一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，包括機(jī)架、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、施釉裝置、加熱裝置和若干用于放置火花塞坯件的圓筒形支架，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、帶輪傳動(dòng)裝置和鏈條，機(jī)架上開(kāi)設(shè)有環(huán)形的軌道，鏈條上安裝有滾輪并通過(guò)皮帶傳動(dòng)裝置由電機(jī)驅(qū)動(dòng)在所述軌道內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)，鏈條上豎直設(shè)有若干轉(zhuǎn)軸，每個(gè)轉(zhuǎn)軸上均套設(shè)有圓筒形支架；所述機(jī)架上還設(shè)有用于放置待上釉坯體的匣缽。本發(fā)明在環(huán)形軌道上設(shè)有兩個(gè)加熱裝置，火花塞坯件在噴釉之前先進(jìn)行加熱干燥，坯件表面不易掛釉、釉面均勻，而且坯件在鏈條帶動(dòng)公轉(zhuǎn)的同時(shí)通過(guò)軌道內(nèi)側(cè)設(shè)置的橡膠墊與圓筒形支架之間的擠壓摩擦作用使得坯件自身實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)，保證坯件表面釉層厚度均勻一致，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作易行。
【專利說(shuō)明】一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】：
[0001] 本發(fā)明涉及一種施釉機(jī)，更具體的說(shuō)是涉及一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置。

【背景技術(shù)】：
[0002] 日前，在陶瓷行業(yè)內(nèi)很多企業(yè)仍然采用傳統(tǒng)的手工施釉方式，但手工施釉具有釉 面厚薄不勻，易掛釉，質(zhì)量欠佳且效率低等不足，造成生產(chǎn)成本高，隨著科技的不斷進(jìn)步和 發(fā)展，很多企業(yè)對(duì)于陶瓷坯體的施釉工藝方式逐漸采用自動(dòng)施釉方式代替?zhèn)鹘y(tǒng)的手工施 軸。
[0003] 申請(qǐng)?zhí)枮?01120148243. 1的發(fā)明專利公開(kāi)了一種適用于小件陶瓷制品的施釉 機(jī)，包括基座，在基座上設(shè)有加熱源裝置及釉料回收吸塵裝置，在加熱源裝置的進(jìn)口處及釉 料回收吸塵裝置吸口處分別設(shè)有一自轉(zhuǎn)裝置，首尾閉合的公轉(zhuǎn)鏈條由傳動(dòng)裝置帶動(dòng)在基座 上循環(huán)旋轉(zhuǎn)，在公轉(zhuǎn)鏈條上設(shè)有自轉(zhuǎn)軸裝置，自轉(zhuǎn)裝置通過(guò)摩擦力帶動(dòng)自轉(zhuǎn)軸裝置旋轉(zhuǎn)，在 釉料回收吸塵裝置吸口處上方設(shè)有一對(duì)放置在自轉(zhuǎn)軸裝置上的陶瓷制品進(jìn)行噴釉的噴釉 槍，該發(fā)明創(chuàng)造適用于小件陶瓷制品的施釉機(jī)，采用公轉(zhuǎn)與自轉(zhuǎn)速的組合配制，使得釉層厚 度均勻一致，可控在0. 04mm-0. 06mm，同時(shí)，簡(jiǎn)化作業(yè)程序，節(jié)省作業(yè)場(chǎng)地，優(yōu)化作業(yè)環(huán)境，減 輕作業(yè)強(qiáng)度，該裝置對(duì)陶瓷制品直接進(jìn)行噴釉，噴釉后經(jīng)加熱干燥完成施釉，但當(dāng)陶瓷制品 暴露于空氣中較長(zhǎng)時(shí)間后會(huì)因吸收水分而造成噴釉時(shí)易掛釉，影響產(chǎn)品質(zhì)量，結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成 本較高。


【發(fā)明內(nèi)容】
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[0004] 本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，提供一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置， 環(huán)形軌道上設(shè)有兩個(gè)加熱裝置，火花塞坯件在噴釉之前先進(jìn)行加熱干燥，坯件表面不易掛 釉、釉面均勻，而且坯件在鏈條帶動(dòng)公轉(zhuǎn)的同時(shí)通過(guò)軌道內(nèi)側(cè)設(shè)置的橡膠墊與圓筒形支架 之間的擠壓摩擦作用使得坯件自身實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)，保證坯件表面釉層厚度均勻一致，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、 操作易行。
[0005] 本發(fā)明的技術(shù)解決措施如下：
[0006] 一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，包括機(jī)架、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、用于對(duì)陶瓷坯件進(jìn)行噴釉的 施釉裝置和加熱裝置，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、帶輪傳動(dòng)裝置和鏈條，所述施釉裝置和加熱 裝置均設(shè)置在機(jī)架上，其特征在于：還包括若干用于放置火花塞坯件的圓筒形支架，所述機(jī) 架上開(kāi)設(shè)有環(huán)形的軌道，該軌道包括直線部分和弧形部分；所述鏈條置于軌道內(nèi)，鏈條上安 裝有滾輪并通過(guò)皮帶傳動(dòng)裝置由電機(jī)驅(qū)動(dòng)在所述軌道內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)；所述鏈條上堅(jiān)直設(shè)有若 干轉(zhuǎn)軸，每個(gè)轉(zhuǎn)軸上均套設(shè)有圓筒形支架；所述加熱裝置底部沿其長(zhǎng)度方向開(kāi)設(shè)有與所述 軌道相適配的凹槽，該加熱裝置設(shè)置在所述軌道直線部分正上方；所述施釉裝置位于加熱 裝置的一端，其出釉口置于所述圓筒形支架的上方；所述軌道弧形部分的內(nèi)側(cè)設(shè)有橡膠墊， 機(jī)架上還設(shè)有用于放置待上釉坯體的匣缽。
[0007] 作為改進(jìn)，所述施釉裝置包括加釉罐、出釉閥和出釉管，出釉管通過(guò)出釉閥與加釉 罐出口連接，并通過(guò)支架固定于機(jī)架上。
[0008] 作為改進(jìn)，所述軌道兩側(cè)的直線部分上均設(shè)有加熱裝置，加熱裝置上凹槽的高度 高于火花塞坯件的長(zhǎng)度，保證火花塞坯件放置在圓筒形支架內(nèi)時(shí)順利通過(guò)所述加熱裝置。
[0009] 作為改進(jìn)，所述轉(zhuǎn)軸的直徑與圓筒形支架的內(nèi)徑相適配，其高度是圓筒形支架高 度的1/3。
[0010] 本發(fā)明的有益效果在于：
[0011] 本發(fā)明在環(huán)形軌道的直線部分上均設(shè)有加熱裝置，火花塞坯件置于圓筒形支架內(nèi) 在鏈條帶動(dòng)沿軌道轉(zhuǎn)動(dòng)，在噴釉之前經(jīng)一側(cè)的加熱裝置先進(jìn)行加熱干燥后，經(jīng)過(guò)軌道的弧 形部分時(shí)通過(guò)軌道內(nèi)側(cè)設(shè)置的橡膠墊與圓筒形支架之間的摩擦作用使得坯件自身實(shí)現(xiàn)自 轉(zhuǎn)的同時(shí)，施釉裝置的出釉口對(duì)坯件進(jìn)行連續(xù)噴釉，坯件表面不易掛釉、釉面均勻、坯件表 面釉層厚度均勻一致，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作易行。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】：
[0012] 下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說(shuō)明：
[0013] 圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014] 圖2為本發(fā)明中鏈條的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】：
[0015] 以下所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，并非對(duì)本發(fā)明的范圍進(jìn)行限定。
[0016] 實(shí)施例
[0017] 如圖1所示，一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，包括機(jī)架1、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2、用于對(duì)陶瓷 坯件進(jìn)行噴釉的施釉裝置3、加熱裝置4和若干用于放置火花塞坯件的圓筒形支架5,所述 傳動(dòng)機(jī)構(gòu)2包括電機(jī)21、皮帶傳動(dòng)裝置22和鏈條23,機(jī)架1的工作面上開(kāi)設(shè)有由直線部分 和弧形部分組成的環(huán)形軌道11，鏈條23置于該軌道11內(nèi)，鏈條23在軌道11直線部分與弧 形部分相接處均安裝有滾輪（此為公知技術(shù)，圖中為畫出），并通過(guò)皮帶傳動(dòng)裝置22由電機(jī) 21驅(qū)動(dòng)在所述軌道11內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)；如圖2所示，所述鏈條23上堅(jiān)直設(shè)有若干轉(zhuǎn)軸24,每個(gè) 轉(zhuǎn)軸24均套設(shè)有圓筒形支架5且依次置于軌道11內(nèi)，轉(zhuǎn)軸24的直徑與圓筒形支架5的內(nèi) 徑相適配，其高度是圓筒形支架5高度的1/3,實(shí)現(xiàn)圓筒形支架5可繞該轉(zhuǎn)軸24轉(zhuǎn)動(dòng)；所述 軌道11弧形部分的內(nèi)側(cè)設(shè)有橡膠墊12,機(jī)架1上還設(shè)有用于放置待上釉坯體的匣缽6。
[0018] 所述施釉裝置3設(shè)置在機(jī)架1的一端，施釉裝置3包括加釉罐31、出釉閥32和出 釉管33,出釉管33通過(guò)出釉閥32與加釉罐31出口連接，并通過(guò)支架34固定于機(jī)架1上， 其出釉口置于所述圓筒形支架345的上方；所述軌道11兩側(cè)的直線部分的正上方均設(shè)置有 加熱裝置4,加熱裝置4底部沿其長(zhǎng)度方向開(kāi)設(shè)有與所述軌道11相適配的凹槽41，為保證 火花塞坯件放置在圓筒形支架345內(nèi)能順利通過(guò)所述加熱裝置4,該凹槽41的高度高于火 花塞坯件的長(zhǎng)度。
[0019] 工作原理如下：
[0020] 將帶上釉的坯體放置在機(jī)架1上的匣缽6內(nèi)，人工將火花塞坯體逐一依次放置在 圓筒形支架5內(nèi)，并將坯體待上釉的部分露出圓筒形支架345,啟動(dòng)加熱裝置4,坯體隨鏈條 23在軌道11內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)，先經(jīng)一側(cè)的加熱裝置4進(jìn)行預(yù)熱干燥，在通過(guò)軌道11內(nèi)側(cè)設(shè)置的 橡膠墊12與圓筒形支架5之間的摩擦作用使得坯件自身實(shí)現(xiàn)自轉(zhuǎn)的同時(shí)，施釉裝置3的出 釉口將對(duì)坯體進(jìn)行連續(xù)噴釉，經(jīng)噴釉后的坯體經(jīng)另一側(cè)的加熱裝置4進(jìn)行加熱干燥即完成 上釉，從圓筒形支架345上取下即可，通過(guò)在環(huán)形軌道11上設(shè)有兩個(gè)加熱裝置4,火花塞坯 件在噴釉之前先進(jìn)行加熱干燥，坯件表面不易掛釉、釉面均勻，保證坯件表面釉層厚度均勻 一致，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作易行。
【權(quán)利要求】
1. 一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，包括機(jī)架（1)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)（2)、用于對(duì)陶瓷坯件進(jìn)行 噴釉的施釉裝置（3)和加熱裝置（4)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)（2)包括電機(jī)（21)、皮帶傳動(dòng)裝置（22) 和鏈條（23)，所述施釉裝置（3)和加熱裝置（4)均設(shè)置在機(jī)架（1)上，其特征在于：還包括 若干用于放置火花塞坯件的圓筒形支架（5)，所述機(jī)架（1)上開(kāi)設(shè)有環(huán)形的軌道（11)，該軌 道（11)包括直線部分和弧形部分；所述鏈條（23)置于軌道（11)內(nèi)，鏈條（23)上安裝有滾 輪并通過(guò)皮帶傳動(dòng)裝置（22)由電機(jī)（21)驅(qū)動(dòng)在所述軌道（11)內(nèi)循環(huán)轉(zhuǎn)動(dòng)；所述鏈條（23) 上堅(jiān)直設(shè)有若干轉(zhuǎn)軸（24)，每個(gè)轉(zhuǎn)軸（24)上均套設(shè)有圓筒形支架（5);所述加熱裝置（4) 底部沿其長(zhǎng)度方向開(kāi)設(shè)有與所述軌道（11)相適配的凹槽（41)，該加熱裝置（4)設(shè)置在所述 軌道（11)直線部分正上方；所述施釉裝置（3)位于加熱裝置（4)的一端，其出釉口置于所 述圓筒形支架（5)的上方；所述軌道（11)弧形部分的內(nèi)側(cè)設(shè)有橡膠墊（12)，機(jī)架（1)上還 設(shè)有用于放置待上釉坯體的匣缽（6)。
2. 如權(quán)利要求1所述的一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，其特征在于：所述施釉裝置（3) 包括加釉罐（31)、出釉閥（32)和出釉管（33)，出釉管（33)通過(guò)出釉閥（32)與加釉罐（31) 出口連接，并通過(guò)支架（34)固定于機(jī)架（1)上。
3. 如權(quán)利要求1所述的一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，其特征在于：所述軌道（11)兩 側(cè)的直線部分上均設(shè)有加熱裝置（4)，加熱裝置（4)上凹槽（41)的高度高于火花塞坯件的 長(zhǎng)度。
4. 如權(quán)利要求1所述的一種陶瓷火花塞坯件上釉裝置，其特征在于：所述轉(zhuǎn)軸（24)的 直徑與圓筒形支架（5)的內(nèi)徑相適配，其高度是圓筒形支架（5)高度的1/3。
【文檔編號(hào)】C04B41/86GK104193413SQ201410421776
【公開(kāi)日】2014年12月10日 申請(qǐng)日期:2014年8月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月25日
【發(fā)明者】董寶亮 申請(qǐng)人:長(zhǎng)興威力窯業(yè)有限公司