專利名稱：在陶瓷上形成大理石紋飾的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在陶瓷上形成圖紋的方法，特別是形成大理石紋飾的方法。
陶瓷制品從人類歷史發(fā)展早期就已深深影響人類的生活方式，基于技術(shù)的進(jìn)步陶瓷制造技術(shù)也日益精湛。以下就傳統(tǒng)的制造陶瓷的方式作一描述

圖1為制造陶瓷的流程，將數(shù)種原料(多種配土)100加水混合后，以一加水研磨步驟101將原料研磨形成漿，經(jīng)過一壓濾步驟102將泥漿中的雜質(zhì)過濾并排出水份形成塊狀泥餅；接著一練泥步驟103a將上述泥餅以練泥機(jī)將泥餅切成細(xì)小條狀，并使其濕度分布均勻，然后一旋胚成形或壓胚成形步驟，形成產(chǎn)品形狀稱為胚體。另外于壓濾步驟102之后，有另一制作流程，即操作一打漿步驟103b使上述泥餅形成漿料，再將此漿料灌入石膏模中成形(也就是注模成形步驟104b)，經(jīng)過成形后的胚體再經(jīng)一修整步驟105后，將胚體加以素?zé)?06形成素?zé)?，接著一施釉步驟將釉料彩繪于素繞胚上，緊接著將施釉后的素?zé)呓?jīng)一高溫?zé)撇襟E108后便形成陶瓷制品109。
在制作陶瓷過程中，施釉步驟為相當(dāng)關(guān)鍵的一環(huán)，釉料為多種礦物質(zhì)經(jīng)調(diào)水研磨而成，濃度控制在35～60度之間，胚體施釉后以高溫?zé)疲鄢刹Ａ畹谋Ｗo(hù)層，使燒成的器物產(chǎn)生美麗的光澤，并可防止強(qiáng)酸及強(qiáng)堿侵蝕，增加陶瓷器的實(shí)用價值。施釉法有下列幾種，諸如浸釉法、刷釉法、噴釉法、淋釉法與鹽釉法等。
傳統(tǒng)的紋飾處理包括形成大理石紋的數(shù)種方法，如色土絞胎法，為利用多種色土混合，用旋胚成形方式成形，使其形成大理石紋路，然后施透明釉燒成；或以多種有色泥漿混合注入石膏模中，同時旋轉(zhuǎn)石膏模使形成類似大理石紋飾，然后施透明釉燒成。這兩種方法會造成大量有色廢土，無法再回收利用，而釉下彩或釉下彩方式均需要使用大量人力，直接影響生產(chǎn)效益的提高；另外有轉(zhuǎn)寫印刷法，此種方法僅限于單純的形體使用，無法適用于任何形體上。
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種在陶瓷上形成大理石紋飾的新方法，該方法程序簡便，生產(chǎn)效益高，且不會產(chǎn)生過多有色廢土，同時適用于任何造型的素?zé)鳌?br> 本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，主要采用了上釉新工藝，使用一種高密度、粘度小、高稠度的底釉，然后將比重小、粘度大、低稠度的面釉緩緩倒入底釉中，由于兩種釉比重及粘度的落差，面釉在底釉中未立即溶解，并漂浮于底釉的表層。接著劃動釉面使其產(chǎn)生大理石紋，然后將素?zé)卟糠纸谟灾袧L轉(zhuǎn)一圈，使釉彩覆于素?zé)呱希瓿缮嫌猿绦蚝笤诟邷刂袩萍串a(chǎn)生大理石紋飾。
其中，底釉比重約為1.20～1.50，粘度約為8至10；而面釉的比重較小為1.10～1.40，粘度較底釉大，約為4～6；所述底釉的水份含量約為60-70％，面釉的水份含量約為70-80％；燒制該素?zé)鞯臏囟确秶鸀?80至1250℃。
本發(fā)明由于利用了底釉與面釉兩種釉在比重和粘度上的落差，使面釉不會立即溶解于底釉中，且漂浮于其表層，經(jīng)攪動即產(chǎn)生所需要的深淺相間的大理石紋飾，只要將需上釉的素?zé)卟糠纸胗灾行D(zhuǎn)一圈即使素?zé)呱细街罄硎y飾，這種上釉新工藝方法簡單，生產(chǎn)效率高，既不會造成大量廢土，又能適用于任何造型的素?zé)撸哂袠O高的實(shí)用價值。
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步描述圖1為公知的制作陶瓷流程；圖2為本發(fā)明制作陶瓷制程中施釉過程的流程圖；圖3為本發(fā)明的施釉操作示意圖。
本發(fā)明所要揭示的為一種于陶瓷上形成大理石紋飾的方法。將數(shù)種原料(多種配土)加水混合后，以一加水研磨步驟1將原料研磨形成泥漿，經(jīng)過一壓濾步驟將泥漿中的雜質(zhì)濾出并排出水份形成塊狀泥餅；接著一練泥步驟將上述泥餅以練泥機(jī)將泥餅切成細(xì)小條狀，并使其濕度分布均勻，然后一旋胚成形或壓胚成形步驟，形成產(chǎn)品形狀稱為胚體；另外于壓濾步驟之后，有另一制作流程，即操作一打漿步驟使上述泥餅形成漿料，再將此漿料灌入石膏模中成形(也就是注模成形步驟)，經(jīng)過成形后的胚體再經(jīng)一修整步驟后，將胚體加以素?zé)纬伤責(zé)?，接著一施釉步驟將釉料彩繪于素?zé)呱希o接著將施釉后的素?zé)呓?jīng)一高溫?zé)刹襟E后便形成陶瓷制品。
整個制程中欲形成大理石紋飾，重點(diǎn)在于施釉過程，本發(fā)明公開了一種新開發(fā)的應(yīng)用于陶瓷制品的施釉方法。此方法包含下列操作步驟(1)提供一由各種透明釉、白釉、有色釉所組成的底釉加入懸浮劑，使釉變稠造成高懸浮效果，所使用的懸浮劑有氯化鉀、皂土、鹽、硼酸鈣等。上述底釉具有高比重、粘度小、高稠度，其比重范圍約為1.20至1.50之間，粘度約為8至10之間，水份含量約為60～70％；接著將比重小、粘度大、低稠度的面釉緩緩倒入上述底釉中，所述底釉系利用各種有色的透明釉或不透明釉加入粘劑，使釉的黏度變強(qiáng)不易被水所分解稀釋。所使用的粘劑可以是C.M.C粘劑、阿拉伯膠、VEEGUMCER粘劑等，其中釉料中粘劑的含量約為2-10％，其比重范圍約為1.10至1.40之間，粘度約為4至6之間，水份含量約為70～80％。由于面釉與底釉具有比重及粘度的落差，故面釉于底釉中不會馬上溶解而會飄浮于底釉的表層上；(2)劃動釉面使釉面產(chǎn)生大理石紋；(3)將素?zé)卟糠纸胍旬a(chǎn)生大理石紋飾的釉中然后旋轉(zhuǎn)一圈，使釉彩附著于素?zé)呱希?4)對上釉的素?zé)哌M(jìn)行高溫?zé)?，形成具大理石紋的陶瓷制品，高溫?zé)频臏囟葹?80～1250℃。
圖2為本發(fā)明制作陶瓷制程中施釉過程的流程圖，素?zé)?00諸如白瓷胚、半瓷胚、白云土胚與骨瓷胚等作素材，一水溶性漂浮施釉步驟201施予上述素材上，此一步驟包含提供一高比重、粘度小、高稠度的底釉，接著將比重小、粘度大、低稠度的面釉緩緩倒入上述底釉中，由于面釉與底釉具有比重及粘度的落差，故面釉于底釉中不會馬上溶解而會飄浮于底釉的表層上；接著施以一紋飾步驟202，此步驟包括劃動釉面使釉面產(chǎn)生大理石紋；最后施以一滾轉(zhuǎn)圖飾步驟203，此步驟為將素?zé)鞑糠纸胍旬a(chǎn)生大理石紋飾的釉中然后旋轉(zhuǎn)一圈，使釉彩附著于素?zé)呱稀?br> 圖3為在素?zé)魃线M(jìn)行水溶性漂浮施釉步驟的圖示，此步驟包含提供一底釉301，其具有高比重、黏度小、高稠度；接著將一比重小、黏度大、低稠度的面釉302緩緩倒入上述底釉301中，由于面釉302與底釉301具有比重及黏度的落差，故面釉于底釉中不會馬上溶解而會飄浮于底釉的表層上；接著施以一紋飾步驟，此步驟包括劃動釉面使釉面產(chǎn)生大理石紋；最后施以一滾轉(zhuǎn)圖飾步驟，此步驟為將素?zé)?03部分浸入已產(chǎn)生大理石紋飾的釉中，然后旋轉(zhuǎn)一圈，使釉彩附著于素?zé)?03上。
這種在陶瓷上形成大理石紋飾的新方法簡單而實(shí)用，可以形成多種色彩和花紋，且適用于任何形體上，可大大提高生產(chǎn)效益。
權(quán)利要求
1．一種在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于該方法至少包含提供一底釉；懸浮一面釉于該底釉的表層上，該面釉具有相對于所述底釉相對小比重、大粘度與低稠度；劃動該面釉的表面以形成大理石紋飾；將該素?zé)卟糠纸谠摰子浴⒃撁嬗灾?，并旋轉(zhuǎn)該素?zé)咭蝗κ乖摯罄硎y飾附著于該素?zé)呱希患坝酶邷責(zé)圃撍責(zé)咭孕纬删哂写罄硎y飾的陶瓷制品。
2．如權(quán)利要求1所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述底釉比重范圍約為1.20至1.50之間，粘度約為8至10。
3．如權(quán)利要求1所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述的面釉，其比重范圍約為1.10至1.40之間，粘度約為4至6。
4．如權(quán)利要求1所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述的底釉的水份含量約為60～70％。
5．如權(quán)利要求1所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述的面釉的水份含量約為70～80％。
6．如權(quán)利要求1所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述高溫?zé)圃撍責(zé)叩臏囟确秶鸀?80至1250℃。
7．一種在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于該方法至少包含提供底釉，其比重范圍約為1.20至1.50之間，粘度約為8至10；懸浮面釉于該底釉的表層上，該面釉相對于該底釉具有相對小比重、大粘度、與低稠度，其比重范圍約為1.10至1.40之間，粘度約為4至6；劃動該面釉表面以形成大理石紋飾；浸入部分的該素?zé)哂谠摰子浴⒃撁嬗灾?，并旋轉(zhuǎn)該素?zé)咭蝗κ乖摯罄硎y飾附著于該素?zé)呱?；及用高溫?zé)圃撍責(zé)咭孕纬删哂写罄硎y飾的陶瓷制品。
8．如權(quán)利要求7所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述底釉的水份含量約為60～70％。
9．如權(quán)利要求7所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述面釉的水份含量約為70-80％。
10．如權(quán)利要求7所述的在陶瓷上形成大理石紋飾的方法，其特征在于所述用高溫?zé)圃撍責(zé)叩臏囟确秶鸀?80至1250℃。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種在陶瓷上形成大理石紋飾的方法,此方法重點(diǎn)在于上釉過程,包含提供一高密度、粘度小、高稠度的底釉,然后將比重小、粘度大、低稠度的面釉緩緩倒入底釉中,由于兩種釉比重及粘度的落差,面釉在底釉中未立即分解,并漂浮于底釉的表層。接著劃動釉面使其產(chǎn)生大理石紋,然后將素?zé)卟糠纸谟灾袧L轉(zhuǎn)一圈,使釉彩覆于胚上,完成上釉程序后在高溫中燒制即產(chǎn)生大理石紋。
文檔編號C04B41/50GK1218020SQ97122999
公開日1999年6月2日 申請日期1997年11月25日 優(yōu)先權(quán)日1997年11月25日
發(fā)明者余萬居 申請人:協(xié)和陶瓷廠股份有限公司