本發(fā)明涉及清潔設(shè)備，具體涉及到一種等離子體模塊、清潔設(shè)備以及控制方法。

背景技術(shù)：

1、清潔設(shè)備常用于清潔日常用具，例如，洗碗機可用于清潔餐具。目前常用的清潔設(shè)備通常只具備清潔功能，然而，在實際使用過程中，用戶在清潔完用具后，通常會將用具存儲在清潔設(shè)備中，直至下一次使用，若存儲時間較長，會導(dǎo)致用具產(chǎn)生異味甚至滋生大量有害微生物。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供一種等離子體模塊、清潔設(shè)備以及控制方法，旨在于解決目前的清潔設(shè)備在長時間存儲時會產(chǎn)生異味的問題。

2、第一方面，本發(fā)明提供一種等離子體模塊，應(yīng)用于清潔設(shè)備，所述等離子體模塊包括介質(zhì)組件和放電組件；所述介質(zhì)組件用于形成放電區(qū)域；所述放電組件設(shè)于所述介質(zhì)組件的兩側(cè)，用于產(chǎn)生等離子體；其中，當(dāng)所述放電組件放電時，所述等離子體填充所述放電區(qū)域。

3、進一步地，所述放電組件包括第一導(dǎo)電件和第二導(dǎo)電件；所述第一導(dǎo)電件設(shè)于所述介質(zhì)組件的一側(cè)，所述第二導(dǎo)電件相對所述第一導(dǎo)電件設(shè)于所述介質(zhì)組件的另一側(cè)。

4、進一步地，所述第一導(dǎo)電件的一端與地極連接，所述第二導(dǎo)電件的一端與高壓極連接。

5、進一步地，所述第一導(dǎo)電件和所述第二導(dǎo)電件均為金屬網(wǎng)。

6、進一步地，所述介質(zhì)組件包括介質(zhì)件，所述介質(zhì)件的兩側(cè)設(shè)有所述放電組件。

7、進一步地，所述介質(zhì)件上間隔設(shè)有多個通孔。

8、進一步地，還包括骨架組件，所述骨架組件分別設(shè)于所述第一導(dǎo)電件的外側(cè)以及所述第二導(dǎo)電件的外側(cè)。

9、進一步地，所述骨架組件包括第一骨架攔截網(wǎng)和第二骨架攔截網(wǎng)，所述第一骨架攔截網(wǎng)設(shè)于所述第一導(dǎo)電件的外側(cè)，所述第二骨架攔截網(wǎng)設(shè)于所述第二導(dǎo)電件的外側(cè)。

10、第二方面，本發(fā)明提供一種清潔設(shè)備，所述清潔設(shè)備包括內(nèi)循環(huán)裝置，所述內(nèi)循環(huán)裝置包括風(fēng)機組件以及上述任一項所述的等離子體模塊。

11、第三方面，本發(fā)明提供一種控制方法，所述方法包括：

12、若檢測到所述清潔設(shè)備完成清潔任務(wù)，則獲取所述清潔設(shè)備內(nèi)的空氣濕度；

13、啟動所述內(nèi)循環(huán)裝置，并根據(jù)所述空氣濕度確認所述內(nèi)循環(huán)裝置的工作模式以使所述內(nèi)循環(huán)裝置對所述清潔設(shè)備內(nèi)的空氣進行清潔。

14、本發(fā)明公開了清潔設(shè)備及控制清潔設(shè)備的控制方法，清潔設(shè)備包括內(nèi)循環(huán)裝置，內(nèi)循環(huán)裝置包括風(fēng)機組件和等離子體模塊，等離子體模塊包括介質(zhì)組件和放電組件，放電組件位于介質(zhì)組件的兩側(cè)，當(dāng)清潔設(shè)備清潔完成時，內(nèi)循環(huán)裝置啟動，放電組件開始放電并產(chǎn)生等離子體，等離子體借由介質(zhì)組件上的介質(zhì)填充整個放電區(qū)域，同時，風(fēng)機組件驅(qū)動清潔設(shè)備內(nèi)的氣流流經(jīng)等離子體模塊，當(dāng)氣流經(jīng)過等離子體模塊時，氣流受到等離子體的作用，氣流中的有害物質(zhì)被去除，經(jīng)過處理后的氣流在循環(huán)后回到風(fēng)機組件處，并由風(fēng)機繼續(xù)吹向等離子體模塊，從而可以循環(huán)為氣流殺菌，避免清潔設(shè)備內(nèi)產(chǎn)生異味。

15、附圖說明

16、為了更清楚地說明本發(fā)明實施例技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

17、圖1是本發(fā)明一實施例提供的等離子體模塊的分解圖；

18、圖2是本發(fā)明一實施例提供的多個等離子體模塊的布局示意圖；

19、圖3是本發(fā)明一實施例提供的介質(zhì)件的結(jié)構(gòu)示意圖；

20、圖4是本發(fā)明一實施例提供的內(nèi)循環(huán)示意圖；

21、圖5是本發(fā)明一實施例提供的控制方法的流程圖；

技術(shù)特征：

1.一種等離子體模塊，其特征在于，應(yīng)用于清潔設(shè)備，所述等離子體模塊包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體模塊，其特征在于，所述放電組件包括第一導(dǎo)電件和第二導(dǎo)電件；

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體模塊，其特征在于，所述第一導(dǎo)電件的一端與地極連接，所述第二導(dǎo)電件的一端與高壓極連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體模塊，其特征在于，所述第一導(dǎo)電件和所述第二導(dǎo)電件均為金屬網(wǎng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體模塊，其特征在于，所述介質(zhì)組件包括介質(zhì)件，所述介質(zhì)件的兩側(cè)設(shè)有所述放電組件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體模塊，其特征在于，所述介質(zhì)件上間隔設(shè)有多個通孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體模塊，其特征在于，還包括骨架組件，所述骨架組件分別設(shè)于所述第一導(dǎo)電件的外側(cè)以及所述第二導(dǎo)電件的外側(cè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的等離子體模塊，其特征在于，所述骨架組件包括第一骨架攔截網(wǎng)和第二骨架攔截網(wǎng)，所述第一骨架攔截網(wǎng)設(shè)于所述第一導(dǎo)電件的外側(cè)，所述第二骨架攔截網(wǎng)設(shè)于所述第二導(dǎo)電件的外側(cè)。

9.一種清潔設(shè)備，其特征在于，所述清潔設(shè)備包括內(nèi)循環(huán)裝置，所述內(nèi)循環(huán)裝置包括風(fēng)機組件以及多個如權(quán)利要求1-8任一項所述的等離子體模塊；

10.一種控制方法，其特征在于，用于控制如權(quán)利要求9所述的清潔設(shè)備，所述方法包括：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種等離子體模塊、清潔設(shè)備以及控制方法，所述等離子體模塊包括介質(zhì)組件和放電組件；所述介質(zhì)組件用于形成放電區(qū)域；所述放電組件設(shè)于所述介質(zhì)組件的兩側(cè)，用于產(chǎn)生等離子體；其中，當(dāng)所述放電組件放電時，所述等離子體填充所述放電區(qū)域。本發(fā)明可以通過等離子體為清潔設(shè)備內(nèi)的氣流殺菌，避免清潔設(shè)備內(nèi)的用具產(chǎn)生異味。

技術(shù)研發(fā)人員：李澤民,馬明宇,張林峰,丘嘯雄,林泉鋒
受保護的技術(shù)使用者：珠海格力電器股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/30