工業(yè)烤爐及其使用方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種工業(yè)烤爐及其使用方法，爐體的內(nèi)部設置有多層烤架，所述烤架上設置有多個定位針，用于定位待加熱物體；加熱設備，用于加熱的溫度和時間進行控制；至少一個底盤及其對應的導軌，用于清理所述待加熱物體所產(chǎn)生的碎片；棚架，用于承載所述烤架和底盤。本發(fā)明通過底盤和導軌的設計，可以及時將工業(yè)烤爐中的碎片進行清理，既節(jié)省了現(xiàn)有技術中的碎片清理時間，又避免了碎片對待加熱物體進行二次污染而影響品質(zhì)。
【專利說明】工業(yè)烤爐及其使用方法

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)爐具領域，尤其涉及一種工業(yè)烤爐及其使用方法。

【背景技術】
[0002]在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管-液晶顯示器)生產(chǎn)制造中，CF (Color Filter彩膜)基板生產(chǎn)制造中使用大量光阻，如紅光阻。光阻劑主要由樹脂、感光劑以及溶劑等不同的成分混合而成。玻璃基板經(jīng)過涂布、曝光、顯影等制程后，最后要需要進入高溫的烤爐(Oven)烘烤一段時間，烘烤的目的是:將經(jīng)過顯影后的光阻，藉由熱能蒸發(fā)將光阻內(nèi)殘留的溶劑降至最低狀態(tài)，以形成彩膜。
[0003]請同時參閱圖1與圖2所示，為當前常用的烤爐的棚架結構及所在工業(yè)烤爐的機構示意圖。其廣泛應用于TFT-LCD生產(chǎn)制造中。棚架式結構烤爐的好處是定位針(Pin) 12密集，大尺寸玻璃基板14放在定位針12上面，玻璃的形變量比較小，可以降低機臺發(fā)生破片的風險，提升機臺稼動率；劣勢是由于爐體內(nèi)采用烤架(rack) 13支撐定位針12的方式，烤架的分布會非常密集，人員無法進入爐體11內(nèi)進行作業(yè)，一旦爐體11內(nèi)發(fā)生破片，為清理破片，工程人員必須拆掉部分烤架13后進入爐體11內(nèi)進行清理破片的作業(yè)。因為爐體11內(nèi)是高溫的環(huán)境，完成的作業(yè)流程包括:降溫、拆掉烤架、進入爐體內(nèi)作業(yè)、重新安裝烤架、升溫，由于升溫、降溫、拆裝烤架13花費時間較多，因為整個作業(yè)流程約花費4?5h，影響產(chǎn)線產(chǎn)能。且，烤架13經(jīng)常拆卸也容易導致形變，進而影響其上承載的玻璃基板14的產(chǎn)品質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]有鑒于此，本發(fā)明提供一種工業(yè)烤爐及其使用方法，以解決現(xiàn)有技術中碎片作業(yè)耗時長、影響廣品品質(zhì)等冋題。
[0005]為解決上述技術問題，本發(fā)明實施例提供以下技術方案:
[0006]一種工業(yè)烤爐，包括:
[0007]爐體的內(nèi)部設置有多層烤架，所述烤架上設置有多個定位針，用于定位待加熱物體；
[0008]加熱設備，用于進行加熱、以及對加熱的溫度和時間進行控制；
[0009]至少一個底盤及其對應的導軌，用于清理所述待加熱物體所產(chǎn)生的碎片；以及
[0010]棚架，用于承載所述烤架和底盤的導軌。
[0011]優(yōu)選地，所述底盤的數(shù)量大于等于2，且均勻分布于所述烤爐內(nèi)部。
[0012]優(yōu)選地，所述工業(yè)烤爐還包括:計量設備，安裝于所述底盤上，用于計量當前的碎片總重量、和單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量。
[0013]優(yōu)選地，所述工業(yè)烤爐還包括:質(zhì)量反饋提示器，連接于所述計量設備，用于當所述單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量超過第一預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行反饋。
[0014]優(yōu)選地，所述工業(yè)烤爐還包括:清理提示器，連接于所述計量設備，用于當所述當前的碎片總重量超過第二預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行提示。
[0015]優(yōu)選地，所述待加熱物體為玻璃基板。
[0016]為解決上述技術問題，本發(fā)明實施例提供以下技術方案:
[0017]一種工業(yè)烤爐的使用方法，包括如下步驟:
[0018]將待加熱物體放置于烤架上，由定位針進行固定；
[0019]開始加熱；
[0020]在加熱結束后，判斷底盤中單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量是否超過第一預設閾值，其中若超過第一預設閾值，則進行質(zhì)量反饋；
[0021]判斷當前的碎片總重量是否超過第二預設閾值，其中若超過所述第二預設閾值，則進行清理提示。
[0022]優(yōu)選地，所述判斷單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量是否超過第一預設閾值的步驟中、以及判斷當前的碎片總重量是否超過第二預設閾值的步驟中:
[0023]所述判斷是通過所述工業(yè)烤爐通過聲、光、或電的方式進行提示來實現(xiàn)的。
[0024]優(yōu)選地，所述清理提示后的步驟還包括:
[0025]將所述底盤通過導軌拉出，并進行清理。
[0026]優(yōu)選地，所述待加熱物體為玻璃基板。
[0027]相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明通過底盤和導軌的設計，可以及時將工業(yè)烤爐中的碎片進行清理，既節(jié)省了現(xiàn)有技術中的碎片清理時間，又避免了碎片對待加熱物體進行二次污染而影響品質(zhì)。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0028]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術中的技術方案，下面對實施例中所需要使用的附圖作簡單的介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲取其他的附圖。
[0029]圖1為【背景技術】中常用的烤爐的棚架結構示意圖；
[0030]圖2為【背景技術】中烤爐爐體主要結構示意圖；
[0031]圖3是本發(fā)明實施例一中工業(yè)烤爐的剖面示意圖；
[0032]圖4是本發(fā)明實施例二中工業(yè)烤爐的使用方法示意圖。

【具體實施方式】
[0033]請參照附圖中的圖式，其中相同的組件符號代表相同的組件。以下的說明是基于所例示的本發(fā)明具體實施例，其不應被視為限制本發(fā)明未在此詳述的其它具體實施例。
[0034]實施例一
[0035]請參閱圖3所示，為本發(fā)明中工業(yè)烤爐的剖面示意圖。
[0036]工業(yè)烤爐21，由棚架(未標示)結構進行支撐，爐體內(nèi)部包括:烤架23、加熱設備(未標示)、至少一個底盤25及其對應的導軌26、計量設備(未標示)；以及爐體外部的質(zhì)量反饋提示器(未標示)、和清理提示器(未標示)。
[0037]棚架，用于承載所述烤架23和底盤25的導軌26。
[0038]烤架23為獨立的多層，通過可拆卸方式設置于所述棚架結構紙上。每層烤架23上設置有多個定位針22，用于定位待加熱物體24，如玻璃基板。
[0039]加熱設備，用于進行加熱、以及對加熱的溫度和時間進行控制。
[0040]底盤25設置于所述烤23架下方，用于接收所述待加熱物體24所產(chǎn)生的碎片，便于清理。
[0041]可以理解的是:所述當?shù)妆P25的數(shù)量大于等于2時，所述底盤25的均勻分布于所述烤爐內(nèi)部。
[0042]每個底盤25都有其對應的導軌26，便于對所述底盤25進行抽拉。
[0043]可以理解的是:所述導軌26為雙側承載于所述棚架上的結構，其目的是為了節(jié)省成本，在需要時通過人工的方式進行抽拉。或者，所述導軌26在上述基礎上還包括自動抽拉的結構，其抽拉的開關由清理提示器控制。
[0044]計量設備安裝于所述底盤上25，用于計量當前的碎片總重量、和單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量。
[0045]可以理解的是:單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量，一般不是直接測量得來的，而是計算臨近的兩次碎片總重量之差。
[0046]質(zhì)量反饋提示器，連接于所述計量設備，用于當所述單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量超過第一預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行反饋。
[0047]可以理解的是:這一步驟發(fā)揮了碎片作為垃圾的意外作用，即，可以對待加熱物24的質(zhì)量進行反饋。如果單次的碎片重量超重，預示著其中的產(chǎn)品質(zhì)量可能會出現(xiàn)重大瑕疵，可以將這一批次作為對后期質(zhì)量檢測中的重點檢測對象，甚至將抽檢改成全檢。
[0048]清理提示器，連接于所述計量設備，用于當所述當前的碎片總重量超過第二預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行提不。
[0049]可以理解的是:所述清理提示器可以僅以聲光電的方式進行提示，由人工方式進行后續(xù)清理，也可以直接作為底盤對應導軌的開關，自動執(zhí)行清理的操作。
[0050]相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明通過底盤和導軌的設計，可以及時將工業(yè)烤爐中的碎片進行清理，既節(jié)省了現(xiàn)有技術中的碎片清理時間，又避免了碎片對待加熱物體進行二次污染而影響品質(zhì)。
[0051]實施例二
[0052]請參閱圖4所示，為本發(fā)明中一種工業(yè)烤爐的使用方法。所述使用方法，包括如下步驟:
[0053]在步驟S401中，將待加熱物體放置于烤架上，由定位針進行固定。其中，所述待加熱物體為玻璃基板。
[0054]在步驟S402中，設置預定的溫度和加熱時間，并開始加熱。
[0055]在步驟S403中，在加熱結束后，判斷底盤中單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量是否超過第一預設閾值。
[0056]可以理解的是:所述判斷是通過工業(yè)烤爐通過聲、光、或電的方式進行提示來實現(xiàn)的。
[0057]此外，當?shù)妆P的數(shù)量大于等于2時，所述底盤的均勻分布于所述烤爐內(nèi)部，每個底盤獨立對其上的碎片進行計量。
[0058]在步驟S404中，若超過第一預設閾值，則進行質(zhì)量反饋?？梢岳斫獾氖?所述判斷中當不超過第一預設閾值時，無對應動作。
[0059]在步驟S405中，判斷當前的碎片總重量是否超過第二預設閾值。
[0060]可以理解的是:所述判斷是通過工業(yè)烤爐通過聲、光、或電的方式進行提示來實現(xiàn)的。且超過第一閾值的提示方式與超過第二閾值的提示方式不完全相同。
[0061]在步驟S406中，若超過所述第二預設閾值，則進行清理提示?？梢岳斫獾氖?所述判斷中當不超過第二預設閾值時，無對應動作。
[0062]在步驟S407中，將所述底盤通過導軌拉出，并進行清理。
[0063]可以理解的是:所述將導軌拉出及進行清理，可以由人工在提示后進行，也可以直接作為底盤對應導軌的開關，自動執(zhí)行清理的操作。
[0064]相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明通過底盤和導軌的設計，可以及時將工業(yè)烤爐中的碎片進行清理，既節(jié)省了現(xiàn)有技術中的碎片清理時間，又避免了碎片對待加熱物體進行二次污染而影響品質(zhì)。
[0065]可以理解的是:雖然各實施例的側重不同，但其設計思想是一致的，某個實施例中沒有詳述的部分，可以參見說明書全文的詳細描述，不再贅述。
[0066]綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，但上述優(yōu)選實施例并非用以限制本發(fā)明，本領域的普通測試人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍以權利要求界定的范圍為準。
【權利要求】
1.一種工業(yè)烤爐，其特征在于，包括: 爐體的內(nèi)部設置有多層烤架，所述烤架上設置有多個定位針，用于定位待加熱物體； 加熱設備，用于進行加熱、以及對加熱的溫度和時間進行控制； 至少一個底盤及其對應的導軌，用于清理所述待加熱物體所產(chǎn)生的碎片；以及 棚架，用于承載所述烤架和所述底盤的導軌。
2.如權利要求1所述的工業(yè)烤爐，其特征在于，所述底盤的數(shù)量大于等于2，且均勻分布于所述烤爐內(nèi)部。
3.如權利要求1所述的工業(yè)烤爐，其特征在于，還包括: 計量設備，安裝于所述底盤上，用于計量當前的碎片總重量、和單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量。
4.如權利要求3所述的工業(yè)烤爐，其特征在于，還包括: 質(zhì)量反饋提示器，連接于所述計量設備，用于當所述單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量超過第一預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行反饋。
5.如權利要求3所述的工業(yè)烤爐，其特征在于，還包括: 清理提示器，連接于所述計量設備，用于當所述當前的碎片總重量超過第二預設閾值時，以聲、光、或電的方式進行提示。
6.如權利要求3所述的工業(yè)烤爐，其特征在于，所述待加熱物體為玻璃基板。
7.—種工業(yè)烤爐的使用方法，其特征在于，包括如下步驟: 將待加熱物體放置于烤架上，由定位針進行固定； 開始加熱； 在加熱結束后，判斷底盤中單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量是否超過第一預設閾值，其中若超過第一預設閾值，則進行質(zhì)量反饋； 判斷當前的碎片總重量是否超過第二預設閾值，其中若超過所述第二預設閾值，則進行清理提示。
8.如權利要求7所述的使用方法，其特征在于，所述判斷單次加熱所產(chǎn)生的碎片重量是否超過第一預設閾值的步驟中、以及判斷當前的碎片總重量是否超過第二預設閾值的步驟中: 所述判斷是通過所述工業(yè)烤爐通過聲、光、或電的方式進行提示來實現(xiàn)的。
9.如權利要求8所述的使用方法，其特征在于，所述清理提示后的步驟還包括: 將所述底盤通過導軌拉出，并進行清理。
10.如權利要求7所述的使用方法，其特征在于，所述待加熱物體為玻璃基板。
【文檔編號】C03C17/00GK104445982SQ201410630953
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月11日 優(yōu)先權日:2014年11月11日
【發(fā)明者】黃聰 申請人:深圳市華星光電技術有限公司