本技術涉及瓷磚施釉生產設備，具體是一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置。

背景技術：

1、在瓷磚的生產過程中，為了延長瓷磚的使用壽命與提升美觀度，一般需要對燒制好的瓷磚進行表面淋釉操作。現(xiàn)有的淋釉操作通過將液態(tài)釉料倒入弧形的圓盤上，通過圓盤外壁使釉自然落下布施在瓷磚表面進而完成淋釉，然而瓷磚的規(guī)格大小各有不同，現(xiàn)有的淋釉操作不能對淋釉寬度范圍進行控制，大范圍淋釉難免導致部分釉體被浪費。為此，本實用新型提出了一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于：為了解決上述背景技術中提出的問題，提供一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術方案：一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，包括收集座，所述收集座的頂端設置有運輸物料的輸送帶，所述收集座的頂端固定有圓錐形的淋釉盤，通過安裝架設置有下料箱并且下料箱位于所述淋釉盤的上方，還包括設置在下料箱、淋釉盤上的調節(jié)機構；所述調節(jié)機構包括導向單元、傳動單元；所述導向單元用于為釉體的流動提供導向；所述傳動單元用于調節(jié)導向單元端口的大小。

3、所述導向單元包括固定環(huán)、第一導向桿、第二導向桿、驅動電機；所述固定環(huán)通過連接桿固定在下料箱的外壁且與淋釉盤的頂端接觸，所述固定環(huán)用于為釉體的流動提供限位；所述第一導向桿固定安裝在淋釉盤的外壁且延伸至固定環(huán)的內部，所述第一導向桿用于與第二導向桿配合對釉體的流動提供導向；第二導向桿滑動安裝在固定環(huán)的內壁且延伸至固定環(huán)的外部，所述第二導向桿用于與第一導向桿配合對釉體的流動提供導向；所述驅動電機安裝在安裝架上且輸出端與淋釉盤的底部連接，所述驅動電機用于帶動淋釉盤轉動。

4、作為本實用新型再進一步的方案：所述傳動單元包括第一齒條、第二齒條、齒輪；所述第一齒條固定在第一導向桿的端部且位于固定環(huán)的內部，所述第一齒條用于給予齒輪轉動推力；所述第二齒條固定在第二導向桿的端部且位于固定環(huán)的內部，所述第二齒條用于同步帶動第二導向桿轉動；所述第一齒條、第二齒條交錯分布在固定環(huán)的內部；所述齒輪轉動安裝在固定環(huán)的內壁，所述齒輪用于傳遞來自第一齒條的轉動推力；所述第一齒條、第二齒條的外壁均與齒輪的外壁相嚙合。

5、作為本實用新型再進一步的方案：所述第二導向桿、第一導向桿的轉動軸心與固定環(huán)的中心相同，所述固定環(huán)呈“c”形且其底部與淋釉盤的頂端相匹配。

6、作為本實用新型再進一步的方案：所述第二導向桿、第一導向桿遠離固定環(huán)的一端與淋釉盤的邊緣齊平。

7、作為本實用新型再進一步的方案：所述固定環(huán)的內部成型有供第一齒條、第二齒條周向活動的滑槽，所述收集座通過輸送管道與下料箱連接，所述輸送管道上安裝有對收集座內部釉體進行抽吸的抽吸泵及釉料過濾裝置。

8、與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果是：

9、通過設置調節(jié)機構，啟動驅動電機來帶動淋釉盤轉動使第一導向桿同步轉動，而第二導向桿也將靠近或遠離第一導向桿，從而對第一導向桿、第二導向桿形成的扇形端口進行調節(jié)，通過下料箱將釉體排放至淋釉盤上的固定環(huán)內側，通過固定環(huán)的開口與第一導向桿、第二導向桿對釉體的流向進行導向，完成對瓷磚的淋釉操作。本裝置還設置有收集座、抽吸泵及釉料過濾裝置，能夠將未布施在瓷磚表面而落入收集座內的釉料重新收集再利用，提高資源的利用率，降低生產成本。

技術特征：

1.一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，包括收集座（1），所述收集座（1）的頂端設置有運輸物料的輸送帶（2），所述收集座（1）的頂端固定有圓錐形的淋釉盤（3），通過安裝架設置有下料箱（4）并且下料箱（4）位于所述淋釉盤（3）的上方，其特征在于，還包括設置在下料箱（4）、淋釉盤（3）上的調節(jié)機構（5）；所述調節(jié)機構（5）包括導向單元、傳動單元；

2.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，其特征在于，所述傳動單元包括第一齒條（504）、第二齒條（505）、齒輪（506）；所述第一齒條（504）固定在第一導向桿（502）的端部且位于固定環(huán)（501）的內部，所述第二齒條（505）固定在第二導向桿（503）的端部且位于固定環(huán)（501）的內部；所述第一齒條（504）、第二齒條（505）交錯分布在固定環(huán)（501）的內部；所述齒輪（506）轉動安裝在固定環(huán)（501）的內壁，所述第一齒條（504）、第二齒條（505）的外壁均與齒輪（506）的外壁相嚙合。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，其特征在于，所述第二導向桿（503）、第一導向桿（502）的轉動軸心與固定環(huán)（501）的中心相同，所述固定環(huán)（501）呈“c”形且其底部與淋釉盤（3）的頂端相匹配。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，其特征在于，所述第二導向桿（503）、第一導向桿（502）遠離固定環(huán)（501）的一端與淋釉盤（3）的邊緣齊平。

5.根據(jù)權利要求2所述的一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，其特征在于，所述固定環(huán)（501）的內部成型有供第一齒條（504）、第二齒條（505）周向活動的滑槽，所述收集座（1）通過輸送管道與下料箱（4）連接，所述輸送管道上安裝有對收集座（1）內部釉體進行抽吸的抽吸泵及釉料過濾裝置。

技術總結
本技術公開了一種陶瓷墻磚生產用表面淋釉裝置，涉及瓷磚施釉生產設備技術領域，包括收集座，收集座的頂端設置有運輸物料的輸送帶，收集座的頂端固定有圓錐形的淋釉盤，淋釉盤的上方設置有下料箱，還包括設置在下料箱、淋釉盤上的調節(jié)機構；所述調節(jié)機構包括導向單元、傳動單元；所述導向單元用于為釉體的流動提供導向。本技術通過設置調節(jié)機構，啟動驅動電機來帶動淋釉盤轉動使第一導向桿同步轉動，而第二導向桿也將靠近或遠離第一導向桿，從而對第一導向桿、第二導向桿形成的扇形端口進行調節(jié)，通過下料箱將釉體排放至淋釉盤上的固定環(huán)內側，通過固定環(huán)的開口與第一導向桿、第二導向桿對釉體的流向進行導向，完成對瓷磚的淋釉操作。

技術研發(fā)人員：李亮,陳林林,王立臣,晏世星
受保護的技術使用者：山東格倫凱陶瓷有限公司
技術研發(fā)日：20241206
技術公布日：2025/1/6