一種陶瓷底部去釉的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種陶瓷底部去釉機，包括：傳送帶機構、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機構包括三個呈三角形分布的滾筒及繞在這三個滾筒上的皮帶，其中兩個滾筒位于上側，并在同一直線上，另外一個滾筒位于下側，所述皮帶的外表面鋪設有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機構的上方，所述陶瓷架設置有上架板和下架板，所述下架板開設有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。本實用新型能夠自動對陶瓷底部進行去釉，去釉效果好，工作效率高。
【專利說明】 一種陶瓷底部去釉機

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種陶瓷上釉處理設備，尤其涉及一種陶瓷底部去釉機。

【背景技術】
[0002]在陶瓷制作領域，在對陶瓷進行上釉并干燥后，便可進一步對陶瓷進行燒制，由于上釉過程中需要把陶瓷整體浸泡在釉液中，陶瓷底部同樣會包裹有釉層，對于不需要底部上釉的陶瓷，陶瓷底部的釉層有可能在燒制過程中粘結在支撐板上，甚至會導制陶瓷整體粘在支撐板上，造成陶瓷的損壞，影響產品的質量。因此必須將坯體底部的瓷釉擦去?，F(xiàn)有的去釉方法是人工擦除，這種方法工人勞動強度大、效率低，且有可能造成釉刺、粘釉等缺陷，甚至會損壞陶瓷。
實用新型內容
[0003]本實用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術的不足，提供了一種陶瓷底部去釉機，其能夠自動對陶瓷底部進行去釉，去釉效果好，工作效率高。
[0004]本實用新型是通過以下技術方案實現(xiàn):一種陶瓷底部去釉機，其包括:傳送帶機構、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機構包括三個呈三角形分布的滾筒及繞在這三個滾筒上的皮帶，其中兩個滾筒位于上側，并在同一直線上，另外一個滾筒位于下側，所述皮帶的外表面鋪設有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機構的上方，所述陶瓷架設置有上架板和下架板，所述下架板開設有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。
[0005]其他優(yōu)選的結構還有:
[0006]所述下架板上開設有多個通孔，所述上架板掛設有多個與所述通孔對應的定位塞。
[0007]所述清洗箱的水面能浸泡到經過位于下側的所述滾筒的皮帶上的海綿層。
[0008]所述毛刷滾筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。
[0009]本實用新型具有以下優(yōu)點和特點:本實用新型由通孔和定位塞對陶瓷進行定位，然后由傳送帶自動對陶瓷底部進行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱及毛刷滾筒能及時把傳送帶上的海綿層清理干凈。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本實用新型的一種陶瓷底部去釉機結構示意圖。

【具體實施方式】
[0011]以下參照附圖并結合【具體實施方式】來進一步描述，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施，保護范圍并不受制于本技術方案的實施方式。
[0012]如圖1所示，本實用新型優(yōu)選的一個實施方式為:一種陶瓷底部去釉機，包括:傳送帶機構、陶瓷架1及清洗箱10，傳送帶機構包括三個呈三角形分布的滾筒7及繞在這三個滾筒7上的皮帶8，其中兩個滾筒7位于上側，并在同一直線上，另外一個滾筒7位于下側，其中一個滾筒7與電機連接作為主動滾筒，皮帶8的外表面鋪設有海綿層9 ;陶瓷架1安裝于傳送帶機構的上方，陶瓷架1設置有上架板5和下架板6，下架板6開設有用于放置陶瓷3的通孔，下架板6位于傳送帶機構的上方，上架板5位于下架板6的上方，上架板5掛設有用于卡在陶瓷3的瓶口的定位塞4 ;清洗箱10安裝于位于下側的滾筒7的下方，清洗箱10的左側安裝有毛刷滾筒11，毛刷滾筒11上安裝有軟刷毛，毛刷滾筒11與皮帶8上的海綿層9接觸，毛刷滾筒11能夠轉動。
[0013]其他優(yōu)選的結構還有:
[0014]下架板6上開設有多個通孔，上架板5掛設有多個與通孔對應的定位塞4。清洗箱10的水面能浸泡到經過位于下側的滾筒7的皮帶8上的海綿層9。毛刷滾筒11的底部浸泡在清洗箱10的水中。
[0015]工作原理:把陶瓷3安放在陶瓷架1上，陶瓷3位于下架板6的各個通孔內，然后把定位塞4卡在陶瓷3的瓶口，防止陶瓷3上下左右移動，不需要夾持陶瓷3的側面，避免對陶瓷3側面的釉層產生破壞。陶瓷3的底部由皮帶8及海綿層9支撐，通過電機驅動傳送帶機構運動，皮帶8順時針運動，海綿層9對陶瓷3底部進行擦除去釉，當海綿層9經過清洗箱10時，由清洗箱10內的水對其進行清洗，并保持海綿層潮濕柔軟，當海綿層9經過毛刷滾筒11時，毛刷滾筒11可進一步刷除海綿層9上的釉潰，且擠壓海綿層9上吸收的水分，避免海綿層9有過多的水分而彈性不足。本實用新型自動對陶瓷3底部進行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱10及毛刷滾筒11能及時把傳送帶8上的海綿層9清理干凈。
[0016]通過以上實施例可以詳細的解釋本實用新型，公開本實用新型的目的旨在保護本實用新型范圍內的一切技術改進。
【權利要求】
1.一種陶瓷底部去釉機，其特征是，包括:傳送帶機構、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機構包括三個呈三角形分布的滾筒及繞在這三個滾筒上的皮帶，其中兩個滾筒位于上側，并在同一直線上，另外一個滾筒位于下側，所述皮帶的外表面鋪設有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機構的上方，所述陶瓷架設置有上架板和下架板，所述下架板開設有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。
2.根據權利要求1所述的陶瓷底部去釉機，其特征是，所述下架板上開設有多個通孔，所述上架板掛設有多個與所述通孔對應的定位塞。
3.根據權利要求1所述的陶瓷底部去釉機，其特征是，所述清洗箱的水面能浸泡到經過位于下側的所述滾筒的皮帶上的海綿層。
4.根據權利要求1所述的陶瓷底部去釉機，其特征是，所述毛刷滾筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。
【文檔編號】B28B17/00GK204054325SQ201420432365
【公開日】2014年12月31日 申請日期:2014年7月31日 優(yōu)先權日:2014年7月31日
【發(fā)明者】陳向陽 申請人:廣西北流仲禮瓷業(yè)有限公司