本申請涉及清潔電器，尤其涉及一種清潔組件、清潔設備和清潔系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

1、隨著科技的不斷發(fā)展，越來越多的清潔設備被應用于家庭、酒店、辦公室、大型會議室等場所，以解放人們的雙手。

2、相關(guān)技術(shù)中，清潔設備的清潔能力較弱。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、有鑒于此，本申請實施例期望提供一種清潔組件、清潔設備和清潔系統(tǒng)，以增強清潔設備的清潔能力。

2、為達到上述目的，本申請實施例一方面提供一種清潔組件，包括：

3、安裝座，包括安裝盤和凸出部，所述凸出部在至少一個維度上凸出于所述安裝盤；

4、清潔件，設置于所述安裝座，所述清潔件至少部分覆蓋所述安裝盤和/或所述凸出部，沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影，所述凸出部的投影區(qū)域至少部分位于所述安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。

5、一實施例中，所述凸出部朝向所述清潔件的表面為目標面，所述目標面的面積大于所述凸出部沿預設方向投影的投影區(qū)域的面積，所述預設方向與上下方向交叉布置。

6、一實施例中，所述凸出部的數(shù)量為一個或多個，沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影，所有所述凸出部的投影區(qū)域的面積與所述清潔件的投影區(qū)域的面積之間的比值的范圍為0.1～0.8。

7、一實施例中，沿上下方向，所述凸出部的尺寸的范圍為2mm～5mm。

8、一實施例中，所述凸出部的數(shù)量為多個，多個凸出部沿所述安裝盤的周向間隔布置。

9、一實施例中，所述凸出部在厚度方向凸出于安裝盤，所述凸出部位于所述安裝盤和所述清潔件之間。

10、一實施例中，所述凸出部與所述安裝盤一體成型，所述清潔件連接于所述凸出部和所述安裝盤至少其中之一。

11、一實施例中，所述安裝盤形成有凹槽，所述凹槽位于所述安裝盤背離所述凸出部的一側(cè)，沿所述安裝盤和所述凸出部的方向投影，所述凹槽的投影區(qū)域位于所述凸出部的投影區(qū)域內(nèi)。

12、一實施例中，所述安裝盤包括相互連接的安裝盤本體和驅(qū)動件，所述凸出部與所述驅(qū)動件驅(qū)動連接，所述清潔件設置于所述安裝盤本體，所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述凸出部相對于安裝盤本體轉(zhuǎn)動。

13、一實施例中，所述凸出部連接于所述清潔件，所述凸出部與所述清潔件一體成型。

14、本申請第二方面提供一種清潔設備，包括：

15、清潔本體；

16、上述任一種的清潔組件，清潔組件安裝于清潔本體的底部。

17、本申請第三方面提供一種清潔系統(tǒng)，包括：

18、上述任一種的清潔設備；

19、基站，能夠與清潔設備電連接以使清潔設備充電。

20、本申請實施例的清潔組件中，安裝座包括安裝盤和凸出部，清潔件設置于安裝座，凸出部的投影區(qū)域至少部分位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。凸出部能夠減少在清潔過程中，清潔件與待清潔地面的接觸面積。在壓力一定的情況下，清潔件與待清潔表面之間的接觸面積減少，清潔件對待清潔表面施加的壓強增大，從而清潔件能夠較較為頑固的污漬從待清潔表面移除。本申請實施例能夠增強清潔組件的清潔能力。

技術(shù)特征：

1.一種清潔組件，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部朝向所述清潔件的表面為目標面，所述目標面的面積大于所述凸出部沿預設方向投影的投影區(qū)域的面積，所述預設方向與上下方向交叉布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部的數(shù)量為一個或多個，沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影，所有所述凸出部的投影區(qū)域的面積與所述清潔件的投影區(qū)域的面積之間的比值的范圍為0.1～0.8。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件，其特征在于，沿上下方向，所述凸出部的尺寸的范圍為2mm～5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部的數(shù)量為多個，多個凸出部沿所述安裝盤的周向間隔布置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部在厚度方向凸出于安裝盤，所述凸出部位于所述安裝盤和所述清潔件之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部與所述安裝盤一體成型，所述清潔件連接于所述凸出部和所述安裝盤至少其中之一。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔組件，其特征在于，所述安裝盤形成有凹槽，所述凹槽位于所述安裝盤背離所述凸出部的一側(cè)，沿所述安裝盤和所述凸出部的方向投影，所述凹槽的投影區(qū)域位于所述凸出部的投影區(qū)域內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項所述的清潔組件，其特征在于，所述安裝盤包括相互連接的安裝盤本體和驅(qū)動件，所述凸出部與所述驅(qū)動件驅(qū)動連接，所述清潔件設置于所述安裝盤本體，所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述凸出部相對于安裝盤本體轉(zhuǎn)動。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項所述的清潔組件，其特征在于，所述凸出部連接于所述清潔件，所述凸出部與所述清潔件一體成型。

11.一種清潔設備，其特征在于，包括：

12.一種清潔系統(tǒng)，其特征在于，包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┮环N清潔組件、清潔設備和清潔系統(tǒng)，涉及清潔電器技術(shù)領(lǐng)域。清潔組件包括清潔座和清潔件。安裝座包括相互連接的安裝盤和凸出部。清潔件設置于安裝座，凸出部位于安裝盤和清潔件之間，沿安裝盤和清潔件的排列方向投影，凸出部的投影區(qū)域至少部分位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。本申請的安裝座包括安裝盤和凸出部，清潔件設置于安裝座，凸出部的投影區(qū)域部分地位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。凸出部能夠減少在清潔過程中，清潔件與待清潔地面的接觸面積。在壓力一定的情況下，清潔件與待清潔表面之間的接觸面積減少，清潔件對待清潔表面施加的壓強增大，從而清潔件能夠較較為頑固的污漬從待清潔表面移除。本申請實施例能夠增強清潔組件的清潔能力。

技術(shù)研發(fā)人員：朱長鋒,黃勇亮,張洪源,徐建強,孫濤
受保護的技術(shù)使用者：美智縱橫科技有限責任公司
技術(shù)研發(fā)日：20240312
技術(shù)公布日：2025/1/9