本發(fā)明涉及噴涂裝置技術領域，尤其涉及一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置。

背景技術：

噴涂通過噴嘴或碟式霧化器，借助于壓力或離心力，分散成均勻而微細的霧滴，施涂于被涂物表面的涂裝方法。可分為空氣噴涂、無空氣噴涂、靜電噴涂以及上述基本噴涂形式的各種派生的方式，如大流量低壓力霧化噴涂、熱噴涂、自動噴涂、多組噴涂等。而陶瓷噴涂是指在陶瓷的表面噴涂一層陶瓷薄膜，以改善原材料的性能，傳統(tǒng)的我陶瓷噴涂方法是直接用噴嘴將涂層噴涂到工件上，利用這種方法對陶瓷進行陶瓷涂層時，其精度、涂層厚度等誤差大。而現有的沒有通過旋轉進行噴涂，然后在通過毛刷對旋轉噴涂再次進行粉刷的功能，為此，針對現有的不足之處，本發(fā)明提供一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置。

技術實現要素：

本發(fā)明的目的是為了解決現有技術中存在的缺點，而提出的一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置。

為了實現上述目的，本發(fā)明采用了如下技術方案：

一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置，包括操作臺，所述操作臺的下端四角均設有支撐腿，所述操作臺的上端中部設有圓柱，所述圓柱的兩側均設有滑軌，所述滑軌相對的一端均安裝有限位塊，所述滑軌上設有滑塊，所述滑塊的上端設有旋轉裝置，所述旋轉裝置上放置有固定吸盤，所述圓柱的側壁上固定安裝有兩個固定盤，兩個所述固定盤上分別連接有伸縮機構，所述伸縮機構遠離固定盤的一端連接有固定刷頭，所述固定刷頭上設有刷毛，所述圓柱的上端設有支撐柱，所述支撐柱的上端設有儲液箱，儲液箱的兩側均安裝有橫板，所述支撐柱的兩側壁上均連接有支撐桿，所述支撐桿遠離固定板的一端固定連接在橫板上，所述橫板的末端設有凹槽，所述凹槽內通過轉軸連接有豎桿，所述豎桿的一側設有空心管，所述空心管遠離豎桿的一側安裝有噴嘴，所述儲液箱的兩端設有輸送管，所述輸送管遠離儲液箱的一端貫穿空心管并連接在噴嘴上。

優(yōu)選地，所述噴嘴的表面上均勻分布有噴孔，所述噴孔均設有過濾網。

優(yōu)選地，所述輸送管為伸縮軟管。

優(yōu)選地，所述伸縮機構為伸縮桿。

優(yōu)選地，所述旋轉裝置為伺服電機。

本發(fā)明中，通過滑塊和滑軌移動靠近限位塊，然后通過固定吸盤將陶瓷固定在上面進行旋轉，在操作臺的兩端安裝有刷毛，通過圓柱上端的儲液箱，分別在儲液箱的兩側壁上通過輸送管連接到噴嘴，且刷毛和噴嘴均相對應在固定吸盤的上方兩側。本發(fā)明結構簡單，通過陶瓷旋轉進行噴涂，刷毛將旋轉的陶瓷進行均勻粉刷，操作簡單，實用方便。

附圖說明

圖1為本發(fā)明提出的一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置的結構示意圖；

圖2為本發(fā)明提出的一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置的噴嘴的表面結構。

圖中：1支撐腿、2旋轉裝置、3操作臺、4滑軌、5豎桿、6轉軸、7凹槽、8橫板、9支撐桿、10輸送管、11儲液箱、12固定盤、13伸縮機構、14毛刷、15空心管、16噴嘴、17固定吸盤、18滑塊。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。

參照圖1-2，一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置，包括操作臺3，操作臺3的下端四角均設有支撐腿1，對整個機體起到支撐作用，操作臺3的上端中部設有圓柱，圓柱的兩側均設有滑軌4，滑軌4相對的一端均安裝有限位塊，限制滑塊18的范圍，防止滑塊18超出限位塊所在的位置，滑軌4上設有滑塊18，滑塊18的上端設有旋轉裝置2，旋轉裝置2上放置有固定吸盤17，圓柱的側壁上固定安裝有兩個固定盤12，兩個固定盤12上分別連接有伸縮機構13，伸縮機構13遠離固定盤的一端連接有固定刷頭，固定刷頭上設有刷毛14，刷毛14的數量為若干個，且刷毛14為軟毛，更具有抗腐蝕性，耐磨，圓柱的上端設有支撐柱，支撐柱的上端設有儲液箱11，儲液箱11的兩側均安裝有橫板8，支撐柱的兩側壁上均連接有支撐桿9，支撐桿9對橫板8起到穩(wěn)固支撐作用，支撐桿9遠離固定板的一端固定連接在橫板8上，橫板8的末端設有凹槽7，凹槽7內通過轉軸6連接有豎桿5，豎桿5的一側設有空心管15，空心管15遠離豎桿5的一側安裝有噴嘴16，儲液箱11的兩端設有輸送管10，輸送管10遠離儲液箱11的一端貫穿空心管15并連接在噴嘴16上。

本發(fā)明中，噴嘴16的表面上均勻分布有噴孔，噴孔處均設有過濾網，可過濾噴涂效果的有害大顆粒，從而減少噴孔堵塞并大幅提升表面梳理質量，輸送管10為伸縮軟管，伸縮機構13為伸縮桿，旋轉裝置2為伺服電機，通過伺服電機上絲桿和螺母帶動固定吸盤17旋轉。

本發(fā)明中，通過滑塊18和滑軌4移動靠近限位塊，然后通過固定吸盤17將陶瓷固定在上面進行旋轉，在操作臺3的兩端安裝有刷毛14，通過圓柱上端的儲液箱11，分別在儲液箱11的兩側壁上通過輸送管10連接有噴嘴16，且刷毛14和噴嘴16均相對應在固定吸盤17的上方兩側。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式，但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此，任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明揭露的技術范圍內，根據本發(fā)明的技術方案及其發(fā)明構思加以等同替換或改變，都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。

技術特征：

技術總結
本發(fā)明公開了一種陶瓷生產用均勻噴涂裝置，包括操作臺，所述操作臺的下端四角均設有支撐腿，所述操作臺的上端中部設有圓柱，所述圓柱的兩側均設有滑軌，所述滑軌相對的一端均安裝有限位塊，所述滑軌上設有滑塊，所述滑塊的上端設有旋轉裝置，所述旋轉裝置上放置有固定吸盤，所述圓柱的側壁上固定安裝有兩個固定盤，兩個所述固定盤上分別連接有伸縮機構，所述伸縮機構遠離固定盤的一端連接有固定刷頭，所述固定刷頭上設有刷毛，所述圓柱的上端設有支撐柱，所述支撐柱的上端設有儲液箱。本發(fā)明，結構簡單，通過陶瓷旋轉進行噴涂，刷毛將旋轉的陶瓷進行均勻粉刷，操作簡單，實用方便。

技術研發(fā)人員：梁先才
受保護的技術使用者：重慶市鴉嶼陶瓷有限公司
技術研發(fā)日：2016.11.16
技術公布日：2017.10.03