玻璃板的制造方法以及玻璃板的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供在槽內(nèi)與還原氣氛接觸的主表面的品質(zhì)良好的玻璃板的制造方法。本發(fā)明涉及一種玻璃板的制造方法，其包括使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在前述熔融錫上流動(dòng)而成型的工序，其特征在于，即將供給到浮法槽內(nèi)之前的熔融玻璃的作為雜質(zhì)的Au、Cu以及Ag的總含量為0.5質(zhì)量ppm以下。
【專(zhuān)利說(shuō)明】玻璃板的制造方法以及玻璃板

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及玻璃板的制造方法以及玻璃板。

【背景技術(shù)】
[0002] 作為玻璃板的成型方法，廣泛使用浮法。浮法中，使連續(xù)供給到浮法槽（以下也簡(jiǎn) 稱(chēng)為"槽"）內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在熔融錫上流動(dòng)而成型為帶板狀（例如參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn) 1)。為了防止熔融錫的氧化，槽內(nèi)的氣氛設(shè)為包含氫氣的還原氣氛。氫氣通過(guò)與從外部混 入的氧氣發(fā)生反應(yīng)來(lái)防止熔融錫的氧化。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) [0004] 專(zhuān)利文獻(xiàn)
[0005] 專(zhuān)利文獻(xiàn)1 :日本特開(kāi)2010-053032公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 發(fā)明要解決的問(wèn)題
[0007] 在槽內(nèi)對(duì)熔融玻璃進(jìn)行成型時(shí)，存在還原氣氛中的顆粒聚集、落在熔融玻璃的上 表面并附著的缺點(diǎn)。
[0008] 本發(fā)明是鑒于上述課題而作出的，其目的在于，提供在槽內(nèi)與還原氣氛接觸的主 表面的品質(zhì)良好的玻璃板的制造方法、以及玻璃板。
[0009] 用于解決問(wèn)題的方案
[0010] 為了達(dá)成上述目的，本發(fā)明的實(shí)施方式（1)的玻璃板的制造方法包括使連續(xù)供給 到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在所述熔融錫上流動(dòng)而成型的工序，其特征在于，
[0011] 即將供給到前述浮法槽內(nèi)之前的前述熔融玻璃的作為雜質(zhì)的Au、Cu以及Ag的總 含量為0.5質(zhì)量ppm以下。
[0012] 另外，本發(fā)明的實(shí)施方式（2)的玻璃板的制造方法包括使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的 熔融錫上的熔融玻璃在前述熔融錫上流動(dòng)而成型的工序，其特征在于，
[0013] 即將供給到前述浮法槽內(nèi)之前的前述熔融玻璃的作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總 含量為200質(zhì)量ppm以下。
[0014]另外，本發(fā)明的實(shí)施方式（3)的玻璃板是使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔 融玻璃在前述熔融錫上流動(dòng)而成型的玻璃板，其特征在于，
[0015] 作為雜質(zhì)的Au、Cu以及Ag的總含量為0. 5質(zhì)量ppm以下。
[0016] 另外，本發(fā)明的實(shí)施方式（4)的玻璃板是使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔 融玻璃在前述熔融錫上流動(dòng)而成型的玻璃板，其特征在于，
[0017] 作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總含量為200質(zhì)量ppm以下。
[0018] 發(fā)明的效果
[0019] 根據(jù)本發(fā)明，可提供在槽內(nèi)與還原氣氛接觸的主表面的品質(zhì)良好的玻璃板的制造 方法、以及玻璃板。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020] 圖1為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的玻璃板的制造裝置的說(shuō)明圖（1)。
[0021] 圖2為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的玻璃板的制造裝置的說(shuō)明圖（2)。

【具體實(shí)施方式】
[0022] 以下，參照附圖對(duì)用于實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。需要說(shuō)明的是，在以下的 附圖中，對(duì)相同或相應(yīng)的構(gòu)成賦予相同或相應(yīng)的附圖標(biāo)記，并省略說(shuō)明。
[0023] 本實(shí)施方式的玻璃板的制造方法例如包括熔化工序、成型工序、緩冷工序、以及切 割工序，根據(jù)需要還包括研磨工序。研磨工序根據(jù)玻璃板的用途而進(jìn)行。
[0024] 熔化工序中，將混合多種原料而調(diào)制的玻璃原料熔化，獲得熔融玻璃。玻璃原料在 被投入熔化爐內(nèi)之后，由于從燃燒器所噴射的火焰的輻射熱而被熔化，形成熔融玻璃。
[0025] 成型工序中，將熔化工序中得到的熔融玻璃連續(xù)供給到槽內(nèi)的熔融錫上，使熔融 玻璃在熔融錫上流動(dòng)而成型，得到板狀玻璃（所謂的玻璃帶）。該成型方法被稱(chēng)為浮法。為 了防止熔融錫的氧化，槽內(nèi)的氣氛設(shè)為包含氫氣的還原氣氛。板狀玻璃一邊在規(guī)定方向上 流動(dòng)一邊被冷卻，并在槽的出口附近從熔融錫上被提起。
[0026] 緩冷工序中，將成型工序中得到的板狀玻璃在緩冷爐內(nèi)緩慢冷卻。板狀玻璃一邊 在輥上水平地從緩冷爐的入口向出口搬運(yùn)一邊被緩慢冷卻。在緩冷爐的入口的內(nèi)側(cè)附近向 板狀玻璃的表面吹送亞硫酸（SO2)氣體等，在板狀玻璃的表層形成防傷膜。緩冷爐的出口 開(kāi)放在大氣中，因此緩冷爐內(nèi)的氣氛為大氣氣氛。
[0027] 切割工序中，用切割機(jī)將在緩冷工序中進(jìn)行了緩冷的板狀玻璃切割成規(guī)定尺寸。 在切割工序中，板狀玻璃的寬度方向兩邊緣部（所謂的耳部）被切除。這是因?yàn)椋鍫畈Ａ?的寬度方向兩邊緣部因表面張力等的影響而變厚。
[0028] 研磨工序中，對(duì)切割工序中得到的玻璃板的主表面進(jìn)行研磨。在研磨工序中，根據(jù) 玻璃板的用途，在槽內(nèi)與熔融錫接觸的主表面（以下稱(chēng)為"底面"）被研磨。作為底面相反 側(cè)的主表面的在槽內(nèi)與還原氣氛接觸的主表面（以下稱(chēng)為"頂面"）未被研磨。
[0029] 這樣操作，可以獲得作為產(chǎn)品的玻璃板。玻璃板可以用作例如車(chē)輛用的窗玻璃、建 筑物用的窗玻璃、顯示器用的基板、顯示器用的護(hù)罩玻璃、或者光掩模用的基板。"顯示器" 包括液晶顯示器（IXD)、等離子體顯示器（PDP)、有機(jī)EL顯示器等平板顯示器（FPD)。作為 顯示器用的基板的厚度，可例示出Imm以下。另外，在平板終端等柔性液晶面板中使用的玻 璃板的厚度優(yōu)選為〇. 3mm以下。
[0030] 玻璃板的玻璃的種類(lèi)根據(jù)玻璃板的用途來(lái)選擇。例如在LCD用的玻璃基板的情況 下，使用無(wú)堿玻璃。另外，在車(chē)輛用的窗玻璃、建筑物用的窗玻璃、以及PDP用的玻璃基板的 情況下，使用鈉鈣玻璃。在顯示器用的護(hù)照玻璃的情況下，主要使用可進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化的鈉鈣 玻璃。在光掩模用的基板的情況下，主要使用熱膨脹系數(shù)低的石英玻璃。
[0031] 關(guān)于無(wú)堿玻璃，例如以氧化物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，含有Si02:50?66%、Al2O3: 10. 5 ?24 %、B203:0 ?12 %、MgO :0 ?8 %、CaO :0 ?14. 5 %、SrO :0 ?24 %、BaO :0 ? 13. 5%、Zr02:0 ?5%、Sn0 :0 ?3%，Mg0+Ca0+Sr0+Ba0 :9 ?29. 5%，堿金屬氧化物的含量 的總量為〇. 1 %以下。
[0032] 無(wú)堿玻璃優(yōu)選為：以氧化物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，含有Si02:58?66%、A1 203:15? 22%、B203:5 ?12%、MgO :0 ?8%、CaO :0 ?9%、SrO :3 ?12. 5%、BaO :0 ?2%、SnO : 0?l%，Mg0+Ca0+Sr0+Ba0 :9?18%，堿金屬氧化物的含量的總量可以為0. 1%以下。
[0033] 關(guān)于鈉鈣玻璃，例如以氧化物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，含有Si02:65?75%、A1 203:0? 3%、CaO :5 ?15%、MgO :0 ?15%、Na2O :10 ?20%、K2O :0 ?3%、Li2O :0 ?5%、Fe2O3: 0 ?3%、Ti02:0 ?5%、Ce02:0 ?3%、BaO :0 ?5%、SrO :0 ?5%、B 203:0 ?5%、ZnO : 0 ?5%、Zr02:0 ?5%、Sn02:0 ?3%、S03:0 ?0· 5%。
[0034] 接著，基于圖1以及圖2,對(duì)上述玻璃板的成型工序的詳細(xì)情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0035] 圖1以及圖2為本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的玻璃板的制造裝置的說(shuō)明圖。圖1為槽 的俯視剖視圖，圖2為槽的側(cè)面剖視圖。
[0036] 在成型工序中，一邊使熔融玻璃30在槽10內(nèi)的熔融錫20上流動(dòng)一邊進(jìn)行冷卻而 成型為帶板狀。為了防止熔融錫20的氧化，槽10內(nèi)的上部空間被包含氫氣的還原氣氛40 充滿(mǎn)。為了防止外部氣體的侵入，槽10內(nèi)的上部空間保持為高于大氣壓的正壓。槽10中 設(shè)置有流道出口唇板50、加熱器60、進(jìn)氣路70、以及排氣路80等。
[0037] 流道出口唇板50為向槽10內(nèi)供給熔融玻璃30的供給路，設(shè)置于槽10的入口 12。 流道出口唇板50連接于制作熔融玻璃30的熔化爐。
[0038] 加熱器60為對(duì)槽10內(nèi)進(jìn)行加熱的設(shè)備，例如如圖2所示那樣從槽10的頂板吊下。 加熱器60例如在熔融玻璃30的流動(dòng)方向（X方向）和寬度方向（Y方向）上隔著間隔地設(shè) 置多個(gè)，配置為矩陣狀。X方向和Y方向是彼此正交的水平方向。
[0039] 加熱器60的輸出功率按照熔融玻璃30的溫度從槽10的入口 12朝向出口 14越 來(lái)越低的方式進(jìn)行控制。另外，加熱器60的輸出功率按照使熔融玻璃30的厚度在寬度方 向（Y方向）上均勻的方式進(jìn)行控制。
[0040] 進(jìn)氣路70是向槽10內(nèi)供給還原性氣體的通路，例如如圖2所示那樣設(shè)置于槽10 的頂板。進(jìn)氣路70在規(guī)定方向（X方向）上隔著間隔地設(shè)置多個(gè)。
[0041] 還原性氣體可以是氫氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w。氫氣在還原性氣體中所占的比率為例 如0· 1?15體積％。
[0042] 排氣路80是排出還原氣氛40的通路，例如如圖2所示那樣設(shè)置于槽10的側(cè)壁。 排氣路80在規(guī)定方向（X方向）上隔著間隔地設(shè)置多個(gè)。
[0043] 如圖2所示，將熔融玻璃30成型為帶板狀而得到的板狀玻璃（所謂的玻璃帶）在 槽10的出口 14附近從熔融錫20上被提起。然后，板狀玻璃經(jīng)過(guò)緩冷工序、切割工序等，成 為作為產(chǎn)品的玻璃板。
[0044] 另外，槽10內(nèi)的還原氣氛40除了包含從進(jìn)氣路70所供給的還原性氣體之外，還 包含從熔融錫20、熔融玻璃30揮發(fā)的成分。在從熔融錫20、熔融玻璃30揮發(fā)到還原氣氛 40中的成分（包括單體、化合物）中，蒸氣壓低的成分本來(lái)就難以揮發(fā)，為少量，因此不會(huì)成 為問(wèn)題。另一方面，蒸氣壓高的成分以氣體的形式排出到槽10之外，因此通常不會(huì)成為問(wèn) 題。但是，蒸氣壓低的成分如果形成特定的化合物（例如鹵化物）則蒸氣壓變高而變得可 揮發(fā)，但一旦揮發(fā)之后，立刻被還原氣氛40中的氫氣還原，其結(jié)果，有時(shí)在氣氛中恢復(fù)成原 本的蒸氣壓低的成分。如果是這樣，則蒸氣壓低的成分難以作為氣體而存在，因此有時(shí)在還 原氣氛40中成為聚集物，落下到熔融玻璃30上并形成壞點(diǎn)。對(duì)于作為單體的蒸氣壓低、容 易形成鹵化物的元素，例如可列舉出Au、Cu、Ag等第11族元素。第11族元素具有與堿金屬 元素相同的價(jià)電子的結(jié)構(gòu)，容易形成1價(jià)的離子，容易形成鹵化物，因此容易以鹵化物的形 式從熔融錫20、熔融玻璃30揮發(fā)到還原氣氛40中。另外，Au、Cu、Ag形成1價(jià)的離子時(shí)， 容易擴(kuò)散到熔融錫20中、熔融玻璃30中，容易移動(dòng)直至與還原氣氛40的界面處，因此容易 揮發(fā)到還原氣氛40中。還原氣氛40中的鹵化金、鹵化銅、鹵化銀被氫氣還原時(shí)，會(huì)生成初 始的蒸氣壓低的Au、Cu、Ag。而且，Au、Cu、Ag作為單體時(shí)難以以氣體的形式存在，因此會(huì)在 還原氣氛40中成為聚集物。該聚集物包含Au、Cu以及Ag中的至少1種元素，也可以還包 含Au、Cu以及Ag以外的元素。
[0045] 在本實(shí)施方式中，即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30的作為雜質(zhì)的Au、Cu、以 及Ag (以下總稱(chēng)為"Au等"）的總含量為0· 5質(zhì)量ppm以下。Au等的總含量為0· 5質(zhì)量ppm 以下時(shí)，在熔融玻璃30中，從熔融玻璃30揮發(fā)到還原氣氛40中成為聚集物的成分少。因 此，聚集物不易在還原氣氛40中生長(zhǎng)，聚集物不易落下到熔融玻璃30的上表面。由此，玻 璃板的頂面的品質(zhì)變得良好。更優(yōu)選的范圍為〇. 3質(zhì)量ppm以下，進(jìn)一步優(yōu)選的范圍為0. 1 質(zhì)量ppm以下。
[0046] 即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30中的Au等的總含量比投入熔化爐的玻璃 原料中的Au等的總含量略少。這是因?yàn)?，Au等在熔化工序中緩慢從玻璃揮發(fā)到外部。
[0047] 因此，為了使即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30中的Au等的總含量為0. 5質(zhì) 量ppm以下，玻璃原料中的Au等的總含量?jī)?yōu)選為L(zhǎng) 0質(zhì)量ppm以下。更優(yōu)選的范圍為0· 5 質(zhì)量ppm以下，進(jìn)一步優(yōu)選的范圍為0· 3質(zhì)量ppm以下。
[0048] 另外，在本實(shí)施方式中，即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30的作為雜質(zhì)的F、 Cl、Br以及I (以下總稱(chēng)為"F等"）的總含量為200質(zhì)量ppm以下。F等作為單體時(shí)沸點(diǎn)比 玻璃的成型溫度低，會(huì)促進(jìn)Au等的揮發(fā)。
[0049] 即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30中的F等的總含量為200質(zhì)量ppm以下時(shí)， 熔融玻璃30中的Au等不易揮發(fā)到還原氣氛40中，因此聚集物不易在還原氣氛40中生長(zhǎng)， 聚集物不易落下。由此，玻璃板的頂面的品質(zhì)變得良好。更優(yōu)選的范圍為100質(zhì)量ppm以 下，進(jìn)一步優(yōu)選的范圍為50質(zhì)量ppm以下。
[0050] 即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30中的F等的總含量比投入熔化爐的玻璃原 料中的F等的總含量略少。這是因?yàn)?，F(xiàn)等在熔化工序中緩慢從玻璃揮發(fā)到外部。
[0051] 因此，為了使即將供給到槽10內(nèi)之前的熔融玻璃30中的F等的總含量為200質(zhì) 量ppm以下，玻璃原料中的F等的總含量?jī)?yōu)選為500質(zhì)量ppm以下。更優(yōu)選的范圍為300 質(zhì)量ppm以下，進(jìn)一步優(yōu)選的范圍為200質(zhì)量ppm以下。
[0052] 為了頂面的高品質(zhì)化，槽10內(nèi)的熔融錫20的作為雜質(zhì)的Au等的總含量為10質(zhì) 量ppm以下、且F等的總含量為100質(zhì)量ppm以下即可。作為槽10內(nèi)的熔融錫20的原料， 例如可使用錫。
[0053] 接著，對(duì)通過(guò)上述制造方法得到的玻璃板進(jìn)行說(shuō)明。
[0054] 玻璃板的Au等的總含量為0. 5質(zhì)量ppm以下。Au等在成型工序和緩冷工序中從 玻璃揮發(fā)到外部，但揮發(fā)量與總量相比非常少。玻璃板的玻璃組成與成型工序中的恪融玻 璃30的玻璃組成大致相同。玻璃板中的Au等的總含量為0. 5質(zhì)量ppm以下時(shí)，成型工序 中的熔融玻璃30中的Au等的總含量少，在熔融玻璃30中，從熔融玻璃30揮發(fā)到還原氣氛 40中成為聚集物的核的成分少。因此，聚集物不易生長(zhǎng)，聚集物不易落下到熔融玻璃30的 上表面。由此，玻璃板的頂面的品質(zhì)變得良好。
[0055] 另外，玻璃板的F等的總含量為200質(zhì)量ppm以下。F等在成型工序和緩冷工序中 從玻璃揮發(fā)到外部，但揮發(fā)量與總量相比非常少。玻璃板的玻璃組成與成型工序中的熔融 玻璃30的玻璃組成大致相同。玻璃板中的F等的含量為200質(zhì)量ppm以下時(shí)，成型工序中 的熔融玻璃30中的F等的含量少，熔融玻璃30中的Au等不易揮發(fā)到還原氣氛40中，因此 聚集物不易在還原氣氛40中生長(zhǎng)，聚集物不易落下。由此，玻璃板的頂面的品質(zhì)變得良好。
[0056] 以上，對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并不受上述實(shí)施方式的限 制?？梢圆幻撾x本發(fā)明范圍地對(duì)上述實(shí)施方式施加各種變形和置換。
[0057] 例如，上述實(shí)施方式的熔融玻璃30在即將供給到槽10內(nèi)之前，（I)Au等的總含量 為0. 5質(zhì)量ppm以下，且（2)F等的總含量為200質(zhì)量ppm以下，但也可以?xún)H滿(mǎn)足⑴或（2)。 這是因?yàn)椋斆娴母街镌贏u等雜質(zhì)和F等雜質(zhì)這兩者過(guò)多的情況下產(chǎn)生。對(duì)于槽10內(nèi) 的熔融錫20的雜質(zhì)也同樣。
[0058] 另外，上述實(shí)施方式的玻璃板為（I)Au等的總含量為0.5質(zhì)量ppm以下，且（2)F 等的總含量為200質(zhì)量ppm以下，但也可以?xún)H滿(mǎn)足⑴或（2)。
[0059] [實(shí)施例]
[0060] 以下通過(guò)實(shí)施例等來(lái)具體說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明不限定于這些例子。
[0061] [例 1]
[0062] 在例1中，通過(guò)圖1和圖2所示的方法制造由無(wú)堿玻璃形成的玻璃板。作為槽 內(nèi)的熔融錫的原料，使用錫。以氧化物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，無(wú)堿玻璃含有S i O2:5 9. 5 %、 Al2O3:17 %, B2〇3：8 %, MgO ：3. 3 %, CaO ：4 %, SrO ：7, 6 %, BaO ：0. 1 %, ZrO 2：0. 1 %, MgO+CaO+SrO+BaO : 15 %，剩余部分為不可避免的雜質(zhì)，堿金屬氧化物的含量的總量為 0. 1%以下。
[0063] 玻璃原料、即將供給到槽內(nèi)之前的熔融玻璃、以及玻璃板中分別包含的各元素 (包括Au等、F等）的含量（質(zhì)量％ )通過(guò)濕式分析來(lái)測(cè)定。在濕式分析中，將玻璃原料等 的樣品溶于酸來(lái)進(jìn)行分析。需要說(shuō)明的是，即將供給到槽內(nèi)之前的熔融玻璃的樣品是用充 分冷卻的鐵制長(zhǎng)柄勺將槽的入口附近的熔融玻璃圉出后驟冷來(lái)制作的。
[0064] 玻璃板的頂面的附著物的平均密度（個(gè)/m2)是以目視觀察40張頂面為 1. OmX I. Om的玻璃板來(lái)測(cè)定的。
[0065] Au等的總含量、F等的總含量、以及附著物的平均密度的測(cè)定結(jié)果示于表1。
[0066] [例 2 ?例 6]
[0067] 在例2?例6中，在玻璃原料中等摩爾地添加了微量的CuO、Ag2S，除此之外與例1 同樣操作來(lái)制造玻璃板。例1?例4為實(shí)施例、例5?例6為比較例。
[0068] Au等的總含量、F等的總含量、以及附著物的平均密度與例1同樣地操作來(lái)測(cè)定。 測(cè)定結(jié)果示于表1。
[0069] [表 1]
[0070]

【權(quán)利要求】
1. 一種玻璃板的制造方法，其包括使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在所 述熔融錫上流動(dòng)而成型的工序，其特征在于， 即將供給到所述浮法槽內(nèi)之前的所述熔融玻璃的作為雜質(zhì)的Au、Cu以及Ag的總含量 為0? 5質(zhì)量ppm以下。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃板的制造方法，即將供給到所述浮法槽內(nèi)之前的所述熔 融玻璃的作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總含量為200質(zhì)量ppm以下。
3. -種玻璃板的制造方法，其包括使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在所 述熔融錫上流動(dòng)而成型的工序，其特征在于， 即將供給到所述浮法槽內(nèi)之前的所述熔融玻璃的作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總含量 為200質(zhì)量ppm以下。
4. 一種玻璃板，其為使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在所述熔融錫上流 動(dòng)而成型的玻璃板，其特征在于， 作為雜質(zhì)的Au、Cu以及Ag總含量為0.5質(zhì)量ppm以下。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的玻璃板，其中，作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總含量為200 質(zhì)量ppm以下。
6. -種玻璃板，其為使連續(xù)供給到浮法槽內(nèi)的熔融錫上的熔融玻璃在所述熔融錫上流 動(dòng)而成型的玻璃板，其特征在于， 作為雜質(zhì)的F、Cl、Br以及I的總含量為200質(zhì)量ppm以下。
7. 根據(jù)權(quán)利要求4?6中任一項(xiàng)所述的玻璃板，其中，所述玻璃板為鈉鈣玻璃，以氧化 物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，所述玻璃板含有Si02:65?75%、A1 203:0?3%、CaO :5?15%、MgO : 0 ?15%、Na20 :10 ?20%、K20 :0 ?3%、Li20 :0 ?5%、Fe203:0 ?3%、Ti02:0 ?5%、 Ce02:0 ?3%、BaO :0 ?5%、SrO :0 ?5%、B 203:0 ?5%、ZnO :0 ?5%、Zr02:0 ?5%、 Sn02:0 ?3%、S03:0 ?0? 5%〇
8. 根據(jù)權(quán)利要求4?6中任一項(xiàng)所述的玻璃板，其中，所述玻璃板為顯示器用玻璃基 板。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的玻璃板，其中，所述玻璃板的厚度為1mm以下。
10. 根據(jù)權(quán)利要求4?6中任一項(xiàng)所述的玻璃板，其中，所述玻璃板為無(wú)堿玻璃，以氧化 物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，所述玻璃板含有Si02:50?66%、A1 203:10. 5?24%、B 203:0?12%、 MgO :0 ?8%、CaO :0 ?14. 5%、SrO :0 ?24%、BaO :0 ?13. 5%、Zr02:0 ?5%、SnO :0 ? 3%，且MgO+CaO+SrO+BaO :9?29. 5%，堿金屬氧化物的含量的總量為0. 1%以下。
11. 根據(jù)權(quán)利要求4?6中任一項(xiàng)所述的玻璃板，其中，所述玻璃板為無(wú)堿玻璃， 以氧化物基準(zhǔn)的質(zhì)量％表示，所述玻璃板含有Si02:58?66%、A1 203:15?22%、B 203:5 ?12%、MgO :0 ?8%、CaO :0 ?9%、SrO :3 ?12. 5%、BaO :0 ?2%、SnO :0 ?1%，且 MgO+CaO+SrO+BaO :9?18%，堿金屬氧化物的含量的總量為0. 1%以下。
【文檔編號(hào)】C03C3/115GK104487390SQ201380038234
【公開(kāi)日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2013年7月9日 優(yōu)先權(quán)日:2012年7月17日
【發(fā)明者】谷井史朗, 市川竜麻, 林泰夫 申請(qǐng)人:旭硝子株式會(huì)社