本實(shí)用新型涉及炊具領(lǐng)域，尤其是涉及一種均熱煎烤盤。

背景技術(shù)：

煎烤盤，用于加熱食物，多以加熱肉類為主。在人們生活中，烤肉、鐵板燒等食物已受大眾喜愛(ài)。而鐵板燒等制作的食物主要依靠煎烤盤來(lái)完成。在煎烤盤上放置肉類，對(duì)煎烤盤底部進(jìn)行加熱，以完成對(duì)鐵板燒食品的制作。但是在現(xiàn)有生活中，煎烤盤的加熱效果差，導(dǎo)熱不均勻，不利于煎烤，影響烤肉的口感。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型提供一種均熱煎烤盤，解決了在現(xiàn)有技術(shù)中的煎烤盤的加熱效果差，導(dǎo)熱不均勻的問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種均熱煎烤盤，包括：烤層，設(shè)有烤盤，用于盛放并加熱食物；導(dǎo)熱層，設(shè)置在烤層的底部，用于傳遞熱量到烤盤1上，其中導(dǎo)熱層設(shè)置有至少一均熱板；其中，至少一均熱板呈凹形狀，其四側(cè)均設(shè)有擋板，至少一均熱板與烤盤靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面形成至少一中空均熱腔體，烤盤靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面為平面，至少一均熱板遠(yuǎn)離烤層的一側(cè)面為凹凸面。

其中，至少一均熱板均勻設(shè)置有導(dǎo)熱棒。

其中，至少一均熱板設(shè)置有導(dǎo)熱板。

其中，烤盤呈凹形狀，烤盤的一側(cè)設(shè)有排油口。

其中，排油口的高度高于烤盤的底面。

其中，導(dǎo)熱層的底部設(shè)有烤盤支撐腳。

其中，烤盤支撐腳間隔設(shè)置在導(dǎo)熱層的底部的四側(cè)。

本實(shí)用新型所取得的有益效果是：本實(shí)用新型所公開(kāi)的一種均熱煎烤盤，包括：烤層，設(shè)有烤盤，用于盛放并加熱食物；導(dǎo)熱層，設(shè)置在烤層的底部，用于傳遞熱量到烤盤1上，其中導(dǎo)熱層設(shè)置有至少一均熱板；其中，至少一均熱板呈凹形狀，其四側(cè)均設(shè)有擋板，至少一均熱板與烤盤靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面形成至少一中空均熱腔體，烤盤靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面為平面，至少一均熱板遠(yuǎn)離烤層的一側(cè)面為凹凸面。通過(guò)上述方式，本實(shí)用新型的均熱煎烤盤的加熱效果好，且導(dǎo)熱均勻，有利于煎烤各種食物。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型一種均熱煎烤盤的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1中均熱煎烤盤的剖切結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是圖1中均熱煎烤盤的結(jié)構(gòu)爆炸圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型一種均熱煎烤盤的整體結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖1中均熱煎烤盤的剖切結(jié)構(gòu)示意圖，圖3是圖1中均熱煎烤盤的結(jié)構(gòu)爆炸圖。該均熱煎烤盤包括烤層和導(dǎo)熱層。

烤層設(shè)有烤盤1，用于盛放并加熱食物。在本實(shí)施例中，烤盤1呈凹形狀，即烤盤1的四側(cè)設(shè)有保護(hù)擋板。應(yīng)理解，烤盤1的材料為金屬材料，具體的，烤盤1的材料為鋁合金。

在本實(shí)施例中，烤盤1的一側(cè)設(shè)有排油口6。優(yōu)選地，排油口6的高度高于烤盤1的底面。應(yīng)理解，排油口6的高度設(shè)置成高于烤盤1的底面，以使得在烤盤1上煎烤食物時(shí)，避免了食用油從排油口6溢出的情況發(fā)生。設(shè)置排油口6，用于煎烤完食物后，將烤盤1內(nèi)的多余的食用油倒出，此時(shí)只需往該排油口6一側(cè)傾斜就可以將食用油倒出。

導(dǎo)熱層設(shè)置在烤層的底部，用于傳遞熱量到烤盤1上。其中導(dǎo)熱層設(shè)置有至少一均熱板2，也就是說(shuō)，均熱板2的數(shù)量有多個(gè)，可以為1個(gè)、2個(gè)或者更多，具體需要根據(jù)實(shí)際設(shè)計(jì)而定。其中，至少一均熱板2呈凹形狀，具體地，至少一均熱板2的四側(cè)均設(shè)有擋板4。

在本實(shí)施例中，至少一均熱板2與烤盤1靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面11形成至少一中空均熱腔體20。也就是說(shuō)，當(dāng)至少一均熱板2的數(shù)量為多個(gè)時(shí)，至少一均熱板2與烤盤1靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面11形成多個(gè)中空均熱腔體20。

在本實(shí)施例中，烤盤1靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面11為平面，通過(guò)此方式，烤盤1靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面11為平面，可以將導(dǎo)熱層的熱量均勻傳遞到烤盤1上，以對(duì)食物進(jìn)行均勻煎烤。應(yīng)理解，在其他實(shí)施例中，烤盤1靠近導(dǎo)熱層的一側(cè)面11包括第一側(cè)面和第二側(cè)面，第一側(cè)面用于煎烤食物，第二側(cè)面靠近導(dǎo)熱層，而為了提高煎烤效率，第一側(cè)面為平面，第二側(cè)面為凹凸面，這樣使得烤盤1的受熱面積增大，導(dǎo)熱效果更好。

至少一均熱板2遠(yuǎn)離烤層的一側(cè)面21為凹凸面，通過(guò)此方式，由于至少一均熱板2遠(yuǎn)離烤層的一側(cè)面21為受熱面，而將該受熱面積設(shè)計(jì)為凹凸面，可以使得均熱板2的受熱面積更加大。應(yīng)理解，至少一均熱板2遠(yuǎn)離烤層的一側(cè)面21包括第三側(cè)面和第四側(cè)面，第三側(cè)面靠近烤盤1，第四側(cè)面遠(yuǎn)離烤盤1，而為了提高導(dǎo)熱效果，第三側(cè)面可以為平面，也可以為凹凸面，第四側(cè)面可以為平面，也可以為凹凸面。

在本實(shí)施例中，至少一均熱板2內(nèi)均勻設(shè)置有導(dǎo)熱棒5，這樣能夠使得導(dǎo)熱層傳遞到烤盤1上的熱量更加均勻。當(dāng)然，在其他實(shí)施例中，至少一均熱板2設(shè)置有導(dǎo)熱板，這樣能夠使得導(dǎo)熱層傳遞到烤盤1上的熱量更加均勻。

優(yōu)選地，導(dǎo)熱層的底部設(shè)有烤盤支撐腳3。其中，烤盤支撐腳3間隔設(shè)置在導(dǎo)熱層的底部的四側(cè)。在本實(shí)施例中，烤盤支撐腳3用于支撐煎烤盤。

應(yīng)理解，本實(shí)用新型的均熱煎烤盤的加熱方式可以是電加熱，也可以是將煎烤盤放置在火焰上加熱，應(yīng)用范圍廣。不論采用何種方式，均能達(dá)到均勻加熱效果，具有較高的應(yīng)用價(jià)值。

綜上，本實(shí)用新型的均熱煎烤盤在給食物加熱時(shí)，對(duì)食物加熱均勻，使得食物受熱均勻，提高口感；傳遞熱量快，節(jié)省了加熱時(shí)間也節(jié)省了能源，具有較高的應(yīng)用價(jià)值。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施方式，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。