本申請(qǐng)涉及清潔，特別涉及一種清潔基站和清潔系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、清潔基站的設(shè)計(jì)正逐漸向集成化和智能化方向發(fā)展，以提高清潔效率和用戶體驗(yàn)。目前，清潔基站通常配備電動(dòng)驅(qū)動(dòng)模塊，這些模塊負(fù)責(zé)驅(qū)動(dòng)注水和排污組件，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化的注水和排污功能。

2、然而，這種電動(dòng)控制方式雖然實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)化，但是電動(dòng)驅(qū)動(dòng)模塊的整體造價(jià)偏高，且易存在用電安全及可靠性問題。此外，清潔基站需要同時(shí)滿足水電條件，限制了安裝位置的選擇，增加了安裝過程中的改裝成本和時(shí)間。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)的目的在于提供一種清潔基站和清潔系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)無電排污功能，降低成本，提高可靠性，削弱對(duì)安裝位置的限制。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)一方面提供一種清潔基站，所述清潔基站至少包括基站本體、用于承接清潔設(shè)備臟污的排污組件，其中，所述排污組件設(shè)于所述基站本體上，并至少部分凸出于所述基站本體的外表面，所述排污組件具有第一磁性件，所述第一磁性件靠近所述排污組件遠(yuǎn)離所述基站本體的一端；所述清潔設(shè)備向所述清潔基站移動(dòng)，并在所述清潔設(shè)備識(shí)別所述第一磁性件時(shí)，所述清潔設(shè)備的排污口與所述排污組件對(duì)接，以使得所述清潔設(shè)備通過所述排污組件排污。

3、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)另一方面還提供一種清潔系統(tǒng)，所述清潔系統(tǒng)包括清潔基站和清潔設(shè)備，其中，所述清潔基站至少包括基站本體、排污組件和預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)，所述排污組件設(shè)于所述基站本體上，并至少部分凸出于所述基站本體的外表面，所述排污組件具有第一磁性件，所述第一磁性件靠近所述排污組件遠(yuǎn)離所述基站本體的一端，所述預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)設(shè)于所述基站本體上；所述清潔設(shè)備上設(shè)有磁感應(yīng)裝置，所述清潔設(shè)備基于所述預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)按照第一規(guī)劃路徑向所述基站本體移動(dòng)，并在所述清潔設(shè)備通過所述磁感應(yīng)裝置識(shí)別所述第一磁性件時(shí)，所述清潔設(shè)備的排污口與所述排污組件對(duì)接，以使得所述清潔設(shè)備通過所述排污組件排污。

4、由此可見，本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案，清潔設(shè)備可以通過識(shí)別設(shè)于排污組件上第一磁性件判斷清潔設(shè)備是否通過移動(dòng)與排污組件完成對(duì)接，從而在清潔設(shè)備與排污組件對(duì)接后，清潔設(shè)備可以開啟其上的排污閥和/或排污泵將污水排放至排污組件上。如此，本申請(qǐng)可以僅依靠清潔設(shè)備的運(yùn)動(dòng)和控制，即可通過排污組件實(shí)現(xiàn)排污功能，清潔基站無需設(shè)置電動(dòng)驅(qū)動(dòng)模塊，進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)無電排污操作，降低成本，提高可靠性。同時(shí)，清潔基站也無需因水電接觸的安全隱患而額外增設(shè)水電分離設(shè)計(jì)，進(jìn)一步的降低制造成本。

5、并且，在安裝時(shí)，清潔基站的安裝位置只需滿足供水要求即可，無需同時(shí)滿足水電要求，從而進(jìn)一步削減對(duì)于安裝位置的限制，擴(kuò)大布置清潔基站的可選區(qū)域。

技術(shù)特征：

1.一種清潔基站，其特征在于，所述清潔基站至少包括基站本體和用于承接清潔設(shè)備臟污的排污組件，其中，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述清潔基站還包括預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔基站，其特征在于，所述清潔基站還包括注液組件；

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔基站，其特征在于，所述注液組件具有第二磁性件，所述第二磁性件靠近所述注液組件遠(yuǎn)離所述基站本體的一端；

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔基站，其特征在于，所述排污組件和所述注液組件位于所述清潔基站的同一側(cè)，所述第一規(guī)劃路徑與所述第二規(guī)劃路徑相同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔基站，其特征在于，在所述清潔設(shè)備基于所述預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)按照第一規(guī)劃路徑向所述基站本體移動(dòng)時(shí)，所述排污組件和所述注液組件同時(shí)與所述清潔設(shè)備對(duì)接，或者，所述注液組件先于所述排污組件與所述清潔設(shè)備對(duì)接。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔基站，其特征在于，在所述清潔設(shè)備基于所述預(yù)設(shè)標(biāo)識(shí)按照第一規(guī)劃路徑向所述基站本體移動(dòng)時(shí)，所述排污組件先于所述注液組件與所述清潔設(shè)備對(duì)接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔基站，其特征在于，所述排污組件包括具有伸縮回彈特性的接污件；

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔基站，其特征在于，所述注液組件還包括接入管、接出管和復(fù)位件；

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的清潔基站，其特征在于，所述注液組件還包括伸縮管件，其中，所述伸縮管件包括伸縮管部和注水頭部；

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的清潔基站，其特征在于，所述注液組件還包括固定套管和輔助伸縮管；

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的清潔基站，其特征在于，所述基站本體包括主體部和外延管部；

13.一種清潔系統(tǒng)，其特征在于，所述清潔系統(tǒng)包括清潔基站和清潔設(shè)備，其中，

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種清潔基站和清潔系統(tǒng)，該清潔基站至少包括基站本體和用于承接清潔設(shè)備臟污的排污組件，其中，所述排污組件設(shè)于所述基站本體上，并至少部分凸出于所述基站本體的外表面，所述排污組件具有第一磁性件，所述第一磁性件靠近所述排污組件遠(yuǎn)離所述基站本體的一端；所述清潔設(shè)備向所述清潔基站移動(dòng)，并在所述清潔設(shè)備識(shí)別所述第一磁性件時(shí)，所述清潔設(shè)備的排污口與所述排污組件對(duì)接，以使得所述清潔設(shè)備通過所述排污組件排污。本申請(qǐng)?zhí)峁┑募夹g(shù)方案，可以實(shí)現(xiàn)無電排污功能，降低成本，提高可靠性，削弱對(duì)安裝位置的限制。

技術(shù)研發(fā)人員：張申典,謝凱旋,李廣慶
受保護(hù)的技術(shù)使用者：科沃斯家用機(jī)器人有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2