浮雕幻影釉面磚的釉及制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種浮雕幻影釉面磚的釉及制備，包括有由熔塊b、硅酸鋯、高嶺土、煅燒高嶺土、鉀長石粉、燒滑石、氧化鋁粉、石英粉、羧甲基纖維素、三聚磷酸鈉、水配制成的底釉；由熔塊、熔塊b、熔塊c、高嶺土、羧甲基纖維素、三聚磷酸鈉、水配制成的面釉；以及由基礎(chǔ)釉粉、氧化鋅、氧化錫、氧化鈰、陶瓷膠輥印油配制成的浮雕幻影印花釉。其中基礎(chǔ)釉粉由熔塊c、高嶺土、羧甲基纖維素、三聚磷酸鈉、水配制而成。在磚坯上依次施底釉、面釉后印浮雕幻影印花釉和噴墨印花，最后燒制成浮雕幻影釉面磚。該產(chǎn)品具有獨特的裝飾效果及視覺美感，而且各項指標均達到標準要求，具備較強的普適性，易于在行業(yè)內(nèi)推廣。
【專利說明】淳雕幻影釉面磚的釉及制備

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及釉面磚的制備【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其是指一種浮雕幻影釉面磚的釉及制備。

【背景技術(shù)】
[0002] 陶瓷磚家族中的一個大類--釉面磚，它所具有多色彩、多變化等優(yōu)勢，使其在家 居裝修中擔任著極為重量的角色，是廚房、衛(wèi)生間、陽臺等空間裝飾的主力軍，這些私密空 間更追求藝術(shù)品位，更追求時裝化。近年來，隨著噴墨打印技術(shù)在陶瓷裝飾上的應(yīng)用，使釉 面磚的表面裝飾更加豐富，圖案更新更快捷，設(shè)計的范圍更為廣闊，但它只局限于單一的平 面圖案裝飾。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明的目的在于克服上述缺點，提供一種浮雕幻影釉面磚的釉及其制備方法， 在不對現(xiàn)有釉面磚的生產(chǎn)工藝做出重大改變的基礎(chǔ)上，重點對素坯體種類的優(yōu)選、底釉面 釉熔塊的組成、面釉中不同性能熔塊的優(yōu)選及配比、底釉的配方組成、浮雕幻影印花釉配方 組成、膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度、陶瓷膠輥印油參數(shù)及印花工藝的調(diào)整與優(yōu)化，從而使印制 的浮雕幻影印花釉具有比噴墨印花釉更高的折射率和表面張力，能夠形成折射率高于噴墨 印花釉的圖案，從而使其隱形于噴墨印花釉之中。同時利用該技術(shù)制造的一種浮雕幻影釉 面磚產(chǎn)品，釉面的浮雕圖案能夠隨入射光線角度的改變而隱現(xiàn)于噴墨印花圖案之中。該技 術(shù)突破了傳統(tǒng)裝飾理念，視覺效果非常獨特，從正面觀看產(chǎn)品，只能看到正常裝飾的圖案， 但是從側(cè)面看，這些用浮雕幻影印花釉印制的圖案像浮雕一樣，輪廓清晰的凸現(xiàn)在產(chǎn)品面 上，用手指觸摸產(chǎn)品表面又沒有明顯的凹凸感，從而達到浮雕幻影的特殊裝飾效果及整體 藝術(shù)美感；同時該技術(shù)具備較強的普適性，易于在行業(yè)內(nèi)推廣。
[0004] 為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案：
[0005] -種浮雕幻影釉面磚的釉，其特征在于包括有：
[0006] 底釉，其組分的重量份配比為：熔塊b38?40份、硅酸鋯6?8份、高嶺土 10?12 份、煅燒高嶺土 6?8份、鉀長石粉9?11份、燒滑石7?9份、氧化鋁粉6?8份、石英粉 9?11份、羧甲基纖維素0. 05?0. 1份、三聚磷酸鈉0. 4?0. 6份以及水37?40份；
[0007] 面釉，其組分的重量份配比為：熔塊a45?55份、熔塊b25?35份、熔塊clO?20 份、高嶺土 2?4份、羧甲基纖維素0. 04?0. 06份、三聚磷酸鈉0. 2?0. 4份以及水37? 40份；以及
[0008] 浮雕幻影印花釉，其組分的重量份配比為：基礎(chǔ)釉粉100份、氧化鋅1?2份、氧化 錫0. 4?0. 6份、氧化鈰0. 5?1份以及陶瓷膠輥印油140?160份；其中
[0009] 所述熔塊a的化學成分的重量百分比為：Si026 2 . 5?64. 5%、Al2035. 5?7. 5%、 Ca08. 5 ?9. 5%、Mg01 ?3%、K201 ?3%、Na200. 3 ?0· 5%、Ζη08· 5 ?10. 5%、Zr026 . 5 ? 8· 5%、B2032 ?4% ;
[0010] 所述熔塊b的化學成分的重量百分比為：Si025 5?57%、Al2034?6%、CaOlO? ll%、Mg01 ?2%、Κ201· 5 ?2. 5%、Na200. 1 ?0· 3%、Zn011 ?12%、Zr029 ?11%、B2035 ? 6% ；
[0011] 所述熔塊C的化學成分的重量百分比為：Si0257 . 5?58. 5%、Al2038?9%、 CaOll. 5 ?12. 5%、K204 ?5%、Na200. 1 ?0· 3%、Ζη012· 5 ?13. 5%、Zr02l. 5 ?2. 5%、 PbOO. 4 ?0· 6% ;
[0012] 所述基礎(chǔ)釉粉的組分的重量份配比為：熔塊clOO份、高嶺土 2?4份、羧甲基纖維 素0. 06?0. 08份、三聚磷酸鈉0. 2?0. 4份、水37?40份。
[0013] 一種根據(jù)上述的浮雕幻影釉面磚的釉的制備，其特征在于包括以下步驟：
[0014] 熔塊a的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉以 及硼酸，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒烘干 即得；
[0015] 熔塊b的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉、 硼砂以及硼酸，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°c?1540°C，水淬成熔塊顆 粒烘干即得；
[0016] 熔塊c的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、氧化鋁粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、硅酸鋯 以及紅丹粉，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒 烘干即得；
[0017] 底釉的配制：將底釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵即得；
[0018] 面釉的配制：將面釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵即得；
[0019] 基礎(chǔ)釉粉的配制：將基礎(chǔ)釉粉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵烘干打粉 即得；
[0020] 浮雕幻影印花釉的配制：將浮雕幻影印花釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩 除鐵即得。
[0021] 根據(jù)上述的浮雕幻影釉面磚的制備，其特征在于包括以下步驟：將磚坯先施上所 述底釉，施釉量為0. 7kg/ m2,所述的施釉量為含水釉漿重，待底釉初干時再施所述面釉，施 釉量為1. 18kg/m2,所述的施釉量為含水釉漿重，然后經(jīng)過洗邊，通過膠印將所述浮雕幻影 印花釉印在經(jīng)過洗好邊的磚坯的面釉上，再經(jīng)過噴墨印花機進行噴墨印花，進入輥道窯釉 燒，燒成溫度為1080°C?1130°C，燒成時間為45?65分鐘，經(jīng)過磨邊、烘干，即制成成品。
[0022] 其中所述磚坯為拋光廢渣制造的素坯體；所述膠印的膠輥的網(wǎng)點孔徑為1.0? 1. 5mm，深度為0· 8?1. 2mm ;所述陶瓷膠輥印油的參數(shù)為：比重1. 06?1. 08%，粘度500? 600mPa. s，流速 22 ?26S。
[0023] 通過對素坯體種類的優(yōu)選、底釉面釉熔塊的組成、面釉中不同性能熔塊的優(yōu)選及 配比、底釉的配方組成、浮雕幻影印花釉的配方組成、膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度、陶瓷膠輥 印油參數(shù)及印花工藝等，采用優(yōu)化了素坯體的種類，選用拋光廢渣制造的素坯體，它在高溫 煅燒過程中由于廢渣中大量氣體的排放，在坯體表面形成大量的開口氣孔，這些開口氣孔 是素坯體吸水率、表面透氣性及疏水性均勻優(yōu)良的保證。因此這種素坯體在淋完底釉、面 釉后，底釉、面釉中的水份能夠在短時間內(nèi)通過這些開口氣孔迅速滲透到素坯體中，同時這 些開口氣孔里的殘留氣體在水分的擠壓下沖破底釉、面釉層來到表面，從而在淋了底釉、面 釉的磚坯體的表面留下許多的開口小氣孔，當印刷浮雕幻影印花釉時，這些開口小氣孔能 夠快速的使浮雕幻影印花釉中的印油通過這些氣孔滲透到面釉中，使浮雕幻影印花釉圖案 在保證印制的厚度和形狀下快速凝固，不會散開甚至因印油的分散流動而塌陷，同時在后 續(xù)噴墨印花時，噴墨在浮雕幻影圖案上的噴墨花釉中的液狀物也能快速通過浮雕幻影圖案 滲透到面釉中，保證了噴墨印花圖案的清晰度又不會對浮雕幻影圖案造成破壞。由于本發(fā) 明的浮雕幻影印花釉具有比噴墨印花釉更高的折射率和表面張力，能夠形折射率高于噴墨 印花釉的圖案，從而使其隱形于噴墨印花釉之中，且高溫燒制后面能夠保持各自的完整性 不會互相破壞，同時表面高度與噴墨印花釉高度一致，手指觸摸無明顯凹凸感，因此在浮雕 幻影印花釉基礎(chǔ)釉粉的熔塊C中添加了適量折射率高的Zr0 2、PbO、CaO、等氧化物；以及對 表面張力有促進作用的Si02、Al20 3、Ca0、Zn0等氧化物；同時在浮雕幻影印花釉配方組成中 添加了折射率高的氧化錫和氧化鈰原料，尤其是氧化鈰，不但折射率高，達到2. 10,同時它 也是最穩(wěn)定的稀土材料，因此對浮雕幻影印花釉在高溫中保持原狀起到有利的作用；同時 在浮雕幻影印花釉配方組成中添加了適量的氧化鋅，用以改善印花釉因添加了氧化錫、氧 化鈰等折射率高的原料而會造成的釉面粗糙度及釉面缺陷，因為在制釉時添加的氧化鋅與 熔塊中加入的氧化鋅是不能互相替代的。面釉熔塊的組成、面釉不同性能熔塊的優(yōu)選及配 t匕，可以保證面釉具有高的始融溫度以及在高溫中有較高的高溫粘度。由于面釉的始融溫 度高，當浮雕幻影印花釉熔融成熟時，面釉還沒有開始熔融并保持表面處于疏松狀態(tài)，此時 浮雕幻影印花釉能夠滲透到面釉中并受到面釉的保護，以免其與噴墨印花釉相互反應(yīng)而帶 上顏色從而失去隱形效果，同時面釉在浮雕幻影印花釉滲透過程中一方面不能對其產(chǎn)生破 壞；另一方面，面釉要在浮雕幻影印花釉滲透完畢后能夠瞬速的將其封閉保護起來，同時融 平留下的凹坑，保證產(chǎn)品的表面質(zhì)量。面釉在高溫中具有較高的高溫粘度，從而不會因高溫 粘度低，熔融能力強而破壞浮雕幻影印花釉的完整性，同時高溫粘度大還可以在接近燒成 最高溫度時，可以依靠面釉的粘度對因坯體中添加了大量陶瓷廢渣在高溫中因大量SiC氣 體的排放所形成的氣泡進行控制，使其不能達到釉的表面形成缺陷，保證了釉面質(zhì)量，但眾 所周知，始融溫度高、高溫粘度大的釉，其釉面在高溫中的延展性差，會造成釉面出現(xiàn)桔皮、 不夠平滑等釉面缺陷，因此在本發(fā)明的面釉配方組成中采用三種不同性能的熔塊，并優(yōu)化 它們的比例，不但保證了合適的始融溫度和高溫粘度，使浮雕幻影圖案在高溫中受到保護 并始終保持原有的形狀；同時又確保了釉面的質(zhì)量；底釉配方組成的優(yōu)化，一方面確保底 釉在高溫中透氣性良好，以使坯體中的陶瓷廢渣在高溫中釋放的氣體能夠及時排出，另一 方面又能夠與坯體及面釉形成穩(wěn)固的中間層來平衡坯、釉的膨脹系數(shù)，保證產(chǎn)品的平整度， 又提高了產(chǎn)品的抗熱震性；膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度的優(yōu)化，確保了浮雕幻影印花釉在印 刷圖案時的厚度和寬度，因為浮雕幻影圖案的效果與印制的花釉厚度和寬度密切相關(guān)。普 通雕刻方式的膠輥網(wǎng)點孔徑細、深度較淺，印刷的圖案的厚度及寬度達不到要求，從而影響 了浮雕幻影的效果。印油參數(shù)的優(yōu)化，保證了浮雕幻影印花釉圖案的聚合力，自始至終保持 一致的整體性，不會因聚合力不夠而散開或塌陷從而影響到浮雕幻影圖案的完整性，同時 不會因其散開或塌陷而對噴墨印花的圖案造成破壞；印花工藝的優(yōu)化，采用先印浮雕幻影 圖案后噴墨印花，因為噴墨印花是懸空非接觸方式的印花模式，因此印制的浮雕幻影圖案 不會因外力的作用而造成破壞，如果先噴墨印花再印浮雕幻影圖案，則噴墨圖案會因輥筒 的磨擦而造成破壞，同時也會因輥筒不斷的與噴墨印花的圖案接觸而會將噴墨的花釉帶入 浮雕幻影花釉中，影響產(chǎn)品的浮雕幻影效果。
[0024] 采用本發(fā)明所帶來的有益效果：
[0025] 1、由于優(yōu)選了素坯體的種類、底釉面釉熔塊的組成、面釉不同性能熔塊的優(yōu)選及 配比、底釉的配方組成、浮雕幻影印花釉的配方組成、膠輥雕刻網(wǎng)點孔徑和深度、陶瓷膠輥 印油參數(shù)及印花工藝等，從而使印制的浮雕幻影印花釉具有比噴墨印花釉更高的折射率和 表面張力，能夠形成折射率高于噴墨印花釉的圖案，從而使其隱形于噴墨印花釉之中。同時 利用該技術(shù)制造的浮雕幻影釉面磚產(chǎn)品，釉面的浮雕圖案能夠隨入射光線角度的改變，而 隱現(xiàn)于噴墨印花圖案之中，使產(chǎn)品具有獨特的裝飾效果及視覺美感。
[0026] 2、該產(chǎn)品表面平整度、斷裂模數(shù)、吸水率、摩擦系數(shù)、耐酸堿性、抗熱震性、鉛鎘溶 出量均達到 GB/T4100-2006, GB6566-2011 及 HT/T297-2006 標準要求。
[0027] 3、坯體配方中使用了大量的陶瓷廢渣，使得在降低生產(chǎn)成本的同時又達到了節(jié)能 減排的目的。
[0028] 4、采用現(xiàn)有的陶瓷磚生產(chǎn)工藝，使浮雕幻影釉面磚的制備技術(shù)具備較強的普適 性，易于在行業(yè)內(nèi)推廣。

【具體實施方式】
[0029] 下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步詳細說明。
[0030] 本發(fā)明的一種浮雕幻影釉面磚的釉及制備，首先制備底釉、面釉、基礎(chǔ)釉粉的熔 塊。
[0031] 制備熔塊a :按表1的化學組成成分選取相應(yīng)比例的、粒度均小于150目的石英 粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉、硼酸原料，進行配料，在混料機中 混合30分鐘，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒烘干即得熔塊 B 〇
[0032] 表1、熔塊a的化學組成成分表（重量百分比，％ )
[0033]

【權(quán)利要求】
1. 一種浮雕幻影釉面磚的釉，其特征在于包括有： 底釉，其組分的重量份配比為：熔塊b38?40份、硅酸鋯6?8份、高嶺土 10?12份、 煅燒高嶺土 6?8份、鉀長石粉9?11份、燒滑石7?9份、氧化鋁粉6?8份、石英粉9? 11份、羧甲基纖維素〇. 05?0. 1份、三聚磷酸鈉0. 4?0. 6份以及水37?40份； 面釉，其組分的重量份配比為：熔塊a45?55份、熔塊b25?35份、熔塊clO?20份、 高嶺土 2?4份、羧甲基纖維素0. 04?0. 06份、三聚磷酸鈉0. 2?0. 4份以及水37?40 份；以及 浮雕幻影印花釉，其組分的重量份配比為：基礎(chǔ)釉粉100份、氧化鋅1?2份、氧化錫 0. 4?0. 6份、氧化鈰0. 5?1份以及陶瓷膠輥印油140?160份；其中 所述熔塊a的化學成分的重量百分比為：Si0262. 5?64. 5%、Al2035. 5?7. 5%、 Ca08. 5 ?9. 5%、Mg01 ?3%、K201 ?3%、Na200. 3 ?0· 5%、Ζη08· 5 ?10. 5%、Zr026 . 5 ? 8· 5%、B2032 ?4% ; 所述熔塊b的化學成分的重量百分比為：Si025 5?57%、A12034?6%、Ca010?11%、 MgOl ?2%、Κ201· 5 ?2. 5%、Na200. 1 ?0· 3%、Zn011 ?12%、Zr029 ?11%、B2035 ?6%; 所述熔塊c的化學成分的重量百分比為：Si025 7 . 5?58. 5%、A12038?9%、Ca011. 5? 12. 5 %、K204 ?5 %、Na200. 1 ?0· 3 %、Ζη012· 5 ?13. 5 %、Zr02l. 5 ?2. 5 %、PbOO. 4 ? 0. 6% ； 所述基礎(chǔ)釉粉的組分的重量份配比為：熔塊clOO份、高嶺土 2?4份、羧甲基纖維素 0· 06?0· 08份、三聚磷酸鈉0· 2?0· 4份、水37?40份。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的浮雕幻影釉面磚的釉的制備，其特征在于包括以下步驟： 熔塊a的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉以及 硼酸，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒烘干即 得； 熔塊b的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、滑石粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、鋯英粉、硼砂 以及硼酸，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒烘 干即得； 熔塊c的配制：將石英粉、鉀鈉長石粉、氧化鋁粉、碳酸鈣、碳酸鉀、氧化鋅、硅酸鋯以及 紅丹粉，進行配料混合，在熔塊爐內(nèi)熔制，熔制溫度1520°C?1540°C，水淬成熔塊顆粒烘干 即得； 底釉的配制：將底釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵即得； 面釉的配制：將面釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵即得； 基礎(chǔ)釉粉的配制：將基礎(chǔ)釉粉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵烘干打粉即得； 浮雕幻影印花釉的配制：將浮雕幻影印花釉的各組分混合磨成釉漿，325目過篩除鐵 即得。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的浮雕幻影釉面磚的制備，其特征在于包括以下步驟：將 磚坯先施上所述底釉，施釉量為0. 7kg/ m2,所述的施釉量為含水釉漿重，待底釉初干時再 施所述面釉，施釉量為1. 18kg/m2,所述的施釉量為含水釉漿重，然后經(jīng)過洗邊，通過膠印 將所述浮雕幻影印花釉印在經(jīng)過洗好邊的磚坯的面釉上，再經(jīng)過噴墨印花機進行噴墨印 花，進入輥道窯釉燒，燒成溫度為1080°C?1130°C，燒成時間為45?65分鐘，經(jīng)過磨邊、烘 干，即制成成品。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的浮雕幻影釉面磚的制備，其特征在于：所述磚坯為拋光廢渣 制造的素述體。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的浮雕幻影釉面磚的制備，其特征在于：所述膠印的膠輥的網(wǎng) 點孔徑為1. 0?1. 5mm，深度為0. 8?1. 2mm。
6. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的浮雕幻影釉面磚的制備，其特征在于：所述陶瓷膠輥印油的 參數(shù)為：比重1. 06?1. 08%，粘度500?600mPa. s，流速22?26S。
【文檔編號】C04B41/86GK104140297SQ201410425752
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年8月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月26日
【發(fā)明者】梁桐燦, 余國明, 歐家瑞, 楊鳴苗, 王瑩 申請人:廣東宏陶陶瓷有限公司, 廣東東陶陶瓷有限公司, 廣東宏威陶瓷實業(yè)有限公司, 廣東宏海陶瓷實業(yè)發(fā)展有限公司