專利名稱：特別用于瓷磚的旋轉(zhuǎn)上釉機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種特別是用于瓷磚的旋轉(zhuǎn)上釉機。
具體地說，但并非只是如此，它被用在瓷磚的上釉操作上，包括將一層釉料分布在單個磚片上表面的至少一部分上。
現(xiàn)在有各種不同的方法和上釉機用在這種工作上，其中一種將釉層分布在磚上的方法采用一種被稱為“鐘罩系統(tǒng)”的系統(tǒng)，在該系統(tǒng)中磚片沿著一條輸送帶按預定的速率被輸送并移動到一降落釉料的雙重幕之下，該幕的形狀特征如一鐘罩，方法因此得名。這種方法用得很普遍并且能在磚片的中心部留下光滑而又均勻的釉層。但在邊緣附近，釉層就分布得不太均勻。而且，釉料會堆積在磚片的邊緣上，因此必須刮掉，為此顯然需要專用工具，并導致相當多的釉料耗費，因為刮下的東西不能再使用。
倒置的杯狀元件或“鐘罩”，即用來使釉料從其內(nèi)掉落的元件顯然必須經(jīng)常定期清洗。
總之，目的是要使釉層均勻地分布在磚片的整個表面上。
“螺旋機”(threader)系統(tǒng)具有類似的特征。
另一種用來將釉料敷設(shè)在整個磚面上的系統(tǒng)是用特殊的旋轉(zhuǎn)盤將釉料分散成灑向各個方向特別是朝向磚面的小滴，這樣來覆蓋整個磚面。這個系統(tǒng)主要用于地板磚，并能將一個相當均勻而表面粗糙的釉層敷設(shè)在磚片的整個表面上。制成的釉層的粗糙會對進一步在其上敷設(shè)裝飾花樣造成困難。
本發(fā)明具有后面權(quán)利要求所提出的那些特征，可不受已知技術(shù)的限制并可避免其缺點，在它所提供的機械中，釉料的敷設(shè)是由兩個一前一后、接續(xù)布置的滾筒操作的。該機械設(shè)有可彈性變形的周邊部與磚片接觸。兩個滾筒中的第一個經(jīng)預先安排，滾壓在磚片表面上而將釉料敷設(shè)在其上，而第二個滾筒緊接第一個滾筒之后起阻滯作用地在磚片上旋轉(zhuǎn)。這樣來把均勻的釉層敷設(shè)在磚片上。
本發(fā)明另一個優(yōu)點是磚片的邊緣不需再清理，這樣可節(jié)省相當多的釉料，而完全不需收集釉滴的機械，而這在現(xiàn)有技術(shù)的現(xiàn)有生產(chǎn)線上是必需設(shè)置的。
本發(fā)明還有一個優(yōu)點是它可有選擇地對磚片上的凸起部分上釉，從而顯然，磚片表面上的凹進部分可以不上釉。但如果需要，磚片表面上的凹進部分也可上釉。
本發(fā)明的另外一些特征和優(yōu)點可從下面結(jié)合附圖以純粹為非限定性范例方式示出的、對本發(fā)明的較優(yōu)但并非獨一的實施例所作的詳細說明得到較好的了解，其中

圖1為圖2中按Ⅱ-Ⅱ線所作的概略剖面圖；圖2為圖1的概略平面圖；圖3為涉及本發(fā)明第一實施例的按照圖2中Ⅱ-Ⅱ線所作剖面細節(jié)的放大的概略圖；圖4為涉及本發(fā)明第二實施例的與圖3相同的剖面圖；圖5為涉及本發(fā)明第三實施例的與圖3相同的剖面圖；參閱附圖，標號1概略地指出瓷磚2的可移動的支承平面，在該平面上磚片可沿箭頭7所指方向被轉(zhuǎn)移。
支承平面1可由在平面8上運行的公知型式的通常的傳送帶構(gòu)成。
支承平面1為通常的傳送線例如瓷磚2的帶式傳送線的一部分。
旋轉(zhuǎn)上釉裝置位在支承平面1之上，具有兩個軸線互相平行的滾筒3和4，這兩個滾筒具有相同的結(jié)構(gòu)，并都由一個剛性的芯軸和在其上預先安排的可彈性變形的外圓筒表面構(gòu)成。具體地說，這個可彈性變形的部分又由兩個部分構(gòu)成，內(nèi)層為高度可彈性變形的海綿質(zhì)，外層比較密實，但亦可彈性變形。
最好內(nèi)層由硅酮型海綿材料制成，而外層由聚合的(利用加聚作用)硅酮橡膠制成。
兩個滾筒3和4在其兩端部設(shè)有冕部(冠部)35和45，冕部35和45與其相關(guān)的光滑外圓筒表面30和40具有相同的直徑和同一軸線。冕部35和45沿其整個圓周表面上設(shè)有環(huán)狀溝36和46。釉料收集斗37和47就位在冕部35和45的環(huán)狀溝36和46的面向下的一側(cè)的下方。斗內(nèi)設(shè)有管道通往位在其下方的收集容器5，在該容器的底部設(shè)有一根管道6可將釉料輸送到分配器33和43，由該分配器將釉料輸送到滾筒3和4的光滑外圓筒表面30和40上。
在光滑的外圓筒表面上設(shè)有許多小穴31和41可收集并存儲少量釉料。
小穴31和41均勻地分布在光滑外圓筒表面30和40的預先制就的部分上。
有兩把刮刀32和42被安排沿著光滑外圓筒表面30和40的母線與該表面接觸并在其上操作。刮刀32和42交替地在與滾筒3和4的軸線平行的方向上振動。交替驅(qū)動是由公知裝置(未示出)提供的。刮刀32和42的目的是要將分配裝置33和43所引入到光滑外圓筒表面30和40上的釉料分布刮勻，以使得到最佳的釉料分布及小穴31和41的重新填滿，從而在其上形成極薄的釉層34和44。刮刀32和42還有一個重要功能是使釉料“更新”，使釉料經(jīng)常被攪動，并在每一次滾筒3和4旋轉(zhuǎn)滿一整圈時至少更新部分釉料。
刮刀32和42被支承在裝置上，該裝置使刮刀片抵壓在相關(guān)滾筒的外圓筒表面上的壓力可以調(diào)節(jié)。
兩個滾筒3和4都被預先安排在支座上使它們相對于支承平面1的位置能被調(diào)節(jié)，從而使?jié)L筒抵壓在支承平面，傳送的磚片2上的壓力可被校正。
滾筒3被賦予旋轉(zhuǎn)運動，方向如箭頭38所示，因此光滑的外圓筒表面30可不受阻滯地以預先建立的壓力在生產(chǎn)線1上所傳送的磚片2的上表面上旋轉(zhuǎn)。滾筒4也被賦予旋轉(zhuǎn)運動，但其方向如箭頭48所示，因此光滑的外圓筒表面40可按預先建立的壓力，在已經(jīng)在滾筒3下面通過而被支承平面1載運的磚片2的上表面上滾動。具體地說，光滑的外圓筒表面40在與磚片的上表面接觸時會對它起阻滯作用，因為滾筒4旋轉(zhuǎn)的方向與磚片2傳送的方向相反。
滾筒3的獨一的任務(wù)是在其下通過的磚片的上表面上堆積一個釉層。具體地說，要敷設(shè)的釉料已被包含在小穴31內(nèi)并且一個極薄的釉層已被刮刀32預先安排在光滑外圓筒表面30上。
在另一方面，滾筒4的任務(wù)是完成上釉操作，雖然它也會將在其光滑外圓筒表面40上小穴內(nèi)所含的釉料的至少一部分敷設(shè)在磚片上，但因其旋轉(zhuǎn)方向與磚片2的傳送方向相反，因此在磚片2的上表面上造成一種再分布，從而可使在其上生成的釉層均勻。
滾筒4也需要敷設(shè)一定數(shù)量的釉料，為的是與已被滾筒3堆積在磚面上的釉料混合并摻和。
本文所示的機械能在磚片的平表面上敷設(shè)一個均勻而完全光滑的釉層，不再需要在磚片的邊緣上進行清理和修邊操作，因為沒有過多的釉料堆積在邊緣上。
圖3概略地示出兩個滾筒3和4在磚片2上的作用，該磚片2的上表面必須完全被上釉。
圖4概略地示出布置在不具有均勻平表面的磚片2’上的凸部的上釉，例如由凸部和明顯的凹部構(gòu)成的、目的是模擬馬賽克效應的磚片。在這種情況下，可調(diào)節(jié)施加在磚片2’上的滾筒壓力，使?jié)L筒3只在磚片2’上的凸部區(qū)上堆積釉料，而滾筒4只是并總是在同一區(qū)域內(nèi)進行接觸和上釉的完成工作，還把少量的釉料堆積在凸起表面的邊緣上。
本發(fā)明另一個可實現(xiàn)的應用是在磚片的凹腔內(nèi)填充釉料。這個情況如圖5所示，其中磚片2”具有要用釉料填充的凹腔。在本例中滾筒3不加區(qū)別地將釉料堆積在磚片2”的整個上表面上，因此也堆積到凹腔內(nèi)，而反方向旋轉(zhuǎn)的滾筒4起到刮輥的作用，將預先堆積在磚片2”的凹腔內(nèi)的釉料刮平并從凸部的上面區(qū)域移走幾乎所有的釉料。
為了使接受滾筒4作用的磚片2、2’和2”保持被放置在支承平面1上，從該處它們將被移走(并正常地繼續(xù)它們的運動，不停止，也不放慢速率)，支承平面1可由一個連續(xù)表面構(gòu)成，但可包括多個支承區(qū)帶和并排設(shè)立的空區(qū)帶，并在第二滾筒4和磚片2、2’和2”之間的接觸區(qū)帶內(nèi)可有一低凹區(qū)作用在與所說滾筒4接觸的磚片上，以便使磚片2、2’和2”牢固地附著在所說支承平面1的支承區(qū)帶內(nèi)。上述低凹區(qū)也可設(shè)在滾筒3作用的區(qū)帶內(nèi)，使接受滾筒3作用的磚片2、2’、2”保持完善地附著在支承平面1上，從該處磚片將被移走，以便正常地繼續(xù)它們的運動。
上述機械使一種瓷磚的上釉方法能在其上實施，該方法包括下列步驟將釉料敷設(shè)在設(shè)有多個小穴31的第一滾筒3的可彈性變形的光滑外圓筒表面30上；用刮刀32去除堆積在所說光滑外圓筒表面30上的多余的釉料，該刮刀32被預先安排好，使它除能用釉料填充小穴31外，還能在所說表面上敷設(shè)一個預定的薄釉層34；通過使所說表面30不受阻滯地至少滾過在其下面的磚片2、2’、2”表面的一部分而轉(zhuǎn)移包含在所說小穴31內(nèi)的及敷設(shè)在所說光滑外圓筒表面30上的釉料轉(zhuǎn)移；將釉料敷設(shè)在設(shè)有多個小穴41的第二滾筒4的可彈性變形的光滑外圓筒表面40上；用刮刀42去除堆積在所說光滑外圓筒表面40上的多余的釉料，該刮刀42被預先安排好，使它除能用釉料填充小穴41外，還能在磚片2、2’、2”的表面上敷設(shè)一個具有預定厚度的薄的釉層44；通過使表面40在已經(jīng)先由第一滾筒3敷設(shè)了一個釉層的所說磚片2、2’、2”上表面的至少一部分上受阻滯地轉(zhuǎn)動，而使包含在小穴41內(nèi)的及敷設(shè)在所說光滑外圓筒表面40上的釉料至少部分地轉(zhuǎn)移。
本發(fā)明能夠在磚片表面上得到一個均勻的釉層而可不需清理磚片邊緣。
另外，本發(fā)明能使釉料堆積在磚片的凸起的表面上而不堆積在其凹部上，并且反過來也可做到。
權(quán)利要求
1．一種特別是用來給瓷磚上釉的旋轉(zhuǎn)上釉機，它包括一個可移動的支承平面，以便將磚片放在其上使磚片按預定方向傳送；一個位在所說支承平面上方的旋轉(zhuǎn)上釉裝置；其中所說旋轉(zhuǎn)上釉裝置包括一個第一滾筒，可環(huán)繞其軸線旋轉(zhuǎn)，具有一個可彈性變形的周邊部，還有一個由彈性體材料制成的、光滑的外圓筒表面，在該表面上設(shè)有多個小穴；所說第一滾筒可被驅(qū)動環(huán)繞其所說軸線旋轉(zhuǎn)，并能相對于所說支承平面而定位，以使所說圓筒形表面能不受阻滯地并能以預定的壓力在被所說支承平面?zhèn)魉偷拇u片的上表面上滾動；至少一個第一刮刀，它被預先安排以便在所說第一滾筒的圓筒形表面上操作；一個第二滾筒，可環(huán)繞其軸線旋轉(zhuǎn)，具有至少一個可彈性變形的周邊部，還有一個由彈性體材料制成的、光滑的外圓筒表面，在該表面上設(shè)有多個小穴；所說第二滾筒被設(shè)置得與所說第一滾筒平行并被驅(qū)動環(huán)繞其所說軸線旋轉(zhuǎn)，還能相對于所說支承平面而定位，以使所說圓筒形表面能起阻滯作用地并以預定的壓力在被所說支承平面?zhèn)魉偷拇u片的上表面上滾動；至少一個第二刮刀，它被預先安排以便在所說第二滾筒的所說圓筒形表面上操作；還包括設(shè)在所說第一和第二刮刀上游的釉料分配器，以便將釉料堆積在所說第一和第二滾筒的所說圓筒形表面上。
2．按照權(quán)利要求1的上釉機，其特征為，所說第二滾筒環(huán)繞其所說軸線旋轉(zhuǎn)，以使其光滑外圓筒表面以預定的速率旋轉(zhuǎn)，但其方向則與和它接觸并在其下面被傳送的磚片的方向相反。
3．按照權(quán)利要求1的上釉機，其特征為，所說第一和第二刮刀平行于所說第一和第二滾筒的所說軸線而交替振動，并能相對于所說光滑外圓筒表面而調(diào)節(jié)其位置，以便能在所說表面上堆積一個預定的薄的釉層并填充所說小穴。
4．按照權(quán)利要求2的上釉機，其特征為，所說第一和第二刮刀平行于所說第一和第二滾筒的所說軸線而交替振動，并能相對于所說光滑外圓筒表面而調(diào)節(jié)其位置，從而能在所說表面上堆積一個預定的薄的釉層并填充所說小穴。
5．按照權(quán)利要求3的上釉機，其特征為，所說可移動的支承平面不是由連續(xù)的支承表面構(gòu)成的，而是有多個與空區(qū)帶并排設(shè)置的支承區(qū)帶，還在所說第一滾筒和所說磚片的接觸區(qū)帶下面設(shè)有低凹部，所說低凹部的目的是要使所說磚片保持附著在所說可移動支承平面的所說支承區(qū)帶上。
6．按照權(quán)利要求4的上釉機，其特征為，所說可移動的支承平面不是由連續(xù)的支承表面構(gòu)成的，而是有多個與空區(qū)帶并排設(shè)置的支承區(qū)帶，還在所說第一滾筒和所說磚片的接觸區(qū)帶下面設(shè)有低凹部，所說低凹部的目的是要使所說磚片保持附著在所說可移動支承平面的所說支承區(qū)帶上。
7．按照權(quán)利要求1的上釉機，其特征為，所說支承平面不是由連續(xù)的支承表面構(gòu)成的，而是有多個與空區(qū)帶并排設(shè)置的支承區(qū)帶，還在所說第二滾筒和所說磚片的接觸區(qū)帶下面設(shè)有低凹部，以便使磚片保持附著在所說支承平面的所說支承區(qū)帶上。
8．按照權(quán)利要求2的上釉機，其特征為，所說支承平面不是由連續(xù)的支承表面構(gòu)成的，而是有多個與空區(qū)帶并排設(shè)置的支承區(qū)帶，還在所說第二滾筒和所說磚片的接觸區(qū)帶下面設(shè)有低凹部，以便使磚片保持附著在所說支承平面的所說支承區(qū)帶上。
9．按照權(quán)利要求1的上釉機，其特征為，所說第一和第二滾筒的兩端都設(shè)有冕部，所說冕部與外圓筒表面具有相同的直徑和同一軸線，所說冕部還設(shè)有外部的環(huán)狀溝。
10．按照權(quán)利要求2的上釉機，其特征為，所說第一和第二滾筒的兩端都設(shè)有冕部，所說冕部與外圓筒表面具有相同的直徑和同一軸線，所說冕部還設(shè)有外部的環(huán)狀溝。
11．按照權(quán)利要求7的上釉機，其特征為具有設(shè)在冕部環(huán)狀溝下方的釉料收集斗，斗內(nèi)設(shè)有管道通往位在其下的收集容器，在該容器底部又有一根管道將釉料輸送到所說釉料分配器。
12．一種特別用于瓷磚的旋轉(zhuǎn)上釉方法，其特征在于包括下列步驟將釉料敷設(shè)在設(shè)有多個小穴的第一滾筒的可彈性變形的光滑外圓筒表面上；用刮刀去除堆積在所說光滑外圓筒表面上的多余的釉料，該刮刀被預先安排好，使它除能用釉料填充小穴外，還能在所說表面上敷設(shè)一個預定的薄的釉層；通過使所說表面不受阻滯地滾過在其下面的磚片表面的一部分而轉(zhuǎn)移包含在所說小室內(nèi)的及敷設(shè)在所說光滑外圓筒表面上的釉料；將釉料敷設(shè)在設(shè)有多個小穴的第二滾筒的可彈性變形的光滑外圓筒表面上；用刮刀去除堆積在所說光滑外圓筒表面上的多余的釉料，該刮刀被預先安排好，使它除能用釉料填充小穴外，還能在磚片的表面上敷設(shè)一個具有預定厚度的薄的釉層；使所說表面起阻滯作用地在已先由第一滾筒敷設(shè)了一個釉層的所說磚片上表面的至少一部分上轉(zhuǎn)動，而轉(zhuǎn)移包含在小室內(nèi)的及敷設(shè)在所說光滑外圓筒表面上的部分釉料。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種特別用于瓷磚的旋轉(zhuǎn)上釉機,磚片在一可移動的支承平面上按預定方向被傳送,有一旋轉(zhuǎn)上釉裝置設(shè)在支承平面的上方。該裝置具有兩個并排靠近設(shè)置的滾筒,兩者都可設(shè)有可彈性變形的周邊部,釉料可推積在其上,第一滾筒的磚片的上表面上作不受阻滯的接觸滾動,從而將釉料轉(zhuǎn)移到磚片上,而第二滾筒的旋轉(zhuǎn)方向與第一滾筒相反,在與磚片上已被第一滾筒堆積的釉層接觸時,可起到阻滯作用而使釉料均勻分布。
文檔編號B28B11/04GK1223926SQ97125930
公開日1999年7月28日 申請日期1997年12月24日 優(yōu)先權(quán)日1997年12月24日
發(fā)明者弗蘭克·斯提芬尼 申請人:西法爾公司