本實(shí)用新型涉及陶瓷坯加工裝置，特別涉及一種用于陶瓷坯邊緣拋光的陶瓷坯旋轉(zhuǎn)定位設(shè)備。

背景技術(shù)：

在陶瓷坯的眾多加工工序中，成形后的陶瓷坯在去除了多余的陶瓷粘土后，會(huì)在邊緣留下一些痕跡，特別是較薄的邊緣，會(huì)產(chǎn)生切割后的平面，嚴(yán)重影響美觀以及燒制后陶瓷器具的質(zhì)量。因此還需要進(jìn)行一道拋光工藝，將這些棱角和痕跡去除，保證成品的質(zhì)量。

現(xiàn)有技術(shù)中，通常只有手工拋光的工序，拋光時(shí)間長(zhǎng)，效果不穩(wěn)定，且容易在拋光過(guò)程中碰傷陶瓷坯。為了解決這一問(wèn)題，有必要設(shè)計(jì)新的裝置來(lái)解決這一問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中拋光工序中，拋光效果不穩(wěn)定，容易碰傷陶瓷坯的缺點(diǎn)，提供了一種用于陶瓷坯邊緣拋光的陶瓷坯旋轉(zhuǎn)定位設(shè)備，作為陶瓷加工工藝改善項(xiàng)目的一部分，完善了陶瓷坯干燥、燒制前的最后一道加工工序，保證了最終產(chǎn)品的質(zhì)量，具有較為重要的意義。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型可采取下述技術(shù)方案：

一種用于陶瓷坯邊緣拋光的陶瓷坯旋轉(zhuǎn)定位設(shè)備，包括一沿著定軸旋轉(zhuǎn)的底座以及設(shè)置于底座上的定位設(shè)備；

所述底座用于放置陶瓷坯；底座連接一驅(qū)動(dòng)裝置，并在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)；

所述定位裝置位于所述底座的上端面；

所述定位裝置沿著所述定軸的周向方向延伸。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置與所述底座上端面的邊緣間隔設(shè)置。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置的位于相對(duì)于定軸外側(cè)的部分為限位裝置，所述限位裝置沿著定軸的方向向上凸出于所述底座的上端面。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置的位于相對(duì)于定軸內(nèi)側(cè)的部分為為支撐裝置，所述支撐裝置沿著定軸的方向向上凸出并大致與所述上端面具有同一高度。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述支撐裝置的凸出部分和所述上端面的連接處設(shè)置有弧面。

進(jìn)一步地，作為一種可選的方案，在本申請(qǐng)的實(shí)施例中，所述定位裝置的至少一部分朝向底座的方向凹入。

本實(shí)用新型具有以下的顯著技術(shù)效果：

能夠在拋光過(guò)程中，穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)的陶瓷坯，能有效提高拋光質(zhì)量和陶瓷坯的質(zhì)量，保證后繼的燒制過(guò)程的穩(wěn)定，對(duì)于燒制后的陶瓷器具的質(zhì)量有較好的穩(wěn)定作用。

進(jìn)一步地，能夠和自動(dòng)陶瓷坯壓制裝置等陶瓷坯自動(dòng)加工機(jī)械相配合，有利于提高加工效率。

附圖說(shuō)明

圖1為由定軸的側(cè)向方向進(jìn)行觀察的用于陶瓷坯邊緣拋光的陶瓷坯旋轉(zhuǎn)定位設(shè)備的沿著定軸進(jìn)行剖切后的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種用于陶瓷坯邊緣拋光的陶瓷坯旋轉(zhuǎn)定位設(shè)備，包括一沿著定軸旋轉(zhuǎn)的底座100以及設(shè)置于底座100上的定位裝置200；該定位設(shè)備用于在對(duì)陶瓷坯邊緣進(jìn)行拋光操作時(shí)，能夠穩(wěn)定出于高速轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)的陶瓷坯，完成對(duì)陶瓷坯邊緣的拋光操作。由于陶瓷坯的大小并不完全一致，將其完全固定在底座100上進(jìn)行拋光，往往會(huì)導(dǎo)致陶瓷坯的邊緣過(guò)度磨損。

所述底座100用于放置陶瓷坯；底座100連接一驅(qū)動(dòng)裝置，并在驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)，放置在底座100上的陶瓷坯并非和底座100之間完全固定，而是可以進(jìn)行部分的移動(dòng)，以自動(dòng)適應(yīng)拋光操作并進(jìn)行適當(dāng)?shù)囊苿?dòng)。

所述定位裝置200位于所述底座100的上端面，所述定位裝置200沿著所述定軸101的周向方向延伸。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200與所述底座100上端面的邊緣間隔設(shè)置。定位裝置200距離底座100的上端面的距離大約在3-5cm左右，當(dāng)然該取值范圍之外的其它距離也可以使用。底座100的上端面大致成圓形，定位裝置200則圍繞該上端面形成一圓形裝置。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200的位于相對(duì)于定軸101外側(cè)的部分為限位裝置201，所述限位裝置201沿著定軸的方向向上凸出于所述底座100的上端面。限位裝置201的高度較高，系用于限制陶瓷坯在拋光操作時(shí)限定陶瓷坯位移的最大范圍。陶瓷坯在碰到該限位裝置201后，即會(huì)停下。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200的位于相對(duì)于定軸101內(nèi)側(cè)的部分為為支撐裝置202，所述支撐裝置202沿著定軸的方向向上凸出并大致與所述上端面具有同一高度。支撐裝置202用于從相對(duì)于限位裝置201的內(nèi)側(cè)固定陶瓷坯的位置，和限位裝置201不同，支撐裝置202的高度較低，無(wú)法完全阻止移動(dòng)，但由于支撐裝置202距離定軸的相對(duì)較近，支撐裝置202的一部分始終能夠和陶瓷坯的底面相接觸，從而起到支撐作用，并防止底座旋轉(zhuǎn)時(shí)，陶瓷坯因?yàn)殡x心力的關(guān)系向底座100外側(cè)傾斜或者移動(dòng)。

進(jìn)一步地，所述支撐裝置202的凸出部分和所述上端面的連接處設(shè)置有弧面，或者也可以是圓角，可以增大支撐裝置202和陶瓷坯底面的接觸面積。

進(jìn)一步地，所述定位裝置200的至少一部分朝向底座100的方向凹入，相對(duì)而言的，凹入的定位裝置200同樣可以增加其和陶瓷坯底部的接觸面積。

總之，以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬本實(shí)用新型專利的涵蓋范圍。