一種防沉淀浸釉池的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種防沉淀浸釉池，包括：釉池、出釉管、泵體、入釉管及電磁閥，所述釉池的底部設(shè)置有向上凸起的錐形凸臺(tái)，所述錐形凸臺(tái)設(shè)置有中空的內(nèi)腔，所述錐形凸臺(tái)的表面設(shè)置有多個(gè)通孔，所述出釉管的一端與所述釉池的中下部連接，所述出釉管的另一端與所述泵體連接，所述入釉管的一端與所述泵體連接，所述入釉管的另一端與所述錐形凸臺(tái)的內(nèi)腔連接，所述入釉管上設(shè)置有所述電磁閥。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡單，很方便地通過泵體使釉池的釉水在底部循環(huán)流動(dòng)，能夠避免釉水的礦物質(zhì)沉淀，節(jié)約成本。
【專利說明】一種防沉淀浸釉池

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種浸釉池，尤其涉及一種防沉淀浸釉池

【背景技術(shù)】
[0002]浸釉是一種在陶瓷制作過程中對陶瓷坯體進(jìn)行上釉常用的方法。由于釉水是由多種礦物質(zhì)混合攪拌而成的，大量的使用時(shí)，其內(nèi)部的礦物質(zhì)會(huì)發(fā)生沉淀，造成釉水色澤和成分發(fā)生變化，釉水不能再用，造成浪費(fèi)?，F(xiàn)有的陶瓷制作過程中每隔一段時(shí)間就需要對釉水進(jìn)行攪拌以防止礦物質(zhì)的沉淀，其勞動(dòng)強(qiáng)度大，增加上釉成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型針對上述問題的不足，提供了一種能夠防止釉水發(fā)生沉淀、結(jié)構(gòu)簡單的防沉淀浸釉池。
[0004]為達(dá)上述目的，本實(shí)用新型提供解決問題的技術(shù)方案是:一種防沉淀浸釉池，其包括:釉池、出釉管、泵體、入釉管及電磁閥，所述釉池的底部設(shè)置有向上凸起的錐形凸臺(tái)，所述錐形凸臺(tái)設(shè)置有中空的內(nèi)腔，所述錐形凸臺(tái)的表面設(shè)置有多個(gè)通孔，所述出釉管的一端與所述釉池的中下部連接，所述出釉管的另一端與所述泵體連接，所述入釉管的一端與所述泵體連接，所述入釉管的另一端與所述錐形凸臺(tái)的內(nèi)腔連接，所述入釉管上設(shè)置有所述電磁閥。
[0005]本實(shí)用新型其他優(yōu)選的結(jié)構(gòu)有:所述通孔均勻分布。
[0006]本實(shí)用新型的特點(diǎn)和效果是:通過泵體使釉池的釉水在底部循環(huán)流動(dòng)，從而避免釉水的礦物質(zhì)沉淀，且釉池的底部設(shè)置有錐形凸臺(tái)，錐形凸臺(tái)表面設(shè)置有通孔，能夠使釉池的釉水在底部進(jìn)行全面的翻滾，效果更好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1為本實(shí)用新型的一種防沉淀浸釉池的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0008]以下參照附圖并結(jié)合【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步描述，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施，保護(hù)范圍并不受制于本技術(shù)方案的實(shí)施方式。
[0009]本實(shí)用新型的最佳實(shí)施例是這樣的，如圖1所示，一種防沉淀浸釉池，其包括:釉池1、出釉管2、泵體3、入釉管5及電磁閥4，釉池I的底部設(shè)置有向上凸起的錐形凸臺(tái)6，錐形凸臺(tái)6設(shè)置有中空的內(nèi)腔，錐形凸臺(tái)6的表面設(shè)置有多個(gè)通孔7，通孔7使釉池I的內(nèi)腔與錐形凸臺(tái)6的內(nèi)腔相通。出釉管2的一端與釉池I的中下部連接，出釉管2的另一端與泵體3連接，入釉管5的一端與泵體3連接，入釉管5的另一端與錐形凸臺(tái)6的內(nèi)腔連接，入釉管5上設(shè)置有電磁閥4。
[0010]本實(shí)用新型其他優(yōu)選的結(jié)構(gòu)有:通孔7均勻分布在錐形凸臺(tái)6的錐面上。
[0011]工作原理:
[0012]打開電磁閥4，啟動(dòng)泵體3，出釉管2從釉池I的中下部抽出釉水，并流到入釉管5內(nèi)，再流入到錐形凸臺(tái)6的內(nèi)腔，最后從錐形凸臺(tái)6上的通孔7重新回流到釉池I內(nèi)，從而使釉水在釉池I的底部循環(huán)滾動(dòng)，防止釉水中的礦物質(zhì)沉淀，泵體3可以每隔一段時(shí)間便工作一陣，也可以持續(xù)工作。另外，由于錐形凸臺(tái)6的存在，且其設(shè)置有通孔7，能夠使釉水從不同的角度、位置和高度注入釉池1，使釉水在釉池I的底部充分翻滾，效果更好
[0013]通過以上實(shí)施例可以詳細(xì)的解釋本實(shí)用新型，公開本實(shí)用新型的目的旨在保護(hù)本實(shí)用新型范圍內(nèi)的一切技術(shù)改進(jìn)。
【權(quán)利要求】
1.一種防沉淀浸釉池，其特征是，包括:釉池、出釉管、泵體、入釉管及電磁閥，所述釉池的底部設(shè)置有向上凸起的錐形凸臺(tái)，所述錐形凸臺(tái)設(shè)置有中空的內(nèi)腔，所述錐形凸臺(tái)的表面設(shè)置有多個(gè)通孔，所述出釉管的一端與所述釉池的中下部連接，所述出釉管的另一端與所述泵體連接，所述入釉管的一端與所述泵體連接，所述入釉管的另一端與所述錐形凸臺(tái)的內(nèi)腔連接，所述入釉管上設(shè)置有所述電磁閥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防沉淀浸釉池，其特征是:所述通孔均勻分布。
【文檔編號(hào)】C04B41/86GK204058276SQ201420429221
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月31日
【發(fā)明者】陳向陽 申請人:廣西北流仲禮瓷業(yè)有限公司