本實(shí)用新型涉及一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置,具體涉及一種高密度陶瓷靶材生胚成型裝置,屬于機(jī)械技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù):
隨著全球電子信息產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,薄膜材料的使用越來越頻繁,靶材的性能對薄膜材料的生產(chǎn)至關(guān)重要。而陶瓷靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。以往陶瓷靶材的生產(chǎn)制作主要是粉末冶金法包括粉末壓制燒結(jié)法、粉末熱等靜壓法等。用此類方法幾乎可以生產(chǎn)出所有種類的陶瓷靶材,而且可以達(dá)到較高的靶材密度,然而此類方法不僅生產(chǎn)周期長、工序復(fù)雜而且生產(chǎn)成本高。近年來諸如AZO、TiO2等陶瓷靶材生產(chǎn)都采用相對簡便的高溫?zé)Y(jié)法生產(chǎn),其最大的困難是用石膏注漿成型法生產(chǎn)出一定密度的生胚再控制好燒結(jié)氣氛加以燒結(jié)。生胚生產(chǎn)過程主要是將陶瓷粉料配成具有流動(dòng)性的泥漿,然后注入多孔模具內(nèi)(主要為石膏模),水分在被石膏吸入后便形成了具有一定厚度的均勻泥層,脫水干燥過程中同時(shí)形成具有一定強(qiáng)度的坯體,然而用此類方法制造存在以下缺點(diǎn):
(1) 無法精確控制注漿量。
(2) 石膏注漿成型胚體含水量高達(dá)50%-70%,燒成時(shí)容易變形。
(3) 石膏注漿成型胚體密度小,收縮大,不容易控制形狀。
(4)生產(chǎn)周期長,一般需要幾天甚至更長。
(5)模具損耗大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置,相比普通石膏注漿成型該裝置操作方便,成型速度快,并可生產(chǎn)出高密度陶瓷靶材生胚。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置,包括上模具、下模具、半透膜濾布和真空抽濾機(jī),所述上模具嵌套于所述下模具中,所述半透膜濾布設(shè)置于所述上模具和所述下模具之間,所述上模具底部設(shè)置有網(wǎng)格,所述下模具底部設(shè)置有一連接口,所述真空抽濾機(jī)包括抽濾瓶和真空泵,所述抽濾瓶入口端通過所述連接口與所述下模具連通,所述抽濾瓶出口端與所述真空泵連通。
其中,所述上模具與所述下模具過盈配合。
其中,所述上模具與所述下模具的嵌套結(jié)合處設(shè)置密封膠。
其中,所述上模具側(cè)壁設(shè)置有刻度。
其中,所述網(wǎng)格目數(shù)為200目。
其中,所述連接口的直徑為6mm。
其中,所述半透膜濾布的過濾等級(jí)為納米等級(jí)。
相比現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型有如下優(yōu)勢:
1、對比石膏注漿成型胚體該實(shí)用新型生產(chǎn)過程全程可視,操作簡便,本實(shí)用新型可以通過上模具刻度實(shí)際精確控制胚體厚度從而計(jì)算出胚體水分占比避免出現(xiàn)異常。
2、通過本實(shí)用新型成型胚體的含水比重可以降到10%-15%,遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于石膏注漿成型胚體的含水比重50-70%。
3、通過真空泵持續(xù)抽氣實(shí)現(xiàn)加壓,因而胚體更為密實(shí)均勻,可制造出高密度陶瓷靶材生胚,比石膏注漿成型胚體密度高10-20%。
4、成型速度快,整個(gè)過程只需要30min,生產(chǎn)時(shí)間大大縮短。
5、上模具和下模具成本低,可多次循環(huán)使用,易損件只有半透膜濾布,如有損壞只需重新更換半透膜濾布即可。
6、脫模簡便,解決接觸面與胚體其它位置水分占比差異。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置的整體示意圖;
圖2為上模具的俯視圖;
圖3為下模具的俯視圖;
圖4為上模具和下模具的裝配后的俯視圖;
圖5為上模具和下模具裝配后的剖視圖;
圖6為圖5中A處局部放大圖。
圖中附圖標(biāo)記表示為:
1-上模具、2-下模具、3-半透膜濾布、4-真空抽濾機(jī)、41-抽濾瓶、42-真空泵、5-連接口、6-網(wǎng)格、7-密封膠。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例來對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的說明。
參見圖1至圖5,一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置,包括上模具1、下模具2、半透膜濾布3和真空抽濾機(jī)4,所述上模具1嵌套于所述下模具2中,參見圖5,所述半透膜濾布3設(shè)置于所述上模具1和所述下模具2之間,所述上模具1底部設(shè)置有網(wǎng)格6,所述下模具2底部設(shè)置有一連接口5,所述真空抽濾機(jī)4包括抽濾瓶41和真空泵42,所述抽濾瓶41入口端通過所述連接口5與所述下模具2連通,所述抽濾瓶41出口端與所述真空泵42連通。
所述上模具1與所述下模具2過盈配合,過盈配合是為了進(jìn)一步保障所述上模具1與所述下模具2連接的緊密度。
參見圖6,所述上模具1與所述下模具2的嵌套結(jié)合處設(shè)置密封膠7,進(jìn)一步保障所述上模具1與所述下模具2連接的牢固度。
參見圖5,所述上模具1側(cè)壁設(shè)置有刻度,可以精確控制陶瓷靶材生胚厚度。
所述網(wǎng)格6目數(shù)為200目。
所述連接口5的直徑為6mm。
所述半透膜濾布3的過濾等級(jí)為納米等級(jí)。
一種高密度陶瓷靶材生胚的制造裝置工作過程為:檢查上模具1、下模具2、半透膜濾布3和真空抽濾機(jī)4,確定氣密性良好后,將混合好的漿料沿著上模具1的邊緣加入到上模具1中,打開真空泵42,由于下模具2空氣陸續(xù)被抽出,下模具2氣壓遠(yuǎn)小于上模具1的氣壓,水分開始透過上模具1底部的網(wǎng)格6和半透膜濾布3,并通過連接口5進(jìn)入抽濾瓶41干燥,整個(gè)過程約為30min即可完成。
以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例,并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍,凡是利用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換,或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域,均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。