傷害,且影響品質(zhì)。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,可滿足減小上模中模之間接觸面積的上模,防止料漿溢出。本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,包括上模體,所述上模體下端面開有與中模相配的弧面,上模體的弧面外側(cè)具有與中模模腔對應(yīng)吻合的凸起接觸面,接觸面尺寸比中模模腔投影面邊界的長、寬分別大5臟,中模模腔投影面長、寬為(WOmmXLOmm),接觸面長、寬為(WO + 2X5)mmX ( L0 + 2X5)mm。所述弧面兩側(cè)上方開有吸水孔。本實(shí)用新型依據(jù)鐵氧體原料及磁瓦各向的收縮特性,設(shè)計(jì)內(nèi)弧r、外弧(R0)、弦長(W0)、軸長(LO)等生坯尺寸。依據(jù)生坯尺寸制作上模,中模,下凸模等配件,下凸模的弧度(r)及弓高由磁瓦產(chǎn)品的內(nèi)弧弧度及弓高決定,上模,中模的弧度(RO)及弓高由磁瓦產(chǎn)品的外弧弧度及弓高決定,弦長及軸高由磁瓦產(chǎn)品的弦長及軸高決定。上模與中模吻合相配,在與中模模腔對應(yīng)位置的上?;∶嬷苓吋庸ぶ睆?_、3_的貫通吸水孔,以中模模腔豎直投影面的大小為基準(zhǔn),在上模的對應(yīng)位置以中模模腔豎直投影面的周邊邊界,向外分別擴(kuò)大5mm的范圍:W1= (WO + 2X5)mm, LI= (LO + 2X5)mm,與中模緊密吻合,上模的其余位置凹陷,呈階梯狀,弧面的部分加工到(R+5)mm,平面的部分垂直向下加工,深度為T=5mm。這樣設(shè)定的上模與中模的接觸面僅有沿模腔周邊(WO + 2X5)mmX ( LO + 2X5)mm的范圍內(nèi),避 免了上模全部弧面及平面都與中模對應(yīng)面接觸,利于上模與下模的吻合,且因接觸面減小,接觸點(diǎn)的壓強(qiáng)增大,避免了料漿從吻合面間溢出,模面光潔,既保護(hù)了模具,又減少了原料浪費(fèi);上模為強(qiáng)導(dǎo)磁材料,在帶磁場壓制時(shí),磁力線絕大多數(shù)從上下模有接觸面的地方穿過,其余不接觸的部分磁阻較大,磁力線不容易穿過,這樣經(jīng)過模腔里坯體的磁力線更密,磁瓦的磁通會增大,經(jīng)實(shí)踐對比分析,磁通量可提高1_2%。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參見附圖,一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,包括上模體1,上模體I下端面開有與中模相配的弧面2,上模體I的弧面2外側(cè)具有與中模模腔對應(yīng)吻合的凸起接觸面3,接觸面3尺寸比中模模腔投影面邊界的長、寬分別大5mm,中模模腔投影面長、寬為(WOmmXLOmm),接觸面長、寬為(WO + 2X5)mmX ( LO + 2X 5)mm,弧面2兩側(cè)上方開有吸水孔4,上模體的弧面的位·置是深5mm的弧面臺階,平面的位置是深5mm的平面臺階。
權(quán)利要求1.一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,包括上模體,其特征在于:所述上模體下端面開有與中模相配的弧面,上模體的弧面外側(cè)具有與中模模腔對應(yīng)吻合的凸起接觸面,接觸面尺寸比中模模腔投影面邊界的長、寬分別大5mm,中模模腔投影面長、寬為(WOmmXLOmm),接觸面長、寬為(WO + 2X5)mmX ( L0 + 2X5)mm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,其特征在于:所述弧面兩側(cè)上方開有 吸水孔。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種永磁鐵氧體磁瓦模具階梯式上模,包括上模體,所述上模體下端面開有與中模相配的弧面,上模體的弧面外側(cè)具有與中模模腔對應(yīng)吻合的凸起接觸面,接觸面尺寸比中模模腔投影面邊界的長、寬分別大5mm,中模模腔投影面長、寬為(W0mm×L0mm),接觸面長、寬為(W0+2×5)mm×(L0+2×5)mm。本實(shí)用新型可滿足減小上模中模之間接觸面積的上模,防止料漿溢出。
文檔編號B28B7/00GK203092721SQ20132001154
公開日2013年7月31日 申請日期2013年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月9日
發(fā)明者潘定銀 申請人:安徽金寨將軍磁業(yè)有限公司
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