專利名稱：半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及建筑材料，尤其是一種具備半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線的砌體磚。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的建筑砌體用磚，大多都呈長(zhǎng)方體或正方體。砌墻時(shí)，施工人員通過目測(cè)或鉛錘效準(zhǔn)儀校準(zhǔn)墻體豎直程度，通過沙漿和敲打控制磚間距，因而，不能很好的控制墻體豎直度和砂漿的用量，導(dǎo)致施工材料的浪費(fèi)及建筑墻體的不平整。另外，為了保護(hù)墻體和建筑美觀，需要給墻體抹灰。墻體抹灰與墻體不易結(jié)合緊密，墻體變形、受潮、震動(dòng)等因素會(huì)導(dǎo)致抹灰層脫落。墻體抹灰層易脫落一直都是影響建筑良好使用的問題。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有砌體磚砌墻時(shí)控制墻體豎直度困難，墻體抹灰層易脫落的問題，發(fā)明一種半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚。本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚包括長(zhǎng)方體基塊、半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線；半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線位于長(zhǎng)方體基塊左右兩側(cè)且呈豎直方向。砌體磚為實(shí)心磚或通孔磚，通孔磚的通孔呈豎直方向貫穿分布。本實(shí)用新型的有益效果是:半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚具備半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線，使用半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚所砌的墻面，由于半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線的存在，在砌墻時(shí)容易保證磚間距一致和墻體豎直、美觀，也能有效提高抹灰層與墻體結(jié)合的力度，可以有效防止墻體抹灰層脫落。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。


圖1是本實(shí)用新型的立體圖。圖2是
圖1的主視圖。圖3是
圖1的左視圖。圖4是
圖1的俯視圖。
圖1中:1.長(zhǎng)方體基塊，2.半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線，3.磚角棱，4.通孔。
具體實(shí)施方式
如
圖1所示，長(zhǎng)方體基塊(I)的左右兩側(cè)設(shè)置半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線(2)各兩條，且垂直于半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚的頂面和底面，且與磚角棱(3)平行，通孔(4)垂直于半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體 磚的頂面和底面進(jìn)行分布。
權(quán)利要求1.一種半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚，其特征是:該砌體磚包括長(zhǎng)方體基塊和半圓形凹槽。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚，其特征是:半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線位于長(zhǎng)方體 基塊左右兩側(cè)且呈豎直方向。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚，包括長(zhǎng)方體基塊和半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線。使用半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線砌體磚所砌的墻面，由于半圓形凹槽造型基準(zhǔn)線的存在，在砌墻時(shí)容易保證磚間距一致和墻體豎直、美觀，也能有效提高抹灰層與墻體結(jié)合的力度，可以有效防止墻體抹灰層脫落。
文檔編號(hào)E04C1/00GK203129408SQ20132012848
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2013年3月20日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月20日
發(fā)明者尹翠君, 任立昭, 陸鳳桃 申請(qǐng)人:廣西大學(xué)