一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于硅片切割技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]使用金剛線(xiàn)設(shè)備進(jìn)行硅片切片加工時(shí)，需要噴淋冷卻液進(jìn)行冷卻和潤(rùn)滑，由于冷卻液含有乳化劑、表面活性劑等成分，在高速切割過(guò)程中，會(huì)由于沖擊作用產(chǎn)生大量泡沫，影響冷卻液流量穩(wěn)定性。
[0003]為避免雙向切割時(shí)，未參與冷卻一側(cè)冷卻液被直接甩出，需要進(jìn)行左右噴液自動(dòng)啟停。
[0004]可能的解決方向有機(jī)械控制和電子控制兩種。
[0005]前者采用機(jī)械結(jié)構(gòu)控制，以截流的思路進(jìn)行設(shè)計(jì)，不對(duì)管道壓力和幕簾形成影響，只在使用端進(jìn)行截流和放行切換，簡(jiǎn)單可靠。
[0006]后者采用三通電磁閥門(mén)來(lái)實(shí)現(xiàn)，使得未使用側(cè)瞬間關(guān)停，使用側(cè)快速穩(wěn)定噴淋，由于左右切換頻率高，在切換過(guò)程存在管道壓力變化的問(wèn)題，可能引起供應(yīng)泵因阻力波動(dòng)大而壽命衰減，同時(shí)開(kāi)啟側(cè)的噴淋幕簾也無(wú)法快速形成穩(wěn)定狀態(tài)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明目的在于針對(duì)金剛線(xiàn)雙向切割過(guò)程中，未使用側(cè)的冷卻液被線(xiàn)網(wǎng)甩出形成大量泡沫，影響冷卻液流量，最終影響切割加工品質(zhì)的問(wèn)題，提供一種機(jī)械式冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)。
[0008]本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的，采用如下技術(shù)方案:
一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，用于硅片切割設(shè)備，其特征在于:其包括設(shè)置在兩個(gè)主輥上方的平衡框架，分別設(shè)置在兩個(gè)主輥外側(cè)的兩塊觸發(fā)擋板，設(shè)置在冷卻液噴管前方截流擋板；所述平衡框架在主輥軸向設(shè)置有樞軸，可繞樞軸左右擺動(dòng)；所述觸發(fā)擋板一端與平衡框架的一側(cè)相連接，用于感受冷卻液的沖擊，并帶動(dòng)平衡框架繞樞軸傾斜；所述截流擋板固定在平衡框架的一側(cè)，平衡框架向一側(cè)傾斜時(shí)，同側(cè)的截流擋板封住冷卻液噴管的下沿，將冷卻液導(dǎo)向非工作區(qū)。
[0009]其進(jìn)一步特征在于:所述平衡框架為矩形，所述樞軸設(shè)置在垂直于主輥軸線(xiàn)兩條邊的中心位置，所述兩塊觸發(fā)擋板和兩塊截流擋板分別設(shè)置在平衡框架平行于主輥軸線(xiàn)的兩條邊上。
[0010]進(jìn)一步的:所述觸發(fā)擋板包括觸發(fā)器和連接桿，所述連接桿連接平衡框架和觸發(fā)器，所述觸發(fā)器用于感受冷卻液的沖擊。
[0011]優(yōu)選的:所述觸發(fā)器為L(zhǎng)形截面擋板，其寬度小于主輥長(zhǎng)度。
[0012]所述截流擋板為U形截面的溝槽。
[0013]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠，在原有設(shè)備基礎(chǔ)上進(jìn)行簡(jiǎn)單改造加裝即可使用，并且不會(huì)對(duì)原有設(shè)備的電子、動(dòng)力設(shè)備產(chǎn)生任何干擾，同時(shí)達(dá)到了消除未使用側(cè)冷卻液甩出飛濺的情況，減弱了冷卻液富泡化的缺陷，使得切割加工穩(wěn)定。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本發(fā)明正視示意圖。
[0015]圖2為本發(fā)明俯視示意圖。
[0016]圖3為本發(fā)明一種工作狀態(tài)示意圖。
[0017]圖4為本發(fā)明一種工作狀態(tài)下冷卻液流向示意圖。
[0018]圖5為本發(fā)明另一種工作狀態(tài)示意圖。
[0019]圖6為本發(fā)明另一種工作狀態(tài)下冷卻液流向示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]如圖1、2所示，一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，用于硅片切割設(shè)備，其包括設(shè)置在兩個(gè)主輥4上方的矩形平衡框架1，分別設(shè)置在兩個(gè)主輥4外側(cè)的兩塊觸發(fā)擋板2，設(shè)置在冷卻液噴管5前方截流擋板3。所述平衡框架I在垂直于主輥4軸線(xiàn)兩條邊的中心位置設(shè)置有樞軸11，可繞樞軸11左右擺動(dòng)。所述兩塊觸發(fā)擋板2和兩塊截流擋板3分別設(shè)置在平衡框架I平行于主輥4軸線(xiàn)的兩條邊上。所述觸發(fā)擋板2 —端與平衡框架I的一側(cè)相連接，用于感受冷卻液的沖擊，并帶動(dòng)平衡框架I繞樞軸11傾斜；所述截流擋板3固定在平衡框架I的一側(cè)，平衡框架I向一側(cè)傾斜時(shí)，同側(cè)的截流擋板3封住冷卻液噴管5的下沿，將冷卻液導(dǎo)向非工作區(qū)。
[0021 ] 所述觸發(fā)擋板2包括觸發(fā)器22和連接桿21，所述連接桿21連接平衡框架I和觸發(fā)器22，所述觸發(fā)器22用于感受冷卻液的沖擊。所述觸發(fā)器22為L(zhǎng)形截面擋板，其寬度小于主輥長(zhǎng)度。所述截流擋板3為U形截面的溝槽。
[0022]如圖1、2所示，在未使用狀態(tài)，平衡框架I趨于左右平衡。如圖3、4所示，切割開(kāi)始后，冷卻液未使用端會(huì)由于線(xiàn)網(wǎng)高速運(yùn)轉(zhuǎn)導(dǎo)致冷卻液甩出，沖擊該側(cè)觸發(fā)擋板2，使得整體框架I向該側(cè)傾斜，截流擋板3接住冷卻液噴管5的冷卻液，觸發(fā)擋板2不再受到?jīng)_擊，由于截流擋板3內(nèi)的液體重力作用維持住整個(gè)機(jī)構(gòu)的傾斜狀態(tài)。如圖5、6所示，直到切割換向后，另一側(cè)冷卻液甩出，平衡框架I被另一個(gè)觸發(fā)擋板2觸發(fā)傾斜向另一側(cè)，另一側(cè)的截流擋板3接住另一側(cè)冷卻液噴管5的冷卻液，另一側(cè)觸發(fā)擋板2不再受到?jīng)_擊，整個(gè)機(jī)構(gòu)進(jìn)入另一個(gè)方向的傾斜狀態(tài)。如此循環(huán)往復(fù)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，用于硅片切割設(shè)備，其特征在于:其包括設(shè)置在兩個(gè)主輥上方的平衡框架，分別設(shè)置在兩個(gè)主輥外側(cè)的兩塊觸發(fā)擋板，設(shè)置在冷卻液噴管前方截流擋板；所述平衡框架在主輥軸向設(shè)置有樞軸，可繞樞軸左右擺動(dòng)；所述觸發(fā)擋板一端與平衡框架的一側(cè)相連接，用于感受冷卻液的沖擊，并帶動(dòng)平衡框架繞樞軸傾斜；所述截流擋板固定在平衡框架的一側(cè)，平衡框架向一側(cè)傾斜時(shí)，同側(cè)的截流擋板封住冷卻液噴管的下沿，將冷卻液導(dǎo)向非工作區(qū)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述平衡框架為矩形，所述樞軸設(shè)置在垂直于主輥軸線(xiàn)兩條邊的中心位置，所述兩塊觸發(fā)擋板和兩塊截流擋板分別設(shè)置在平衡框架平行于主輥軸線(xiàn)的兩條邊上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述觸發(fā)擋板包括觸發(fā)器和連接桿，所述連接桿連接平衡框架和觸發(fā)器，所述觸發(fā)器用于感受冷卻液的沖擊。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述觸發(fā)器為L(zhǎng)形截面擋板，其寬度小于主輥長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，其特征在于:所述截流擋板為U形截面的溝槽。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公布了一種冷卻噴淋自動(dòng)啟停機(jī)構(gòu)，用包括設(shè)置在兩個(gè)主輥上方的平衡框架，分別設(shè)置在兩個(gè)主輥外側(cè)的兩塊觸發(fā)擋板，設(shè)置在冷卻液噴管前方截流擋板；所述平衡框架在主輥軸向設(shè)置有樞軸，可繞樞軸左右擺動(dòng)；所述觸發(fā)擋板一端與平衡框架的一側(cè)相連接，用于感受冷卻液的沖擊，并帶動(dòng)平衡框架繞樞軸傾斜；所述截流擋板固定在平衡框架的一側(cè)，平衡框架向一側(cè)傾斜時(shí)，同側(cè)的截流擋板封住冷卻液噴管的下沿，將冷卻液導(dǎo)向非工作區(qū)。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單可靠，在原有設(shè)備基礎(chǔ)上進(jìn)行簡(jiǎn)單改造加裝即可使用，且不會(huì)對(duì)原有設(shè)備的電子、動(dòng)力設(shè)備產(chǎn)生任何干擾，同時(shí)達(dá)到了消除未使用側(cè)冷卻液甩出飛濺的情況，減弱了冷卻液富泡化的缺陷，使得切割加工穩(wěn)定。
【IPC分類(lèi)】B28D7-02, B28D5-04
【公開(kāi)號(hào)】CN104552638
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510021387
【發(fā)明人】李斌全, 劉愛(ài)軍, 何江濤
【申請(qǐng)人】無(wú)錫隆基硅材料有限公司
【公開(kāi)日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2015年1月15日