本實(shí)用新型涉及食品加工裝置，特別是一種豆?jié){機(jī)。

背景技術(shù)：

現(xiàn)有一種豆?jié){機(jī)，包括機(jī)頭、杯體和底座，機(jī)頭扣置于杯體上，杯體放置于底座上，底座設(shè)有操作面板，底座設(shè)有第一耦合器，杯體設(shè)有與第一耦合器耦合電連接的第二耦合器，用戶(hù)在拿起杯體時(shí)，由于第一耦合器與第二耦合器之間的連接強(qiáng)度較大，會(huì)導(dǎo)致底座連同杯體一起被拿起，同時(shí)在這個(gè)過(guò)程中，由于用戶(hù)施加的外力作用，第一耦合器與第二耦合器之間的連接強(qiáng)度會(huì)下降，而由于用戶(hù)沒(méi)有意識(shí)到底座會(huì)被帶起，因此不會(huì)對(duì)底座施加外力，底座被意外帶起后，存在受自身重力而自動(dòng)脫落的風(fēng)險(xiǎn)，可能導(dǎo)致底座跌落損壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所要達(dá)到的目的就是提供一種豆?jié){機(jī)，防止底座在用戶(hù)拿起杯體時(shí)被意外帶起。

為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：一種豆?jié){機(jī)，包括機(jī)頭、杯體和底座，機(jī)頭扣置于杯體上，杯體連接于底座上，底座設(shè)有操作面板，底座設(shè)有第一耦合器，杯體設(shè)有與第一耦合器耦合電連接的第二耦合器，底座設(shè)有用于使底座附著在工作臺(tái)面上的輔助件。

進(jìn)一步的，所述操作面板平置，底座包括杯體連接區(qū)域，杯體連接區(qū)域位于操作面板的橫向一側(cè)，輔助件位于杯體連接區(qū)域的下方。

進(jìn)一步的，所述輔助件包括吸盤(pán)，吸盤(pán)安裝在底座的底面。

進(jìn)一步的，所述底座的外底面上以第一耦合器的中心垂直投影為圓心作直徑15～40mm的圓形所覆蓋的區(qū)域?yàn)槲P(pán)分布區(qū)域，吸盤(pán)設(shè)有至少兩個(gè)并位于吸盤(pán)分布區(qū)域內(nèi)。

進(jìn)一步的，所述吸盤(pán)設(shè)有多個(gè)，吸盤(pán)在杯體連接區(qū)域垂直投影在底座的外底面上的區(qū)域內(nèi)對(duì)稱(chēng)分布。

進(jìn)一步的，所述第一耦合器的中心所在的垂直方向上設(shè)有一個(gè)吸盤(pán)。

進(jìn)一步的，所述吸盤(pán)包括連接體和圓盤(pán)，連接體與底座連接固定，圓盤(pán)的外徑為15～30mm，圓盤(pán)的中心相對(duì)圓周凹陷2～6mm，圓盤(pán)的厚度為0.5～3mm。

進(jìn)一步的，所述輔助件為配重塊，配重塊固定在底座內(nèi)或底座的外底面，配重塊位于第一耦合器的下方。

進(jìn)一步的，所述底座的內(nèi)底面設(shè)有螺釘柱，配重塊設(shè)有安裝通孔，螺釘柱插入安裝通孔中，螺釘穿過(guò)安裝通孔與螺釘柱連接將配重塊固定。

進(jìn)一步的，所述輔助件為磁鐵，工作平臺(tái)上設(shè)有與輔助件相吸的鐵磁體或磁鐵；或者，所述輔助件為鐵磁體，工作平臺(tái)上設(shè)有與輔助件相吸的磁鐵。

采用上述技術(shù)方案后，本實(shí)用新型具有如下優(yōu)點(diǎn)：輔助件具有附著能力，可以利用表面張力、吸引力、粘合力等等多種形式實(shí)現(xiàn)輔助件對(duì)工作臺(tái)面的附著能力，在沒(méi)有刻意消除輔助件的附著能力時(shí)，底座會(huì)被固定在工作臺(tái)面上，從而防止底座在用戶(hù)拿起杯體時(shí)被意外帶起；而用戶(hù)需要將底座轉(zhuǎn)移位置，則可以施加外力來(lái)消除輔助件對(duì)工作臺(tái)面的附著能力，使得底座可以離開(kāi)工作臺(tái)面。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明：

圖1為本實(shí)用新型一種豆?jié){機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第一種分布示意圖；

圖3為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第二種分布示意圖；

圖4為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第三種分布示意圖；

圖5為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第四種分布示意圖；

圖6為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第五種分布示意圖；

圖7為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第六種分布示意圖；

圖8為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第七種分布示意圖；

圖9為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第八種分布示意圖；

圖10為實(shí)施例一中吸盤(pán)的第九種分布示意圖；

圖11為實(shí)施例一中吸盤(pán)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12為本實(shí)用新型實(shí)施例二中配重塊位于底座內(nèi)的示意圖。

具體實(shí)施方式

本實(shí)用新型提供一種豆?jié){機(jī)，如圖1所示，包括機(jī)頭1、杯體2和底座3，機(jī)頭1扣置于杯體2上，杯體2連接于底座3上，機(jī)頭1內(nèi)設(shè)有粉碎電機(jī)，粉碎電機(jī)的輸出軸伸出機(jī)頭1并伸入杯體2內(nèi)，輸出軸的端部設(shè)置有粉碎刀片，底座3設(shè)有操作面板31，操作面板31平置，即以水平或接近水平的狀態(tài)設(shè)置，接近水平是指操作面板31所在平面相對(duì)水平面傾斜的角度在15°以?xún)?nèi)。底座3設(shè)有第一耦合器32，杯體2設(shè)有與第一耦合器32耦合電連接的第二耦合器，杯體2還設(shè)有第三耦合器，機(jī)頭1設(shè)有與第三耦合器耦合電連接的第四耦合器。

用戶(hù)拿起杯體2而不需要拿起底座3的情況，一般是制漿完成后，用戶(hù)需要倒?jié){時(shí)會(huì)拿起杯體2，或者豆?jié){機(jī)長(zhǎng)時(shí)間未使用，在使用之前需要拿起杯體2進(jìn)行清洗等等。為了防止底座3在用戶(hù)拿起杯體2時(shí)被意外帶起，底座3設(shè)有用于使底座3附著在工作臺(tái)面上的輔助件4。

底座3上除了設(shè)置操作面板31，還包括杯體連接區(qū)域C，杯體連接區(qū)域C位于操作面板31的橫向一側(cè)，為了讓輔助件4能夠以較少的數(shù)量實(shí)現(xiàn)較好的附著能力，將輔助件4設(shè)置在杯體連接區(qū)域C的下方，使得工作臺(tái)面對(duì)輔助件4的作用力能夠更好地抵消第二耦合器對(duì)第一耦合器32的作用力。結(jié)合圖1看，杯體連接區(qū)域C即底座3的頂部設(shè)置的定位凸臺(tái)34所處的區(qū)域，杯體2連接在定位凸臺(tái)34上，并會(huì)將杯體連接區(qū)域C覆蓋。

而為了用戶(hù)更容易克服第一耦合器32與第二耦合器之間的摩擦力，杯體2的一側(cè)設(shè)置把手21，第二耦合器位于把手21的垂直下方，這樣用戶(hù)拿起杯體2的作用力可以經(jīng)過(guò)第二耦合器，避免形成力矩而增加無(wú)用功。

具體到采用何種輔助件4，可以有以下幾種實(shí)施例。

實(shí)施例一：

本實(shí)施例中的輔助件4為吸盤(pán)，吸盤(pán)一般可以采用硅膠等彈性較好的材料制成，吸盤(pán)安裝在底座3的底面。

在考慮吸盤(pán)的設(shè)置數(shù)量時(shí)，可以?xún)H設(shè)置一個(gè)吸盤(pán)，而最有效的設(shè)置位置是在第一耦合器32的中心所在的垂直方向上設(shè)有一個(gè)吸盤(pán)，如圖2所示。

而設(shè)置兩個(gè)以上（含兩個(gè)）的吸盤(pán)時(shí)，可以對(duì)吸盤(pán)的分布位置進(jìn)行設(shè)計(jì)來(lái)提高附著效果。具體是在底座3的外底面上以第一耦合器32的中心垂直投影為圓心作直徑15～40mm的圓形所覆蓋的區(qū)域?yàn)槲P(pán)分布區(qū)域A，吸盤(pán)設(shè)有至少兩個(gè)并位于吸盤(pán)分布區(qū)域A內(nèi)。上述圓形沒(méi)有完全覆蓋底座3的外底面，上述圓形也有部分是在底座3的外部，吸盤(pán)分布區(qū)域A是由上述圓形的一段圓弧與底座3的外側(cè)輪廓圍成的區(qū)域，如圖3所示，而吸盤(pán)分布區(qū)域A也是位于杯體連接區(qū)域C的下方，也沒(méi)有完全覆蓋杯體連接區(qū)域C垂直投影在底座3外底面上的區(qū)域?？梢岳斫獾?，在吸盤(pán)分布區(qū)域A內(nèi)的吸盤(pán)也可以不設(shè)置在第一耦合器32的中心所在的垂直方向上，而是在吸盤(pán)分布區(qū)域A內(nèi)規(guī)律分布，例如關(guān)于第一耦合器32的中心所在的垂直方向?qū)ΨQ(chēng)分布，如圖3所示；或者呈三角形分布（吸盤(pán)位于三角形的頂點(diǎn)），如圖4所示，或者而將其中一個(gè)吸盤(pán)設(shè)置在第一耦合器32的中心所在的垂直方向上，也是較好的方式，如圖5所示。

除了在吸盤(pán)分布區(qū)域A設(shè)置吸盤(pán)，當(dāng)然也可以在杯體連接區(qū)域C垂直投影在底座3的外底面上的區(qū)域內(nèi)分布，并且以對(duì)稱(chēng)分布為佳，對(duì)稱(chēng)是關(guān)于底座3外底面的中軸線M對(duì)稱(chēng)，如圖6至圖8所示。另外還可以將上述分布規(guī)律結(jié)合實(shí)施，如圖9所示。

而僅設(shè)置一個(gè)或兩個(gè)吸盤(pán)或者在吸盤(pán)分布區(qū)域A內(nèi)設(shè)置吸盤(pán)時(shí)，可能會(huì)出現(xiàn)底座3放置不平的情況，因此可以在底座3的外底面上設(shè)置凸筋，凸筋的高度與吸盤(pán)吸附后凸出底座3外底面的高度相等，使得底座3放置平穩(wěn)?？梢岳斫獾?，在底座3的整個(gè)外底面都可以設(shè)置吸盤(pán)，這樣也可以確保底座3依靠吸盤(pán)平穩(wěn)放置在工作臺(tái)面上，如圖10所示。

吸盤(pán)包括連接體41和圓盤(pán)42，見(jiàn)圖11，連接體41與底座3連接固定，為了確保吸盤(pán)的吸附力，圓盤(pán)42的外徑D為15～30mm，圓盤(pán)42的中心相對(duì)圓周凹陷距離H為2～6mm，圓盤(pán)42的厚度B為0.5～3mm。連接體41與底座3的連接方式可以采用卡扣方式、螺紋方式等等，本實(shí)施例中在連接體41的外側(cè)設(shè)置環(huán)形凹槽411，底座3上設(shè)置安裝孔，連接體41變形穿過(guò)安裝孔使底座3卡入環(huán)形凹槽411中實(shí)現(xiàn)過(guò)盈配合固定。

實(shí)施例二：

本實(shí)施例中的輔助件4為配重塊，配重塊固定在底座3內(nèi)或底座3的外底面，配重塊位于第一耦合器32的下方，自然也位于杯體連接區(qū)域C垂直投影在底座3外底面上的區(qū)域內(nèi)。如圖12所示，底座3的內(nèi)底面設(shè)有螺釘柱35，配重塊設(shè)有安裝通孔43，螺釘柱35插入安裝通孔43中，螺釘5伸入安裝通孔43與螺釘柱35連接將配重塊固定。相應(yīng)還可以在底座3的內(nèi)底面上設(shè)置定位筋36，配重塊的外側(cè)由定位筋36限位，有利于配重塊固定。配重塊能夠降低豆?jié){機(jī)使用時(shí)的重心，也有利于豆?jié){機(jī)工作時(shí)的穩(wěn)定性，減少振動(dòng)。

配重塊并非特指形狀為塊狀，根據(jù)配重塊的密度及底座內(nèi)的空間、形狀，配重塊的形狀可以是板狀、盤(pán)狀、塊狀或桿狀等等。

實(shí)施例三：

本實(shí)施例中的輔助件4為磁鐵，工作平臺(tái)上設(shè)有與輔助件4相吸的鐵磁體或磁鐵?？梢岳斫獾?，輔助件4也可以采用鐵磁體，工作平臺(tái)上設(shè)有與輔助件4相吸的磁鐵。鐵磁體一般是指鐵、鈷、鎳等金屬及合金制成的。

除上述優(yōu)選實(shí)施例外，本實(shí)用新型還有其他的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)本實(shí)用新型作出各種改變和變形，只要不脫離本實(shí)用新型的精神，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附權(quán)利要求所定義的范圍。