一種拋釉磚模具的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的模框，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設(shè)有凸起。使用此種模具制備的拋釉磚坯體層邊緣有對應(yīng)的凹槽，在高溫?zé)Y(jié)時，坯體層邊緣的凹槽能吸收坯體層和釉面層膨脹收縮的應(yīng)力，減少磚體變形，提高平整度，進(jìn)而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高優(yōu)等品率。
【專利說明】一種拋釉磚模具
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及沖壓成型的模具，尤其涉及一種拋釉磚模具。
【背景技術(shù)】
[0002]拋釉磚是近年流行的一種陶瓷墻地磚，其是在磚坯上印花后，再施以一層透明釉，經(jīng)高溫?zé)珊螅賹τ悦孢M(jìn)行全拋或半拋而制成的一種陶瓷墻地磚。因表面釉層的保護(hù)，印花層圖案不會被磨損，使用壽命長，品質(zhì)好，是人們室內(nèi)裝修首選的建材產(chǎn)品。但在實(shí)際生產(chǎn)中，此類產(chǎn)品品質(zhì)控制困難，優(yōu)等品率較低，因此其售價較高，而且廢品資源浪費(fèi)嚴(yán)重。造成以上問題的原因是拋釉磚表面的釉層較薄，多不超過Imm(較厚的釉層會影響印花層圖案的呈現(xiàn))，而因坯體層和釉層在燒成時膨脹收縮不一致，制品會有一定的翹曲缺陷，在拋光時，容易出現(xiàn)漏拋和過拋的缺陷。漏拋會使表面光澤度不一致，影響裝飾效果；過拋則會透底，甚至破壞印花圖案。因此急需解決以上問題，提高拋釉磚優(yōu)等品率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的目的在于提出一種拋釉磚模具，其模底或壓頭邊緣具有凸起，使用此種模具制備的拋釉磚坯體層邊緣有對應(yīng)的凹槽，在高溫?zé)Y(jié)時，坯體層邊緣的凹槽能吸收坯體層和釉面層膨脹收縮的應(yīng)力，減少磚體變形，提高平整度，進(jìn)而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高優(yōu)等品率。優(yōu)選地，可以先進(jìn)行磨邊，去掉邊緣有凹槽部分，再進(jìn)行拋磨。
[0004]為達(dá)此目的，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的模框，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設(shè)有凸起。
[0005]為了不影響磚坯成型后的性能，優(yōu)選地，所述凸起呈條狀，其長度為0.5?5mm、寬度為0.2?1.5臟、高度為0.2?1.5臟。
[0006]進(jìn)一步優(yōu)選,所述凸起的長度為I?3mm、寬度為0.5?1mm、高度為0.5?1mm。
[0007]為了能較好的緩解在燒成時坯體層和釉面層之間的應(yīng)力差，所述凸起分布均勻，且呈指向中心的放射狀。
[0008]使用本模具沖壓成型的拋釉磚磚坯，磚坯表面邊緣具有與模具凸起對應(yīng)的凹槽，凹槽能吸收燒成時坯體層與釉層收縮產(chǎn)生的應(yīng)力，調(diào)節(jié)應(yīng)力差，使拉伸變形控制在可接受范圍內(nèi)，提高平整度，進(jìn)而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高產(chǎn)品的優(yōu)等品率，降低生產(chǎn)成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1提供的拋釉磚模具的橫截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例1提供的拋釉磚模具中模腔結(jié)構(gòu)的俯視圖。
[0011]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施例2提供的拋釉磚模具的橫截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖4是實(shí)施例2提供的拋釉磚模具中壓頭結(jié)構(gòu)的仰視圖。[0013]附圖標(biāo)號說明:1 一模底；2—模框；3—壓頭；4一模腔；11 一凸起。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖并通過【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。應(yīng)當(dāng)說明附圖僅為說明本方案，其并未嚴(yán)格按照比例繪制，其中為說明方便會有局部的放大或縮小，而且還會有一些公知的缺省。
[0015]實(shí)施例1
[0016]參照附圖1和附圖2，本實(shí)用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底1，圍在所述模底I周圍并和所述模底I形成模腔4的?？?，與所述模腔4匹配的壓頭3，其中所述模底I邊緣處設(shè)有凸起11。
[0017]在本實(shí)施例中 凸起11呈條狀，其長度為0.5~5mm、寬度為0.2~1.5mm、高度為
0.2~1.5mm ;且分布均勻，呈指向中心的放射狀。
[0018]通過測試驗(yàn)證,在凸起11的長度為I~3mm、寬度為0.5~1mm、高度為0.5~Imm時，對于800 X 800mm或1000 X 1000mm規(guī)格的拋釉磚制品最為適用，使用其作為磚坯的成型模具，優(yōu)等品率可以達(dá)到90%以上，因翹曲變形造成的過拋漏拋缺陷率≤8%。
[0019]實(shí)施例2
[0020]參照附圖3和附圖4，本實(shí)用新型提供一種拋釉磚模具，其包括模底1，圍在所述模底I周圍并和所述模底I形成模腔4的?？?，與所述模腔4匹配的壓頭3，其中所述壓頭3的邊緣處設(shè)有凸起11。
[0021 ] 在本實(shí)施例中凸起11呈條狀，其長度為I~3mm，寬度為0.5~1mm，高度為0.5~Imm,且分布均勻，呈指向中心的放射狀。
[0022]當(dāng)然，以上僅給出了兩個優(yōu)選實(shí)施例，在實(shí)際使用中，凸起形狀可以為環(huán)狀、梯形狀等不規(guī)則形狀。
[0023]且其分布也可以是隨機(jī)在模底I或壓頭3的邊緣分布，只是效果不如實(shí)施例1和2所介紹的效果。
[0024]使用以上模具成型的磚坯，在邊緣具有與凸起對應(yīng)的凹槽，在施釉后，凹槽處的釉較厚，因此在燒成時應(yīng)力主要集中在凹槽處，調(diào)節(jié)應(yīng)力差，將應(yīng)力由集中的向內(nèi)的縱向拉伸改變?yōu)檠匕疾蹆蓚?cè)的橫向拉伸，使拉伸變形控制在可接受范圍內(nèi)，提高平整度，進(jìn)而降低拋光時漏拋和過拋的缺陷，提高產(chǎn)品的優(yōu)等品率，降低生產(chǎn)成本。
[0025]以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本實(shí)用新型的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本實(shí)用新型的原理，而不能以任何方式解釋為對本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉專绢I(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動即可聯(lián)想到本實(shí)用新型的其它【具體實(shí)施方式】，這些方式都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種拋釉磚模具，其包括模底，圍在所述模底周圍并和所述模底形成模腔的?？?，與所述模腔匹配的壓頭，其中所述模底或壓頭的邊緣處設(shè)有凸起。
2.如權(quán)利要求1所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起呈條狀，其長度為0.5?5臟、寬度為0.2?1.5臟、高度為0.2?1.5臟。
3.如權(quán)利要求2所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起的長度為I?3mm、寬度為0.5?1mm、高度為0.5?1mm。
4.如權(quán)利要求1-3中任意一項(xiàng)所述的一種拋釉磚模具，其特征在于，所述凸起分布均勻，且呈指向中心的放射狀。
【文檔編號】B28B3/02GK203485281SQ201320594066
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年9月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月26日
【發(fā)明者】史亮亮, 鐘思聰, 廖波 申請人:廣東金牌陶瓷有限公司