一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法，通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，并通過(guò)絲桿螺母實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的上下移動(dòng)，以便形成松散體。本方案通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)的高速運(yùn)轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)對(duì)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的移動(dòng)，兩個(gè)伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速與絲桿螺距之間存在一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系，通過(guò)對(duì)兩個(gè)伺服電機(jī)轉(zhuǎn)速的控制，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的精確控制，從而避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)控制沉積速度實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的控制，所帶來(lái)的松散體形成不規(guī)范的問(wèn)題。
【專利說(shuō)明】一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光纖預(yù)制棒制造領(lǐng)域，尤其涉及一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]氣相軸向沉積(VapourPhase Axial Deposition Technique, VAD)是一種光纖預(yù)制棒的制造工藝。其制造工藝是在加熱的條件下，使保存在一定溫度下的原料氣化，由載流氣體裝置將氣化的原料送至噴燈，由噴燈噴出原料氣體在火焰中發(fā)生水解反應(yīng)，生成SiO2和GeO2微粒，這些微粒通過(guò)火焰送至初始種棒端面附近，最終沉積在初始種棒上。初始種棒由提升機(jī)構(gòu)帶動(dòng)并旋轉(zhuǎn)，同時(shí)與沉積速度相應(yīng)的提升，形成松散體。
[0003]目前，通常使用的對(duì)初始種棒的提升是通過(guò)提升機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)的，并且，是通過(guò)控制沉積速度，對(duì)初始種棒勻速提升的。
[0004]然而，沉積速度與多種條件有關(guān)，如:現(xiàn)場(chǎng)環(huán)境、溫度等，因此，很難實(shí)現(xiàn)對(duì)沉積速度的精確控制。因而，對(duì)初始種棒的勻速提升就會(huì)造成松散體的形成不規(guī)范，從而不能滿足生產(chǎn)的需要。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，本發(fā)明提供一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)初始種棒勻速提升造成松散體形成不規(guī)范，不能滿足生產(chǎn)的需要的問(wèn)題，其具體方案如下:
[0006]一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，包括:
[0007]第一伺服電機(jī)，與所述第一伺服電機(jī)連接的絲桿，所述絲桿豎直設(shè)置，第二伺服電機(jī)，所述絲桿與第二伺服電機(jī)通過(guò)絲桿螺母連接，所述第一伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿螺母轉(zhuǎn)動(dòng)，所述絲桿螺母與引桿的頂端連接，所述引桿的底端用于形成松散體，所述引桿豎直設(shè)置，所述絲桿螺母帶動(dòng)引桿上下移動(dòng)。
[0008]進(jìn)一步的，還包括:與所述第一伺服電機(jī)相連的第一減速器，與所述第二伺服電機(jī)相連的第二減速器，
[0009]所述第一減速器用于降低第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速，所述第二減速器用于降低第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速。
[0010]進(jìn)一步的，所述絲桿與絲桿螺母的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相同。
[0011 ] 一種氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，包括:
[0012]處理器，與所述處理器分別相連的第一伺服電機(jī)、第二伺服電機(jī)，位置檢測(cè)裝置，
[0013]所述位置檢測(cè)裝置檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的位置，當(dāng)所述松散體的最低點(diǎn)達(dá)到預(yù)定位置時(shí)，發(fā)出提升指令至所述處理器；
[0014]所述處理器接收所述提升指令，發(fā)出轉(zhuǎn)速控制信息至所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)；
[0015]所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)接收所述處理器發(fā)送的轉(zhuǎn)速控制指令，對(duì)轉(zhuǎn)速進(jìn)行相應(yīng)的變化，使所述松散體的最低點(diǎn)升高到所述預(yù)定位置之上。
[0016]進(jìn)一步的，所述轉(zhuǎn)速控制信息包括:第一轉(zhuǎn)速控制信息，第二轉(zhuǎn)速控制信息，
[0017]所述第一轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第一伺服電機(jī)，使所述第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)變化；
[0018]所述第二轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第二伺服電機(jī)，使所述第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)變化。
[0019]進(jìn)一步的，還包括:所述第一伺服電機(jī)相連的第一減速器，與所述第二伺服電機(jī)相連的第二減速器，
[0020]所述第一減速器用于降低第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速，所述第二減速器用于降低第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速。
[0021]進(jìn)一步的，所述位置檢測(cè)裝置具體為:激光控制器，
[0022]所述激光控制器在所述預(yù)定位置發(fā)出水平的激光信號(hào)，當(dāng)所述松散體的下端達(dá)到預(yù)定位置，所述激光控制器發(fā)出提升指令至所述處理器，使所述處理器控制所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化。
[0023]一種氣相軸向沉積提升速度的控制方法，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，包括:
[0024]檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的下端所在位置是否達(dá)到預(yù)定位置；
[0025]若是，則發(fā)送提升指令；
[0026]依據(jù)所述提升指令，對(duì)牽引所述松散體運(yùn)動(dòng)的伺服電機(jī)進(jìn)行轉(zhuǎn)速的控制，使所述松散體的下端位于所述預(yù)定位置的上方。
[0027]進(jìn)一步的，還包括:若檢測(cè)到所述松散體的下端所在位置未達(dá)到預(yù)定位置，則不發(fā)送指令。
[0028]進(jìn)一步的，包括:通過(guò)激光信號(hào)檢測(cè)所述松散體的下端所在位置是否達(dá)到預(yù)定位置。
[0029]從上述技術(shù)方案可以看出，本申請(qǐng)公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制裝置、系統(tǒng)及方法，通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，并通過(guò)絲桿螺母實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的上下移動(dòng)，以便形成松散體。本方案通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)的高速運(yùn)轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)對(duì)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的移動(dòng)，兩個(gè)伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速與絲桿螺距之間存在一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系，通過(guò)對(duì)兩個(gè)伺服電機(jī)轉(zhuǎn)速的控制，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的精確控制，從而避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)控制沉積速度實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的控制，所帶來(lái)的松散體形成不規(guī)范的問(wèn)題。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0030]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。[0031]圖1為本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)的一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖2為本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)的一種氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖3為本發(fā)明實(shí)施例公開(kāi)的一種氣相軸向沉積提升速度的控制方法的流程圖。【具體實(shí)施方式】
[0034]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0035]本發(fā)明公開(kāi)了一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，其結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示，包括:
[0036]第一伺服電機(jī)11，與第一伺服電機(jī)11連接的絲桿12，第二伺服電機(jī)13，絲桿12與第二伺服電機(jī)13通過(guò)絲桿螺母14連接，絲桿螺母14與引桿15的頂端連接，引桿15的底端用于形成松散體。
[0037]其中，絲桿12與引桿15均豎直設(shè)置，第一伺服電機(jī)11運(yùn)轉(zhuǎn)，帶動(dòng)絲桿12轉(zhuǎn)動(dòng)，第二伺服電機(jī)13運(yùn)轉(zhuǎn)，帶動(dòng)絲桿螺母14轉(zhuǎn)動(dòng)，絲桿螺母14的轉(zhuǎn)動(dòng)，帶動(dòng)引桿15上下移動(dòng)。
[0038]絲桿12的轉(zhuǎn)動(dòng)方向與絲桿螺母14的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相同。
[0039]第一伺服電機(jī)11的轉(zhuǎn)速、第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速以及絲桿12的螺距與引桿15向上移動(dòng)的速度具有一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系。通過(guò)第一伺服電機(jī)11、第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速以及絲桿12的螺距，可以控制引桿15的上下移動(dòng)的速度。
[0040]噴燈將其內(nèi)部的氧化物微粒噴射至引桿15上，且靠下的部位，形成松散體，由于引桿15隨著第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)向上移動(dòng),形成具有一定長(zhǎng)度的松散體。
[0041]本申請(qǐng)中通過(guò)對(duì)第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速的控制，實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿向上移動(dòng)速度的控制，使松散體形成具有一定長(zhǎng)度的規(guī)則的形狀。當(dāng)噴燈在松散體的某一個(gè)位置停留時(shí)間較長(zhǎng)時(shí)，即引桿15向上的速度相對(duì)于第一伺服電機(jī)11以及第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速較小，此時(shí)，通過(guò)控制第一伺服電機(jī)11與第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿15向上移動(dòng)的速度的控制，以便使松散體形成的較為規(guī)范，便于生產(chǎn)使用。
[0042]本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，并通過(guò)絲桿螺母實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的上下移動(dòng)，以便形成松散體。本方案通過(guò)第一伺服電機(jī)與第二伺服電機(jī)的高速運(yùn)轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)對(duì)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿的移動(dòng)，兩個(gè)伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速與絲桿螺距之間存在一定的對(duì)應(yīng)關(guān)系，通過(guò)對(duì)兩個(gè)伺服電機(jī)轉(zhuǎn)速的控制，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的精確控制，從而避免了現(xiàn)有技術(shù)中通過(guò)控制沉積速度實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的控制，所帶來(lái)的松散體形成不規(guī)范的問(wèn)題。
[0043]優(yōu)選的，本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制裝置中，還可以包括:與第一伺服電機(jī)11相連的第一減速器16,與第二伺服電機(jī)13相連的第二減速器17。
[0044]第一減速器16用于降低第一伺服電機(jī)11的轉(zhuǎn)速,第二減速器17用于降低第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速。[0045]第一減速器16的減速比、第二減速器17的減速比、第一伺服電機(jī)11的轉(zhuǎn)速、第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速、引桿15的螺距與引桿15的上升速度有一定的關(guān)系，具體可以為:
[0046]設(shè)第一伺服電機(jī)11的轉(zhuǎn)速為Ii1,第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速為n2,第一減速器16的減速比為I1，第二減速器17的減速比為i2，引桿15的螺距為S，引桿15的提升速度為V，則
[0047]V = S* (n^i^ria^ia)
[0048]因此，不僅可以通過(guò)直接控制第一伺服電機(jī)11的轉(zhuǎn)速與第二伺服電機(jī)13的轉(zhuǎn)速，實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿15提升速度的控制，還可以通過(guò)合理控制第一減速器16的減速比與第二減速器17的減速比，實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿15提升速度的控制。
[0049]本實(shí)施例公開(kāi)了一種氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，其結(jié)構(gòu)示意圖如圖2所示，包括:
[0050]處理器21，與處理器21分別相連的第一伺服電機(jī)22、第二伺服電機(jī)23、位置檢測(cè)裝置24。
[0051]位置檢測(cè)裝置24檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的位置，當(dāng)松散體的最低點(diǎn)降低至預(yù)定位置時(shí)，發(fā)出提升指令至處理器21。
[0052]處理器21接收提升指令，發(fā)出轉(zhuǎn)速控制信息至第一伺服電機(jī)22、第二伺服電機(jī)23。
[0053]第一伺服電機(jī)22及第二伺服電機(jī)23接收處理器21發(fā)送的轉(zhuǎn)速控制指令，分別對(duì)轉(zhuǎn)速進(jìn)行相應(yīng)的變化，提高松散體的提升速度，使松散體的最低點(diǎn)升高到預(yù)定位置之上。
[0054]其具體的應(yīng)用可結(jié)合圖1所示的氣相軸向沉積提升速度的控制裝置。即當(dāng)位置檢測(cè)裝置24檢測(cè)到引桿下端的松散體的最低點(diǎn)降低至預(yù)定位置處，位置檢測(cè)裝置24發(fā)出提升指令至處理器21，處理器21根據(jù)該提升指令，發(fā)出轉(zhuǎn)速控制信息至第一伺服電機(jī)22及第二伺服電機(jī)23，第一伺服電機(jī)22對(duì)其轉(zhuǎn)速進(jìn)行相應(yīng)的變化，使絲桿的旋轉(zhuǎn)速度發(fā)生變化，第二伺服電機(jī)23對(duì)其轉(zhuǎn)速進(jìn)行相應(yīng)的變化，使絲桿螺母的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化，絲桿螺母發(fā)生變化后的轉(zhuǎn)速帶動(dòng)引桿向上移動(dòng)的速度發(fā)生變化，即引桿的提升速度發(fā)生變化，引桿的提升速度較之前變快，使松散體的底端能夠及時(shí)上升至預(yù)定位置之上。
[0055]其中，轉(zhuǎn)速控制信息可以包括:第一轉(zhuǎn)速控制信息、第二轉(zhuǎn)速控制信息。
[0056]第一轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第一伺服電機(jī)22，,使第一伺服電機(jī)22的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)的變化，第二轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第二伺服電機(jī)23，使第二伺服電機(jī)23的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)的變化。
[0057]第一轉(zhuǎn)速控制信息與第二轉(zhuǎn)速控制信息可以相同，也可以不同。
[0058]本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，通過(guò)位置檢測(cè)裝置檢測(cè)松散體的位置，當(dāng)松散體的最低點(diǎn)達(dá)到預(yù)定位置時(shí)，處理器控制第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化，使松散體的提升速度提高，進(jìn)而使松散體的底端位于預(yù)定位置之上。本方案通過(guò)檢測(cè)松散體的預(yù)定位置，并通過(guò)兩個(gè)伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)松散體提升速度的控制。避免了松散體始終以一定的速度向上移動(dòng)，而造成的微粒在松散體的一部分堆積，形成不規(guī)范的問(wèn)題。
[0059]優(yōu)選的，本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)中，還可以包括:
[0060]與第一伺服電機(jī)22相連的第一減速器25,與第二伺服電機(jī)23相連的第二減速器26。[0061]第一減速器25用于降低第一伺服電機(jī)22的轉(zhuǎn)速,第二減速器26用于降低第二伺服電機(jī)23的轉(zhuǎn)速。
[0062]第一減速器25的減速比、第二減速器26的減速比、第一伺服電機(jī)22的轉(zhuǎn)速、第二伺服電機(jī)23的轉(zhuǎn)速、引桿的螺距與引桿的上升速度有一定的關(guān)系，具體可以為:
[0063]設(shè)第一伺服電機(jī)22的轉(zhuǎn)速為Ii1,第二伺服電機(jī)23的轉(zhuǎn)速為n2,第一減速器25的減速比為I1，第二減速器26的減速比為i2，引桿的螺距為S，引桿的提升速度為V，則
[0064]V = S* (n^i^ria^ia)
[0065]因此，不僅可以通過(guò)直接控制第一伺服電機(jī)22的轉(zhuǎn)速與第二伺服電機(jī)23的轉(zhuǎn)速，實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的控制，還可以通過(guò)合理控制第一減速器25的減速比與第二減速器26的減速比，實(shí)現(xiàn)對(duì)引桿提升速度的控制。
[0066]優(yōu)選的，本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)中，位置檢測(cè)裝置24可以具體為:激光控制器。
[0067]激光控制器位于引桿底端的一側(cè)，其在預(yù)定位置發(fā)出水平的激光信號(hào)，當(dāng)松散體的下端達(dá)到預(yù)定位置時(shí)，松散體的下端擋住激光信號(hào)，此時(shí)，激光控制器發(fā)出提升指令至處理器，使處理器控制第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化，從而使松散體的提升速度加快，使松散體下端位于預(yù)定位置之上，不對(duì)激光信號(hào)進(jìn)行遮擋。
[0068]本實(shí)施例公開(kāi)的方案中，采用激光控制器實(shí)現(xiàn)對(duì)松散體位置的檢測(cè)，能夠精確的確定其位置，實(shí)現(xiàn)在激光控制器剛檢測(cè)到松散體降低至預(yù)定位置時(shí)，即對(duì)第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速進(jìn)行變化，其靈敏度高，反應(yīng)速度快。
[0069]本實(shí)施例公開(kāi)了一種氣相軸向沉積提升速度的控制方法，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，其流程圖如圖3所示，包括:
[0070]步驟S31、檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的下端所在位置是否降低至預(yù)定位置；
[0071]通過(guò)水平的激光信號(hào)檢測(cè)松散體所在的位置，判斷松散體的下端是否降低至預(yù)定位置，而預(yù)定位置即為水平的激光信號(hào)。
[0072]步驟S32、若是，則發(fā)送提升指令；
[0073]步驟S33、依據(jù)提升指令，對(duì)牽引松散體運(yùn)動(dòng)的伺服電機(jī)進(jìn)行轉(zhuǎn)速的控制，使松散體的下端位于預(yù)定位置的上方。
[0074]松散體的上下移動(dòng)時(shí)通過(guò)絲桿牽引的，其具體的結(jié)構(gòu)圖如圖1所示，第一伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿的轉(zhuǎn)動(dòng)，第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿螺母的轉(zhuǎn)動(dòng)，絲桿螺母的轉(zhuǎn)動(dòng)帶動(dòng)引桿的向上移動(dòng)，松散體在引桿的底端凝聚。
[0075]通過(guò)對(duì)第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)轉(zhuǎn)速的控制，達(dá)到對(duì)引桿提升速度的控制，從而使得松散體提升的速度增加，使得松散體的下端向上移至預(yù)定位置的上方。
[0076]本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制方法，通過(guò)檢測(cè)松散體的位置，當(dāng)松散體的最低點(diǎn)達(dá)到預(yù)定位置時(shí)，控制第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化，使松散體的提升速度提高，進(jìn)而使松散體的底端位于預(yù)定位置之上。本方案通過(guò)檢測(cè)松散體的預(yù)定位置，并通過(guò)兩個(gè)伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)松散體提升速度的控制。避免了松散體始終以一定的速度向上移動(dòng)，而造成的微粒在松散體的一部分堆積，形成不規(guī)范的問(wèn)題。
[0077]進(jìn)一步的，本實(shí)施例公開(kāi)的氣相軸向沉積提升速度的控制方法，還包括:[0078]步驟S34、若松散體的下端未達(dá)到預(yù)定位置，不發(fā)送指令。
[0079]當(dāng)松散體的下端未達(dá)到預(yù)定位置時(shí)，松散體可以按照現(xiàn)有的速度繼續(xù)提升。
[0080]本說(shuō)明書(shū)中各個(gè)實(shí)施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個(gè)實(shí)施例重點(diǎn)說(shuō)明的都是與其他實(shí)施例的不同之處，各個(gè)實(shí)施例之間相同相似部分互相參見(jiàn)即可。對(duì)于實(shí)施例公開(kāi)的裝置而言，由于其與實(shí)施例公開(kāi)的方法相對(duì)應(yīng)，所以描述的比較簡(jiǎn)單，相關(guān)之處參見(jiàn)方法部分說(shuō)明即可。
[0081]專業(yè)人員還可以進(jìn)一步意識(shí)到，結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的各示例的單元及算法步驟，能夠以電子硬件、計(jì)算機(jī)軟件或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)現(xiàn)，為了清楚地說(shuō)明硬件和軟件的可互換性，在上述說(shuō)明中已經(jīng)按照功能一般性地描述了各示例的組成及步驟。這些功能究竟以硬件還是軟件方式來(lái)執(zhí)行，取決于技術(shù)方案的特定應(yīng)用和設(shè)計(jì)約束條件。專業(yè)技術(shù)人員可以對(duì)每個(gè)特定的應(yīng)用來(lái)使用不同方法來(lái)實(shí)現(xiàn)所描述的功能，但是這種實(shí)現(xiàn)不應(yīng)認(rèn)為超出本發(fā)明的范圍。
[0082]結(jié)合本文中所公開(kāi)的實(shí)施例描述的方法或算法的步驟可以直接用硬件、處理器執(zhí)行的軟件模塊，或者二者的結(jié)合來(lái)實(shí)施。軟件模塊可以置于隨機(jī)存儲(chǔ)器(RAM)、內(nèi)存、只讀存儲(chǔ)器(ROM)、電可編程ROM、電可擦除可編程ROM、寄存器、硬盤(pán)、可移動(dòng)磁盤(pán)、CD-ROM、或【技術(shù)領(lǐng)域】?jī)?nèi)所公知的任意其它形式的存儲(chǔ)介質(zhì)中。
[0083]對(duì)所公開(kāi)的實(shí)施例的上述說(shuō)明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來(lái)說(shuō)將是顯而易見(jiàn)的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開(kāi)的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，其特征在于，包括: 第一伺服電機(jī)，與所述第一伺服電機(jī)連接的絲桿，所述絲桿豎直設(shè)置，第二伺服電機(jī)，所述絲桿與第二伺服電機(jī)通過(guò)絲桿螺母連接，所述第一伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二伺服電機(jī)帶動(dòng)絲桿螺母轉(zhuǎn)動(dòng)，所述絲桿螺母與引桿的頂端連接，所述引桿的底端用于形成松散體，所述引桿豎直設(shè)置，所述絲桿螺母帶動(dòng)引桿上下移動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括:與所述第一伺服電機(jī)相連的第一減速器，與所述第二伺服電機(jī)相連的第二減速器， 所述第一減速器用于降低第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速，所述第二減速器用于降低第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述絲桿與絲桿螺母的轉(zhuǎn)動(dòng)方向相同。
4.一種氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制裝置，其特征在于，包括: 處理器，與所述處理器分別相連的第一伺服電機(jī)、第二伺服電機(jī)、位置檢測(cè)裝置， 所述位置檢測(cè)裝置檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的位置，當(dāng)所述松散體的最低點(diǎn)降低至預(yù)定位置時(shí)，發(fā)出提升指令至所述處理器； 所述處理器接收所述提升指令，發(fā)出轉(zhuǎn)速控制信息至所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)； 所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)接收所述處理器發(fā)送的轉(zhuǎn)速控制指令，分別對(duì)轉(zhuǎn)速進(jìn)行相應(yīng)的變化，提高松散體的提升速度，使松散體的最低點(diǎn)升高到所述預(yù)定位置之上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述轉(zhuǎn)速控制信息包括:第一轉(zhuǎn)速控制信息，第二轉(zhuǎn)速控制信息， 所述第一轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第一伺服電機(jī)，使所述第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)變化； 所述第二轉(zhuǎn)速控制信息用于控制第二伺服電機(jī)，使所述第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生相應(yīng)變化。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，還包括:所述第一伺服電機(jī)相連的第一減速器，與所述第二伺服電機(jī)相連的第二減速器， 所述第一減速器用于降低第一伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速，所述第二減速器用于降低第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述位置檢測(cè)裝置具體為:激光控制器， 所述激光控制器在所述預(yù)定位置發(fā)出水平的激光信號(hào)，當(dāng)所述松散體的下端達(dá)到預(yù)定位置，所述激光控制器發(fā)出提升指令至所述處理器，使所述處理器控制所述第一伺服電機(jī)及第二伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速發(fā)生變化。
8.一種氣相軸向沉積提升速度的控制方法，應(yīng)用上述氣相軸向沉積提升速度的控制系統(tǒng)，其特征在于，包括: 檢測(cè)經(jīng)過(guò)氣相軸向沉積形成的松散體的下端所在位置是否降低至預(yù)定位置； 若是，則發(fā)送提升指令； 依據(jù)所述提升指令，對(duì)牽引所述松散體運(yùn)動(dòng)的伺服電機(jī)進(jìn)行轉(zhuǎn)速的控制，使所述松散體的下端位于所述預(yù)定位置的上方。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于，還包括:若檢測(cè)到所述松散體的下端所在位置未達(dá)到預(yù)定位置，則不發(fā)送指令。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，包括:通過(guò)激光信號(hào)檢測(cè)所述松散體的下端所在位置是 否達(dá)到預(yù)定位置。
【文檔編號(hào)】C03B37/018GK104016581SQ201410282710
【公開(kāi)日】2014年9月3日 申請(qǐng)日期:2014年6月23日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月23日
【發(fā)明者】陳堅(jiān)盾 申請(qǐng)人:浙江富通光纖技術(shù)有限公司